本发明专利技术提供一种输送装置，用于轴瓦的输送和分离，包括：输送平台，包括第一输送通道，所述第一输送通道沿其输送方向等距设置有多个磁性吸附部；第一移载机构，所述第一移载机构包括第一移载杆和第一驱动装置，所述第一移载杆置于所述第一输送通道中且第一移载杆的长度方向上等距设置有多个磁吸块，所述磁吸块的数量与所述磁性吸附部的数量一致，且相邻所述磁吸块的距离与相邻所述磁性吸附部的距离相同，所述第一驱动装置驱动所述第一移载杆沿第一输送通道的输送方向作往复运动，且往复运动中的单向行程为相邻所述磁性吸附部间的距离。用于解决现有技术中轴瓦在输送过程中，轴瓦不能单独分离进行独立检测的问题。能单独分离进行独立检测的问题。能单独分离进行独立检测的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种输送装置
[0001]本专利技术涉及机械领域，特别是涉及一种输送装置。
技术介绍
[0002]目前，每个月轴瓦的产量极大，大概每月会有几百万的产量，由于轴瓦的特殊结构及用图，对其的精度要求也大，因此，在保证轴瓦的检测效率的情况下，在生产过程中对于轴瓦的检测显得尤其重要，当前轴瓦输送主要靠轴瓦自身向前推送，因此轴瓦均是挤压在一起，无法进行独立检测，因此需要一种对轴瓦进行分离，且分离后的轴瓦定位精度高便于检测机构检测的输送装置。
技术实现思路
[0003]鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种输送装置，用于解决现有技术中轴瓦在输送过程中，轴瓦不能单独分离以便进行独立检测的问题。
[0004]为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种输送装置，用于轴瓦的输送和分离，包括：输送平台，包括第一输送通道，所述第一输送通道沿其输送方向等距设置有多个磁性吸附部；第一移载机构，所述第一移载机构包括第一移载杆和第一驱动装置，所述第一移载杆置于所述第一输送通道中且第一移载杆的长度方向上等距设置有多个磁吸块，所述磁吸块的数量与所述磁性吸附部的数量一致，且相邻所述磁吸块的距离与相邻所述磁性吸附部的距离相同，所述第一驱动装置驱动所述第一移载杆沿第一输送通道的输送方向作往复运动，且往复运动中的单向行程为相邻所述磁性吸附部间的距离。
[0005]优选地，所述第一输送通道包括平行设置的两个支撑板，两个所述支撑板的相对面上具有一一对应的磁铁，两个对应的所述磁铁构成一个所述磁性吸附部。
[0006]优选地，所述第一移载机构还包括第一升降座，所述第一移载杆设置在升降座上，升降座与所述第一驱动装置相连，第一驱动装置驱动升降座沿第一输送通道的输送方向运动，升降座驱动所述第一移载杆作升降运动。
[0007]优选地，所述磁吸块的宽度与所述磁性吸附部中两个所述磁铁间的距离一致。
[0008]优选地，所述第一输送通道还包括至少一个与升降机构相连的调平板，所述调平板设置在所述磁性吸附部的正上方，且与水平面平行。
[0009]优选地，所述输送平台还包括第二输送通道，所述第二输送通道与所述第一输送通道垂直，所述第二输送通道沿其输送方向等距设置有多个支撑架，所述第二输送通道中设置有第二移载机构，所述第二移载机构包括第二移载杆和第二驱动装置，所述第二移载杆沿长度方向的等距设置有多个托架，所述托架的数量与所述支撑架的的数量一致，且相邻所述托架的距离与相邻所述支撑架的距离相同，所述第二驱动装置驱动所述第二移载杆沿第二输送通道的输送方向作往复运动，且往复运动中的单向行程为相邻所述支撑架间的距离。
[0010]优选地，所有所述支撑架在水平向上与所述第二移载错位设置，且均位于所述第
二移载杆的同一侧，所述托架具有伸至所述支撑架处的托杆；且所述第二移载杆设置在升降驱动座上，所述第二驱动装置驱动升降驱动座沿第二输送通道的输送方向作往复运动，所述升降驱动座驱动所述第二移载杆作升降运动。
[0011]优选地，所述支撑架包括两个平行设置的磁性支撑杆，所述托架具有两个所述托杆以及置于托架中的磁铁块，且两个托杆间的距离大于所述支撑架上两个磁性支撑杆间的距离。
[0012]优选地，所述输送装置还包括设置在第二输送通道一侧的踢料装置、以及设置在第二输送通道另一侧的输出装置，且输出装置具有与每个所述支撑架相对应的输出通道，所述踢料装置将支撑架上的轴瓦踢出至相对应的输出通道中。
[0013]优选地，所述输送装置还包括置于第一输送通道处且用于检测轴瓦质量的检测机构，检测机构与所述踢料装置信号相连。
[0014]优选地，所述踢料装置包括与每个所述支撑架对应设置的伸缩气缸，所述伸缩气缸与所述检测机构相连。
[0015]优选地，所述检测机构包括用于检测轴瓦的壁厚、漏油孔、漏油槽和定位唇的传感器组。
[0016]如上所述，本专利技术的一种输送装置，具有以下有益效果：
[0017]1)输送平台上的第一移载杆相对第一输送通道作往复运动，当第一移载杆沿与第一输送通道的输送方向相反的方向运动时，第一移载杆上位于前端的磁吸块吸附轴瓦，再控制第一移载杆沿与第一输送通道的输送方向相同的方向运动，此时，第一移载杆将吸附的轴瓦移动至第一输送通道位于前端的磁性吸附部处，轴瓦被暂置于位于前端的磁性吸附部上，再控制第一移载杆沿与第一输送通道的输送方向相反的方向运动，位于前端的磁吸块再次吸附下一块轴瓦，而处于前端第二位的磁吸块吸附被位于前端的磁性吸附部所吸附的轴瓦，控制第一移载杆与输送方向相同的方向运动，第一移载杆将被吸附的两块轴瓦向后输送一位(即向后移动至相邻的磁性吸附部处)，循环往复此过程，第一移载杆将输送过来堆叠的轴瓦分离后转运至第一输送通道中，且对应置于每个磁性吸附部处，实现对单个轴瓦的分离和定位输送；
