CMOS图像传感器及其制造方法技术

技术编号:3238233 阅读:149 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种CMOS图像传感器及其制造方法,其有源器件(例如,光电二极管)具有改善的光接收效率。该CMOS图像传感器包括:至少一个光电二极管,设置在半导体衬底上;以及微透镜,布置在每个光电二极管之上,其中,微透镜由表现出优异的透射率的聚合物形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种图像传感器,更具体地,涉及一种具有改善的光接收效率的CMOS图像传感器及其制造方法
技术介绍
图像传感器是用于将光学图像转换成电信号的半导体器件,包括电荷耦合器件和互补金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器。一般的电荷耦合器件包括光电二极管阵列,用于将光信号转换成电信号;多个垂直电荷耦合器件,形成在矩阵型结构排列的各个垂直光电二极管之间,并且垂直传送每个光电二极管所产生的电荷;水平电荷耦合器件,用于水平传送由每个垂直电荷耦合器件传送的电荷;以及读出放大器,用于读出并且输出水平传送的电荷。电荷耦合器件不足之处在于驱动方法复杂、功率消耗大、以及制造工艺复杂(需要多阶段的光学工艺(multi-phased photo-process))。此外,难以将诸如控制电路、信号处理器、以及模拟-数字转换器的辅助电路集成到单芯片电荷耦合器件中,因此,阻碍了使用这种图像传感器的产品的微型化发展。另一方面,CMOS图像传感器采用了将调节电路和信号处理电路用作外围电路的CMOS技术,并且采用了开关技术(switchingtechnology),允许通过排列的各像素使用MOS晶体管来检本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种CMOS图像传感器,包括:至少一个光电二极管,设置在半导体衬底上;以及微透镜,布置在所述至少一个光电二极管中的每个光电二极管之上,其中,所述微透镜由聚合物材料形成。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:高宽柱
申请(专利权)人:东部亚南半导体株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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