灌流培养CHO细胞制备抗CLDN18_2抗体的方法技术

技术编号:32429030 阅读:32 留言:0更新日期:2022-02-24 18:34
本发明专利技术提供了灌流培养CHO细胞制备抗CLDN18.2抗体的方法,包括:细胞复苏、种子细胞扩增、WAVE种子灌流扩增和反应器生产四个步骤。本发明专利技术通过灌流技术实现种子高密度培养,自主开发了灌流的培养基组成和灌流的工艺条件。同时,采用灌流技术实现种子高密度培养,用于单克隆抗体CLD18.2的生产工艺可节约设备投入,并且蛋白产量高,缩短了生产周期。缩短了生产周期。

【技术实现步骤摘要】
灌流培养CHO细胞制备抗CLDN18_2抗体的方法


[0001]本专利技术涉及生物医药
,具体涉及一种灌流培养CHO细胞制备抗体的方法。

技术介绍

[0002]生物制药行业发展迅速,截止到目前已有上百种抗体药物处于研发阶段或已上市。大部分的单克隆抗体都是由哺乳动物细胞表达,其研发和生产均在生物反应器中进行,最常见的工作体积规模从几升到几千升不等。以2000L规模为例,传统的生产过程包括:种子复苏

摇瓶扩增(N-X)

N-2扩增

N-1扩增

N生产(2000L搅拌反应器),扩增过程中需进行两级种子反应器的扩增,增加了车间的设计及设备成本,并带来了操作风险的隐患。
[0003]灌流培养法是近年来用于哺乳动物细胞培养生产分泌型重组治疗性药物如单克隆抗体、嵌合抗体及人源化抗体等基因工程抗体较为推崇的一种操作方式。灌流培养法是指把细胞和培养基一起加入反应器后,在细胞增长和产物形成过程中,不断地将部分条件培养基取出,同时又连续不断的灌注新的培养基。但由于哺乳动物细本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.灌流培养CHO细胞制备抗CLDN18.2抗体的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)细胞复苏:将CHO细胞解冻后转移到基础培养基1中,离心弃上清,再用基础培养基1将细胞重悬后,置于二氧化碳摇床中培养至活细胞密度达到(3~6)
×
106cells/ml时转移至下一级培养;(2)种子细胞扩增:将步骤(1)得到的细胞接种到基础培养基1中进行培养,当活细胞密度达到(3~6)
×
106cells/ml时转移至下一级培养;(3)WAVE种子灌流扩增:将步骤(2)得到的细胞接种到基础培养基2中,再置于WAVE反应器中培养,培养2~5天后换液,至最终活细胞密度为(80~120)
×
106cells/ml;(4)反应器生产:将步骤(3)得到的细胞接入生物反应器中培养并收获;所述CHO细胞能够表达抗CLDN18.2抗体。2.如权利要求1所述的制备抗体的方法,其特征在于,步骤(1)中所述的离心条件为200~300g下离心3~8min。3.如权利要求1所述的制备抗体的方法,其特征在于,步骤(1)中所述的基础培养基1为ActiPro。4.如权利要求1所述的制备抗体的方法,其特征在于,步骤(1)中所述的二氧化碳摇床的培养条件为36.5
±

【专利技术属性】
技术研发人员:陈庆财顾长龙徐传学孙振鹏文勇王玉伟
申请(专利权)人:江苏奥赛康药业有限公司
类型:发明
国别省市:

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