一种双面镀膜设备制造技术

技术编号:32419908 阅读:21 留言:0更新日期:2022-02-24 13:29
一种双面镀膜设备,属于半导体制备领域。镀膜设备具有镀膜室,镀膜室内具有第一加工部以及第二加工部,第一加工部以及第二加工部间隔布置形成用于容置柔性基材的间隙,第一加工部具有沿间隙的延伸方向间隔布置的多个第一加工区,每个第一加工区用于在柔性基材的第一表面形成第一膜层,第二加工部具有沿间隙的延伸方向间隔布置的多个第二加工区,每个第二加工区用于在柔性基材的第二表面形成第一膜层,第一加工区与第二加工区的正投影沿间隙的延伸方向依次交错布置。通过上述第一加工区与第二加工区的配合以及柔性基材的移动,可实现多个柔性基材顺次沿一定的速度移动,实现连续对每个柔性基材进行双面交错镀膜的流水线作业,有效提高加工效率。有效提高加工效率。有效提高加工效率。

【技术实现步骤摘要】
一种双面镀膜设备


[0001]本申请涉及半导体制备领域,具体而言,涉及一种双面镀膜设备。

技术介绍

[0002]柔性基材双面镀膜容易造成薄膜品质下降、薄膜曲翘、甚至薄膜龟裂等问题。
[0003]透明导电氧化物薄膜(TCO)因其优异的光电性能在装饰镀膜、low

E玻璃、平板显示、发光二极管、光电探测、光电通信、太阳电池等泛光电半导领域得到了广泛应用,以TCO为例,其常用的制备方法:物理沉积法,如磁控溅射法、热蒸镀法、离子镀法、激光辅助沉积法;化学沉积法,如喷雾热解法、化学气相沉积法、原子层沉积法、刮涂法等,均会一定程度产生上述问题。
[0004]由于磁控溅射技术因其成熟的工业化应用和优异的成本优势在诸多技术中脱颖而出,已成为当下TCO薄膜制备的首选方案,因此以磁控溅射技术为例,通常为了解决上述技术问题采用的常用手段为改变制备条件,例如改变工艺气体、等离子体的功率密度、压力、温度等,以及辅助阳极、特殊磁场设计、载具结构等等。但是,上述方案并未取得很好的效果,柔性双面镀膜技术依然是产业化生产的难题之一。
[0005]有鉴于此,特此提出本申请。

