【技术实现步骤摘要】
超精密位置探测光电信号数据拟合方法及其装置
[0001]本专利技术涉及微纳米加工装备
，特别涉及一种超精密位置探测光电信号数据拟合方法及其装置。
技术介绍
[0002]在微纳米加工装备
，原材料在进行加工前，与模具之间的位置对准精度是其实现高精度加工的先决条件，而进行位置对准前又必须对位置标记进行精确探测。因此，有必要研究一种适用于微纳米加工领域的超精密位置探测技术。
[0003]采用光栅标记方法进行超精密传感系统位置探测的工作原理为：在进行位置探测时，照明光束扫描光栅标记，发生衍射现象，多级衍射光携带包含光栅标记结构的位置信息，对其聚焦后由光电探测器进行光电转换，数据采集器对光电转换后的光电信号进行数字化采样获取光强数据，双频激光干涉仪同步获取扫描位移数据，以光强数据作为纵坐标，扫描位移数据作为横坐标，对以上两类数据进行余弦拟合，即可求解超精密传感系统的位置信息。数据拟合的方法是位置探测精准度和实时性的重要因素。
[0004]特别是在IC装备
，为遵循摩尔定律的发展规律，集成电路制造的工艺...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超精密位置探测光电信号数据拟合方法，其特征在于，包括如下步骤：根据采样点数构建傅里叶矩阵；根据光信号的衍射级次筛选所述傅里叶矩阵对应的行向量，构建m行n列傅里叶子矩阵T；将所述傅里叶子矩阵T左乘光电信号采样点列向量B，进而得到各衍射级次拟合数学模型的系数；将所述拟合数学模型的系数代入拟合数学模型中完成对准位置解算。2.如权利要求1所述的超精密位置探测光电信号数据拟合方法，其特征在于，拟合数学模型满足如下公式：模型满足如下公式：其中，x0表示为对准位置信息，I(x)表示为光强信息，dc表示为直流偏置分量，A表示为信号幅度系数，m表示为衍射级次，x表示为双频激光干涉仪获取的对准扫描位移信息，p表示为光栅对准标记周期长度。3.如权利要求...
【专利技术属性】
技术研发人员：李璟，丁敏侠，马会娟，杨光华，周成龙，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：
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