一种无光釉料及无光釉面的制备方法技术

本发明专利技术提供一种无光釉料及无光釉面的制备方法，所述无光釉料包括：无光干粒釉、纳米碳和主体釉；所述无光干粒釉的组分包括：氧化锌、三氧化二铝、氧化钡、二氧化硅和二氧化锆；所述主体釉包括氧化锌、碳酸钡、氧化硼、滑石粉、硼砂、氧化硅和氧化铝。所述无光釉面的制备方法通过乙烯基硅烷在无光干粒釉表面形成有机层，减少了无光干粒釉对主体釉的影响，在烧成过程中能够保持无光干粒釉的微晶和均匀的主体釉面，纳米碳的形成能够吸收大量光，与微晶的漫反射互相配合，降低了光反射的情况。降低了光反射的情况。

【技术实现步骤摘要】
一种无光釉料及无光釉面的制备方法


[0001]本专利技术涉及陶瓷釉料
，尤其涉及一种无光釉料及无光釉面的制备方法。

技术介绍

[0002]釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层。时下比较流行的家用瓷砖尤其是地砖，都是反光度很高的抛釉砖，白天阳光比较好，或者晚上开灯的时候，由于瓷砖光泽度较高，使室内存在较强的光污染问题。因此，为了减少光污染的问题，人们专利技术了柔光瓷砖。但常见非仿古砖类的柔光砖，一般其光泽度只能达到30
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40度左右，依旧存在一定的光污染问题。
[0003]CN109095769A公开了一种无光釉料及其制备方法与应用，通过对无光釉料配方的改进，可以在不影响防污性能及质感的情况下，提高表面釉料的施釉量，保障柔光瓷砖经过抛光处理后，容易达到12度以下光泽度，在灯光照射下，肉眼看去，基本实现无反光效果，但哑光效果仍然较差。
[0004]CN107721177A公开了一种无光釉料，在熟滑石、石英、钾石中加入适量的铝粉，能产生无光泽度的金属铝氧化物，制得无光釉料，可以有效降低无光釉料的生产成本；但无光釉料的光泽度仍然较高。
[0005]综上所述，还需开发一种新的无光釉料，进一步提升哑光效果。