技术实现思路

[0006]本申请提供的双面镀膜设备,其操作方便,使用其进行柔性材料双面镀膜时,不仅有效提高加工效率,同时还能缓解柔性基材双面镀膜容易造成获得的薄膜品质下降、曲翘、甚至龟裂等问题。
[0007]本申请的实施例是这样实现的:
[0008]本申请提供了一种双面镀膜设备,其镀膜室内具有第一加工部以及第二加工部,第一加工部以及第二加工部间隔布置形成用于容置柔性基材的间隙,柔性基材能够沿间隙的延伸方向移动。
[0009]柔性基材具有沿其厚度方向相对设置第一表面以及第二表面,第一加工部具有沿间隙的延伸方向间隔布置的多个第一加工区,每个第一加工区用于在第一表面形成第一膜层,第二加工部具有沿间隙的延伸方向间隔布置的多个第二加工区,每个第二加工区用于在第二表面形成第二膜层,第一加工区与第二加工区的正投影沿间隙的延伸方向依次交错布置。
[0010]使用双面镀膜设备对柔性材料进行双面镀膜时,可通过上述第一加工区与第二加工区的配合以及柔性基材的移动,实现第一膜层和第二膜层时间上交错形成的目的,可缓解柔性基材双面镀膜容易造成薄膜品质下降、薄膜曲翘、甚至薄膜龟裂等问题,同时上述第一加工部以及第二加工部的具体布置可实现多个柔性基材沿预设速度沿镀膜室的轴向依次按照一定的速度移动,实现连续对每个柔性基材进行双面镀膜的流水线作业,有效提高加工效率。
[0011]在一些可选地实施例中,每个第一加工部以及每个第二加工部均设有射频磁控溅射源。
[0012]也即是,通过射频磁控溅射源的开启以及关闭,采用射频磁控溅射的方式加工第一膜层和第二膜层。
[0013]在一些可选地实施例中,多个第一加工区等距间隔布置。
[0014]在一些可选地实施例中,多个第二加工部等距间隔布置。
[0015]通过上述等距间隔的布置方式,在喷溅条件、移动速度不变的前提下,可通过等距间隔的方式控制喷溅条件厚度,操作方便。
[0016]在一些可选地实施例中,所述双面镀膜设备还包括进料室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、出料室以及真空阀门,其中,所述进料室、所述前缓冲室、所述镀膜室、所述后缓冲室以及所述出料室沿所述间隙延伸方向依次经所述真空阀门连接。
[0017]通过上述设置可根据需求开启或关闭真空阀门,使得相邻的两个室,例如前缓冲室与镀膜室连通,使经前缓冲室缓冲处理的柔性薄膜直接进入镀膜室内,加工效率高。
[0018]在一些可选地实施例中,镀膜室呈柱状,间隙的延伸方向与镀膜室的轴向重合。
[0019]双面镀膜设备包括设置于镀膜室内的传输机构,传输机构用于传输柔性基材沿间隙的延伸方向前进。
[0020]在一些可选地实施例中,双面镀膜设备包括用于固定柔性基材的载具,载具与传输机构可拆卸连接。
[0021]通过载具与传输机构的连接,将柔性基材固定在传输机构上,使其能够随着传输机构运行。
[0022]在一些可选地实施例中,载具在镀膜室内水平布置或竖向布置。
[0023]上述载具的设置方式,使得柔性基材可以水平布置或竖向布置,本领域技术人员可根据实际的需求进行选择,在此不做限定。
[0024]在一些可选地实施例中,载具具有镂空区以及用于支撑柔性基材的支撑区,镂空区的面积大于柔性基材的面积的95%,支撑区的面积小于柔性基材的面积的3%。
[0025]通过上述设置,在平稳支撑柔性基材的同时,尽可能增大镂空区的面积,使被镂空区暴露的柔性基材的面积尽可能较大,以进行双面镀膜,提高柔性基材的利用率。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0027]图1为向下弯曲的柔性基材在第一表面形成第一层第一膜层的流程示意图;
[0028]图2为向上弯曲的柔性基材在第一表面形成第一层第一膜层的流程示意图;
[0029]图3为双面镀膜设备的结构示意图;
[0030]图4为SHJ太阳电池的结构示意图。
[0031]图标:1

柔性基材;2

第一膜层;3

载具;10

双面镀膜设备;100

进料室;110

前缓冲室;120

镀膜室;121

第一加工部;1211

第一加工区;123

第二加工部;1231

第二加工
区;124

间隙;125

后缓冲室;126

出料室;127

真空阀门;20

SHJ太阳电池;201

n型单晶硅片;202

第一本征非晶硅薄膜;203

第二本征非晶硅薄膜;204

p型掺杂硅薄膜;205

n型掺杂非晶硅薄膜;206

第一TCO薄膜;207

第二TCO薄膜;208

银栅线电极。
具体实施方式
[0032]下面将结合实施例对本申请的实施方案进行详细描述,但是本领域技术人员将会理解,下列实施例仅用于说明本申请,而不应视为限制本申请的范围。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
[0033]经申请人研究发现,造本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面镀膜设备,其特征在于,所述镀膜设备具有镀膜室,所述镀膜室内具有第一加工部以及第二加工部,所述第一加工部以及第二加工部间隔布置形成用于容置柔性基材的间隙,所述柔性基材能够沿所述间隙的延伸方向移动;所述柔性基材具有沿其厚度方向相对设置的第一表面以及第二表面,所述第一加工部具有沿所述间隙的延伸方向间隔布置的多个第一加工区,每个第一加工区用于在所述第一表面形成第一膜层,所述第二加工部具有沿所述间隙的延伸方向间隔布置的多个第二加工区,每个第二加工区用于在所述第二表面形成第二膜层,所述第一加工区与所述第二加工区的正投影沿所述间隙的延伸方向依次交错布置。2.根据权利要求1所述的双面镀膜设备,其特征在于,每个所述第一加工部以及每个所述第二加工部均设有射频磁控溅射源。3.根据权利要求1所述的双面镀膜设备,其特征在于,所述多个第一加工区等距间隔布置。4.根据权利要求1所述的双面镀膜设备,其特征在于,所述多个第二加工部等距间隔布置。5.根据权利要求1所述的双面镀膜设备,其特征在于,所述双...

【专利技术属性】
技术研发人员:石建华袁强张海川孟凡英程琼刘正新周华
申请(专利权)人:中威新能源成都有限公司
类型:新型
国别省市:

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