一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备技术方案

本实用新型专利技术公开了一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备，一体式水冷系统包括外箱体、设置在外箱体内的第一子箱体内的激光发生器、设置在外箱体内的第二子箱体内的水冷装置；第一子箱体内还设有第一水路管道；第二子箱体的箱壁上设有第二进水接口、第二出水接口，水冷装置的第二水路管道的出口与第二出水接口连接，第二水路管道的入口与第二进水接口连接；第一进水接口与第二出水接口连通，第一出水接口与第二进水接口连通，进而第一子箱体内的第一水路管道与水冷装置的第二水路管道形成第一循环水路。本实用新型专利技术在保证激光标刻设备能够在高热环境下正常运行的前提下，将水冷装置与激光模块集于一体，降低了成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备


[0001]本技术涉及激光技术应用设备的冷却保护
，尤其涉及一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备。

技术介绍

[0002]随着冶金行业的标刻需求不断增加，激光标刻应运而生，其具有标记速度快、运行成本低、无污染等特点。但是，在激光标刻过程中急需解决的问题是高热环境对激光器和相关设备的影响。
[0003]目前，为降低高热环境的影响，往往在激光器光源位置处安装冷却装置，即安装水冷套、热管散热器、风冷散热器，但是普通的水冷散热器需要有冷却水循环流通系统，对于分体式标刻系统而言，就需要进行复杂的水冷散热器回路设计，或者是分别设计循环水系统，这样就会出现设计和配套繁琐的问题，同时增加了成本。
[0004]因此，现在需要一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备。