[0018]2)通过在第一输送通道上设置检测机构，第一输送通道上的轴瓦均独立且定位在磁性吸附部处，因此可实现对单个轴瓦进行检测，并实现在后续工艺过程中，针对检测结果对单个轴瓦进行处理；
[0019]3)在输送平台上设置第二输送通道，第二输送通道与第一输送通道可垂直设置，实现对第一输送通道上轴瓦姿态的调整，在第一输送通道上，轴瓦半圆柱的端面垂直于第一输送通道的输送方向，经过转送至垂直的第二输送通道上，轴瓦半圆柱的端面平行于第二输送通道的输送方向，完成轴瓦姿态调整，调整完成后，轴瓦半圆柱的两个端面分别正对踢料装置和输送带，踢料装置踢料后，轴瓦半圆柱的端面正对输送带，轴瓦不会在输送带上出现滚动，影响输送过程。
附图说明
[0020]图1显示为本专利技术一种输送装置的输送平台的结构示意图。
[0021]图2显示为本专利技术一种输送装置的第一输送通道的结构示意图。
[0022]图3显示为本专利技术一种输送装置的第二输送通道的结构示意图。
[0023]图4显示为本专利技术一种输送装置第二输送通道中一组对应的托架和支撑架结构示意图。
[0024]图5显示为专利技术一种输送装置的第二输送装置中的托架结构示意图。
[0025]元件标号说明
[0026]1ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
输送平台
[0027]2ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
第一输送通道
[0028]201
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支撑板
[0029]202
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磁吸块
[0030]203
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第一移载杆
[0031]204
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第一驱动装置
[0032]205
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第一磁铁
[0033]206
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升降座
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种输送装置，用于轴瓦的输送和分离，其特征在于，包括：输送平台(1)，包括第一输送通道(2)，所述第一输送通道(2)沿其输送方向等距设置有多个磁性吸附部；第一移载机构，所述第一移载机构包括第一移载杆(203)和第一驱动装置(204)，所述第一移载杆(203)置于所述第一输送通道(2)中且第一移载杆(203)的长度方向上等距设置有多个磁吸块(202)，所述磁吸块(202)的数量与所述磁性吸附部的数量一致，且相邻所述磁吸块(202)的距离与相邻所述磁性吸附部的距离相同，所述第一驱动装置(204)驱动所述第一移载杆(203)沿第一输送通道(2)的输送方向作往复运动，且往复运动中的单向行程为相邻所述磁性吸附部间的距离。2.根据权利要求1所述的一种输送装置，其特征在于：所述第一输送通道(2)包括平行设置的两个支撑板(201)，两个所述支撑板(201)的相对面上具有一一对应的磁铁，两个对应的所述磁铁构成一个所述磁性吸附部。3.根据权利要求1或权利要求2所述的一种输送装置，其特征在于：所述第一移载机构还包括第一升降座206，所述第一移载杆(203)设置在升降座206上，升降座206与所述第一驱动装置(204)相连，第一驱动装置(204)驱动升降座206沿第一输送通道(2)的输送方向运动，升降座206驱动所述第一移载杆(203)作升降运动。4.根据权利要求3所述的一种输送装置，其特征在于：所述磁吸块(202)的宽度与所述磁性吸附部中两个所述磁铁间的距离一致。5.根据权利要求1所述的一种输送装置，其特征在于：所述第一输送通道(2)还包括至少一个与升降机构相连的调平板，所述调平板设置在所述磁性吸附部的正上方，且与水平面平行。6.根据权利要求1所述的一种输送装置，其特征在于：所述输送平台(1)还包括第二输送通道(3)，所述第二输送通道(3)与所述第一输送通道(2)垂直，所述第二输送通道(3)沿其输送方向等距设置有多个支撑架(301)，所述第二输送通道(3)中设置有第二移载机构，所述第二移载机构包括第二移载杆(304)和第二驱动装置(306)，所述第二移载杆(304...
【专利技术属性】
技术研发人员：石磊，沈莹峰，朱锋，
申请(专利权)人：上海菲特尔莫古轴瓦有限公司，
类型：发明
国别省市：
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