技术实现思路

[0006]为解决上述技术问题，本专利技术提供一种无光釉料及无光釉面的制备方法，所述无光釉料组合无光干粒釉和纳米碳，通过纳米碳的吸收作用、无光干粒釉的漫反射作用以及纳米碳的二次吸收作用，大大提升了釉面的哑光效果。
[0007]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0008]第一方面，本专利技术提供一种无光釉料，所述无光釉料包括：无光干粒釉、纳米碳和主体釉；
[0009]所述无光干粒釉的组分包括：氧化锌、三氧化二铝、氧化钡、二氧化硅和二氧化锆；
[0010]所述主体釉包括氧化锌、碳酸钡、氧化硼、滑石粉、硼砂、氧化硅和氧化铝。
[0011]本专利技术提供的无光釉料最终形成釉面时纳米碳附着在无光干粒釉的微晶上，并均匀分布在主体釉中，由于纳米碳的附着，降低了无光干粒釉对主体釉本身的颜色等的影响；最终釉面中由于材质并不相同，当光照射至釉面时80％以上的光透过直至遇到微晶，少量形成漫反射，大量被吸收；当光照射至表面的纳米碳上时，95％以上的光被吸收；当光照射至微晶上时，大部分光被吸收，而且微晶上漫反射的光又再次遇到纳米碳被二次吸收，整体显著提升了哑光效果，减少了光污染。
[0012]本专利技术主体釉的组成选用上述配比，该配比为低温釉，先在较低温度下熔化后能够对纳米碳形成包裹关系，从而可有效防止纳米碳的氧化。而无光干粒釉的组成选择能够更好地提高干粒釉的吸光效果。
[0013]作为本专利技术优选地技术方案，所述无光干粒釉的组成按质量份数包括：
[0014][0015]本专利技术进一步优选上述组分的配合关系，从而能够提高无光干粒釉的吸光效果。
[0016]本专利技术的无光干粒釉的组成包括氧化锌2～8份，例如可以是2份、2.7份、3.4份、4份、4.7份、5.4份、6份、6.7份、7.4份或8份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0017]三氧化二铝27～31份，例如可以是27份、27.5份、27.9份、28.4份、28.8份、29.3份、29.7份、30.2份、30.6份或31份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0018]氧化钡11～15份，例如可以是11份、11.5份、11.9份、12.4份、12.8份、13.3份、13.7份、14.2份、14.6份或15份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0019]二氧化硅40～47份，例如可以是40份、40.8份、41.6份、42.4份、43.2份、43.9份、44.7份、45.5份、46.3份或47份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0020]二氧化锆0.01～5份，例如可以是0.01份、0.57份、1.12份、1.68份、2.23份、2.79份、3.34份、3.9份、4.45份或5份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0021]优选地，所述主体釉的组成按质量分数包括：
[0022][0023][0024]本专利技术主体釉的质量份数选用上述配比，可有效保障700℃以下即可完成烧成，从
而可更有效防止纳米碳的氧化。
[0025]本专利技术主体釉包括氧化锌2～30份，例如可以是2份、2.5份、3份、5份、6份、8份、10份、12份、15份、20份、25份或30份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0026]碳酸钡1～2.5份，例如可以是1份、1.2份、1.4份、1.5份、1.7份、1.9份、2份、2.2份、2.4份或2.5份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0027]氧化硼1～4份，例如可以是1份、1.4份、1.7份、2份、2.4份、2.7份、3份、3.4份、3.7份或4份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0028]滑石粉2～8份，例如可以是2份、2.7份、3.4份、4份、4.7份、5.4份、6份、6.7份、7.4份或8份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0029]硼砂40～68份，例如可以是40份、44份、47份、50份、53份、56份、59份、62份、65份或68份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0030]氧化硅2～5份，例如可以是2份、2.4份、2.7份、3份、3.4份、3.7份、4份、4.4份、4.7份或5份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0031]氧化铝30～50份，例如可以是30份、33份、35份、37份、39份、42份、44份、46份、48份或50份等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0032]优选地，所述无光釉料中纳米碳的尺寸为1～100nm，例如可以是1nm、12nm、23nm、34nm、45nm、56nm、67nm、78nm、89nm或100nm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0033]优选地，所述无光干粒釉和主体釉的质量比为0.05～0.2:1，例如可以是0.05:1、0.07:1、0.09:1、0.1:1、0.12:1、0.14:1、0.15:1、0.17:1、0.19:1或0.2:1等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的数值同样适用。
[0034]优选地，所述纳米碳和主体釉的质量比为0.001～0.03:1，例如可以是0.001:1、0.005:1、0.008:1、0.011:1、0.014:1、0.018:1、0.021:1、0.024:1、0.027:1或0.03:1等本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无光釉料，其特征在于，所述无光釉料包括：无光干粒釉、纳米碳和主体釉；所述无光干粒釉的组分包括：氧化锌、三氧化二铝、氧化钡、二氧化硅和二氧化锆；所述主体釉包括氧化锌、碳酸钡、氧化硼、滑石粉、硼砂、氧化硅和氧化铝。2.根据权利要求1所述的无光釉料，其特征在于，所述无光干粒釉的组成按质量份数包括：3.根据权利要求1或2所述的无光釉料，其特征在于，所述主体釉的组成按质量分数包括：4.根据权利要求1～3任一项所述的无光釉料，其特征在于，所述无光釉料中纳米碳的尺寸为1～100nm；优选地，所述无光干粒釉和主体釉的质量比为0.05～0.2:1；优选地，所述纳米碳和主体釉的质量比为0.001～0.03:1。5.一种无光釉面的制备方法，其特征在于，所述制备方法采用权利要求1～4任一项所述的无光釉料制备；所述制备方法包括如下步骤：(1)混合无光干粒釉和乙烯基硅烷，经焙烧处理，形成外表附着有乙烯基硅烷的无光干粒釉；(2)混合主体釉和所述外表附着有乙烯基...

【专利技术属性】
技术研发人员：温晓炜，马云龙，
申请(专利权)人：亚细亚建筑材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：