技术实现思路

[0005]为了解决现有技术的问题，本技术提供了一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统及激光标刻设备，技术方案如下：
[0006]一方面，本技术提供了一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统，包括外箱体、激光发生器、水冷装置，所述水冷装置包括水泵、水冷块、换热器、散热风扇，所述激光发生器设置在所述外箱体内的第一子箱体内，所述水冷装置设置在所述外箱体内的第二子箱体内，所述第二子箱体设有隔热层；
[0007]所述第一子箱体内还设有第一水路管道，其两端分别与开设在第一子箱体箱壁上的第一进水接口和第一出水接口连接；所述第二子箱体的箱壁上设有第二进水接口、第二出水接口，所述水冷装置的第二水路管道的出口与所述第二出水接口连接，第二水路管道的入口与所述第二进水接口连接；
[0008]所述第一进水接口与所述第二出水接口连通，所述第一出水接口与第二进水接口连通，进而所述第一子箱体内的第一水路管道与所述水冷装置的第二水路管道形成第一循环水路；
[0009]所述第二子箱体的箱壁上还设有与外箱体外部连通的排风口，用于排出所述第二子箱体中的气流。
[0010]进一步地，所述换热器设置在与所述排风口相对的区域，所述散热风扇设置在与所述换热器相对的区域。
[0011]优选地，所述外箱体也设有隔热层。
[0012]进一步地，所述激光发生器内置有用于支撑激光发生器的激光发生器本体的机台，所述第一水路管道设置在机台内。
[0013]优选地，所述外箱体底部设有多个滑轮。
[0014]另一方面，本技术提供了一具有一体式水冷系统的激光标刻设备，包括振镜、场镜及如上文所述的一体式水冷系统；所述激光发生器向所述振镜发射激光，所述振镜用于反射激光使其到达场镜，所述场镜用于使透过其的激光聚焦。
[0015]进一步地，所述振镜、场镜设置在第一保护壳内，所述第一保护壳内设有第三水路管道，所述第三水路管道由导热材料制成；
[0016]所述第一保护壳的侧壁上设有第三进水接口、第三出水接口，所述第三水路管道依次在所述第一保护壳的多个内侧壁上延伸，且其两端分别与所述第三进水接口、第三出水接口连接。
[0017]进一步地，所述水冷装置还包括第四水路管道，所述第二子箱体的箱壁上设有第四进水接口、第四出水接口，所述第四水路管道的出口与所述第四出水接口连接，所述第四水路管道的入口与所述第四进水接口连接；
[0018]所述第四进水接口与第三出水接口连通，所述第四出水接口与第三进水接口连通，进而所述第一保护壳内的第三水路管道与所述水冷装置的第四水路管道形成第二循环水路。
[0019]进一步地，所述第一保护壳设置在外箱体外部，所述第四进水接口与第三出水接口通过延长水管连接，所述第四出水接口与第三进水接口通过延长水管连接；
[0020]所述第一保护壳内的第三水路管道与所述水冷装置的第四水路管道形成的第二循环水路为常温水路；
[0021]所述第一子箱体内的第一水路管道与所述水冷装置的第二水路管道形成的第一循环水路为冷却水路。
[0022]进一步地，所述激光发生器的输出端通过光纤连接激光接头，所述激光标刻设备还包括准直器，其输入端与激光接头连接，其输出端将整形后的激光发射至所述振镜；所述准直器设置在第二保护壳内，且通过安装接头安装在所述第一保护壳的外壁处；
[0023]所述激光接头上设有两个冷却接口及其之间的子冷却水路，所述准直器的安装接头上设有两个冷却接口及其之间的子冷却水路，所述场镜处设置有两个冷却接口及其之间的子冷却水路，所述激光接头、准直器的安装接头、场镜处各自的冷却接口及所述第一保护壳上的第三进水接口、第三出水接口与所述第二子箱体的箱壁上的第四进水接口、第四出水接口非定向顺序连接，以使所述激光接头、准直器的安装接头、场镜处各自的子冷却水路、第三水路管道、水冷装置的第四水路管道处于同一循环水路中。
[0024]优选地，所述水冷装置的制冷功率最大值到达2000W，所述激光发生器的工作功率最大值为2000W。
[0025]本技术提供的技术方案带来的有益效果为：在保证激光标刻设备能够在高热环境下正常运行的前提下，将水冷装置与激光模块集于一体，一体式的水冷系统大大降低了成本，同时，使用起来更加便捷。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，
还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0027]图1为本技术实施例提供的激光标刻设备的工作原理图；
[0028]图2为本技术实施例提供的激光标刻设备的结构示意图；
[0029]图3为图2的后视图；
[0030]图4为本技术实施例提供的激光标刻设备的第一局部结构示意图；
[0031]图5为本技术实施例提供的激光标刻设备的第二局部结构示意图；
[0032]图6为本技术实施例提供的激光标刻设备的第三局部结构示意图；
[0033]图7为图6的正视图；
[0034]图8为本技术实施例提供的激光标刻机的工作原理图。
[0035]其中，附图标记包括：1
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外箱体，2
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激光发生器，3
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水冷装置，41
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第一进水接口，42
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第一出水接口，43
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第二进水接口，44
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第二出水接口，45
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第三进水接口，46
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第三出水接口，47
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第四进水接口，48
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第四出水接口，51
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第一保护壳，52
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第二保护壳，6
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第三水路管道，71
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激光接头，72
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于激光标刻设备的一体式水冷系统，包括外箱体(1)、激光发生器(2)、水冷装置(3)，所述水冷装置(3)包括水泵、水冷块、换热器、散热风扇，其特征在于，所述激光发生器(2)设置在所述外箱体(1)内的第一子箱体内，所述水冷装置(3)设置在所述外箱体(1)内的第二子箱体内，所述第二子箱体设有隔热层；所述第一子箱体内还设有第一水路管道，其两端分别与开设在第一子箱体箱壁上的第一进水接口(41)和第一出水接口(42)连接；所述第二子箱体的箱壁上设有第二进水接口(43)、第二出水接口(44)，所述水冷装置(3)的第二水路管道的出口与所述第二出水接口(44)连接，第二水路管道的入口与所述第二进水接口(43)连接；所述第一进水接口(41)与所述第二出水接口(44)连通，所述第一出水接口(42)与第二进水接口(43)连通，进而所述第一子箱体内的第一水路管道与所述水冷装置(3)的第二水路管道形成第一循环水路；所述第二子箱体的箱壁上还设有与外箱体(1)外部连通的排风口，用于排出所述第二子箱体中的气流。2.根据权利要求1所述的用于激光标刻设备的一体式水冷系统，其特征在于，所述换热器设置在与所述排风口相对的区域，所述散热风扇设置在与所述换热器相对的区域。3.根据权利要求1所述的用于激光标刻设备的一体式水冷系统，其特征在于，所述外箱体(1)也设有隔热层。4.根据权利要求1所述的用于激光标刻设备的一体式水冷系统，其特征在于，所述激光发生器(2)内置有用于支撑激光发生器(2)的激光发生器本体的机台，所述第一水路管道设置在机台内。5.根据权利要求1所述的用于激光标刻设备的一体式水冷系统，其特征在于，所述外箱体(1)底部设有多个滑轮(12)。6.一种具有一体式水冷系统的激光标刻设备，其特征在于，包括振镜、场镜及如权利要求1
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5中任一项所述的一体式水冷系统；所述激光发生器(2)向所述振镜发射激光，所述振镜用于反射激光使其到达场镜，所述场镜用于使透过其的激光聚焦。7.根据权利要求6所述的激光标刻设备，其特征在于，所述振镜、场镜设置在第一保护壳(51)内，所述第一保护壳(51)内设有第三水路管道(6)，所述第三水路管道(6)由导热材料制成；所述第一保护壳(51)的侧壁上设有第三进水接口(45)、第三出水接口(46)，所述第三水路管道(6)依次在所述第一保护壳(51)的多个内侧壁上延伸，且其两端分别与...

【专利技术属性】
技术研发人员：马鑫，马刚，马钰添，
申请(专利权)人：苏州市瑞思特智能制造有限公司，
类型：新型
国别省市：