【技术实现步骤摘要】
一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置
[0001]本技术属于多晶黑硅片生产
，特别是涉及一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置。
技术介绍
[0002]在生产硅片的过程中，需要对硅片进行抛光形成抛光片，在抛光后需要进行清洗工序，现有的清洗时可采用直冲式或旋转喷淋式的方式，而若是直冲式的清洗方式则会出现清洗效果不好的问题，而若是使用旋转喷淋的方式进行清洗时会出现清洗效率较低的问题。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于提供一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，通过设置吸附盘能够对硅片进行吸附固定，同时通过设置可旋转的吸附盘能够带动硅片进行转动，并且在清洗盘一侧设置喷头，能够实现离心清洗，能够有效提高硅片的清洗效率，同时设置多个清洗座，并且配置适配的传动机构，能够使用一个驱动电机同时控制多个吸附盘的旋转，从而大大提高清洗效率，并且具备节能的作用。
[0004]为解决上述技术问题，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0005]本技术为一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，包括储液桶、支撑架和若干清洗盘；
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，其特征在于：包括储液桶（1）、支撑架（2）和若干清洗盘（3）；所述支撑架（2）为中空圆环状架体结构，所述支撑架（2）固定在储液桶（1）外表面的上部，所述支撑架（2）周侧面设有若干外凸壳（201），所述支撑架（2）内底面通过回转支承转动连接有转圈（202），所述转圈（202）内表面和外表面分别固定有内齿圈（203）和外齿圈（204）；若干所述清洗盘（3）分别固定在若干外凸壳（201）顶部，所述清洗盘（3）内底部转动连接有中空轴体（301），所述中空轴体（301）位于清洗盘（3）内下部的位置固定有吸附盘（302），所述吸附盘（302）内设有气腔（303），所述吸附盘（302）上部开设有若干吸附口（304），所述中空轴体（301）和若干吸附口（304）均与气腔（303）连通；所述中空轴体（301）位于外凸壳（201）内部的位置固定有第一齿轮（305），所述第一齿轮（305）与外齿圈（204）啮合，所述中空轴体（301）位于外凸壳（201）外部一端通过轴承转动连接有抽气管（306）；所述清洗盘（3）顶部外侧倾斜固定有固定沿（307），所述固定沿（307）上固定有若干喷头（308）。2.根据权利要求1所述的一种用于碱背多晶黑硅片的清洗装置，其特征在于，所述支撑架（2）底部固定有驱动电机（205），所述驱动电机（205）输出端贯穿支撑架（2）底部且固定有第二齿轮（...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵卫东，杨冬琴，蒋勇，周波，申忍，
申请(专利权)人：江苏东鋆光伏科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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