【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有固定的亲和配体和酶的涂层及其在液相色谱测定中的用途
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年6月26日提交的名称为“Coatings With Immobilized Affinity Ligands and Enzymes and Use Thereof in Liquid Chromatography Assays”的美国临时专利申请号62/866,847的优先权和权益,该专利申请的全部内容据此以引用方式并入。
[0003]序列表
[0004]本申请含有序列表,该序列表已经以ASCII格式以电子方式提交,并且全文据此以引用方式并入本文。在2020年6月24日创建的所述ASCII副本命名为W
‑
4064
‑
US02_(102994_1013_4)_SL.txt,并且大小为102千字节。
[0005]本公开涉及用于富集样品的组分的样品制备装置和方法。更具体地,本技术涉及具有烷基甲硅烷基涂层与共价键合到烷基甲硅烷基涂层的亲和配体或酶的样品制备装置,以及使用本文所述的样品制备装置富集样品的组分(例如,分析物)的方法。
技术介绍
[0006]液相色谱(LC)系统用于进行化学分离。典型的液相色谱系统由以下主要部件组成:泵、注射器、柱和检测器。泵迫使流动相例如溶液通过包括注射器、柱和检测器的流体路径。注射器允许将样品引入柱上方的流体流中。柱含有介质填充床。介质通常是多孔的并相对惰性的。样品中的化合物将表现出对介质的特征性亲和力。即 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于富集样品的组分的样品制备装置,所述样品制备装置包括:表面,所述表面与所述样品流体连通;烷基甲硅烷基涂层,所述烷基甲硅烷基涂层设置在所述表面上;和亲和配体,所述亲和配体共价键合到所述烷基甲硅烷基涂层。2.一种用于富集样品的组分的样品制备装置,所述样品制备装置包括:表面,所述表面与所述样品流体连通;烷基甲硅烷基涂层,所述烷基甲硅烷基涂层设置在所述表面上;和酶,所述酶共价键合到所述烷基甲硅烷基涂层。3.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述烷基甲硅烷基涂层具有至少的厚度。4.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述表面是孔板的内表面。5.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述表面是小瓶的内表面。6.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述表面是移液管的内表面。7.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述样品制备装置用于色谱分析。8.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述样品制备装置用于质谱分析。9.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中所述烷基甲硅烷基涂层具有式I:其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH、OR
A
和卤素;R
A
表示与所述表面的附接点;R1、R2、R3、R4、R5和R6中的至少一者为OR
A
;并且X为(C1‑
C
20
)烷基、
‑
O[(CH2)2O]1‑
20
‑
、
‑
(C1‑
C
10
)[NH(CO)NH(C1‑
C
10
)]1‑
20
‑
或
‑
(C1‑
C
10
)[烷基苯基(C1‑
C
10
)烷基]1‑
20
‑
。10.根据权利要求9所述的样品制备装置,其中X为(C2‑
C
10
)烷基。11.根据权利要求9所述的样品制备装置,其中X为乙基。12.根据权利要求9所述的样品制备装置,其中R1、R2、R3、R4、R5和R6各自为甲氧基或氯。13.根据权利要求9所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷。14.根据权利要求9所述的样品制备装置,还包括与式I的所述烷基甲硅烷基涂层直接接触的第二烷基甲硅烷基涂层,所述第二烷基甲硅烷基涂层具有式II:
其中R7、R8和R9各自独立地选自
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N[(C1‑
C6)烷基]2、(C1‑
C6)烷氧基、(C1‑
C6)烷基、(C1‑
C6)烯基、OH和卤素;R
10
选自(C1‑
C6)烷基、
‑
OR
B
、
‑
[O(C1‑
C3)烷基]1‑
10
O(C1‑
C6)烷基和苯基,其中所述(C1‑
C6)烷基任选地被一个或多个卤素取代,并且其中所述苯基任选地被一个或多个选自(C1‑
C3)烷基、羟基、氟、氯、溴、氰基、
‑
C(O)NH2和羧基的基团取代;R
B
为
‑
(C1‑
C3)烷基环氧乙烷、
‑
(C1‑
C3)烷基
‑
3,4
‑
环氧基环己基或
‑
(C1‑
C4)烷基OH;R
10
的切割键表示R
10
与桥联甲硅烷基基团以形成烯烃的碳之间的任选附加共价键,前提条件是y不为0;并且y为0至20的整数。15.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中y为2至9的整数。16.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中y为9,R
10
为甲基,并且R7、R8和R9各自为乙氧基或氯。17.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式II的所述烷基甲硅烷基涂层为(3
‑
缩水甘油氧基丙基)三甲氧基硅烷、正癸基三氯硅烷、三甲基氯硅烷、三甲基二甲基氨基硅烷或甲氧基
‑
聚乙烯氧基(1
‑
10)硅烷。18.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式II的所述烷基甲硅烷基涂层为水解之后的(3
‑
缩水甘油氧基丙基)三甲氧基硅烷。19.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式II的所述烷基甲硅烷基涂层为(3
‑
缩水甘油氧基丙基)三甲氧基硅烷。20.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式II的所述烷基甲硅烷基涂层为水解之后的(3
‑
缩水甘油氧基丙基)三甲氧基硅烷。21.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式II的所述烷基甲硅烷基涂层为正癸基三氯硅烷。22.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式II的所述烷基甲硅烷基涂层为三甲基氯硅烷或三甲基二甲基氨基硅烷。23.根据权利要求14所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式II的所述烷基甲硅烷基涂层为甲氧基
‑
聚乙烯氧基(3)硅烷。24.根据权利要求9所述的样品制备装置,还包括与式I的所述烷基甲硅烷基涂层直接接触的烷基甲硅烷基涂层,所述烷基甲硅烷基涂层具有式III,
其中R
11
、R
12
、R
13
、R
14
、R
15
和R
16
各自独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH和卤素;并且Z为(C1‑
C
20
)烷基、
‑
O[(CH2)2O]1‑
20
‑
、
‑
(C1‑
C
10
)[NH(CO)NH(C1‑
C
10
)]1‑
20
‑
或
‑
(C1‑
C
10
)[烷基苯基(C1‑
C
10
)烷基]1‑
20
‑
。25.根据权利要求24所述的样品制备装置,其中式III的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷。26.根据权利要求24所述的样品制备装置,其中式I的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷,并且式III的所述烷基甲硅烷基涂层为双(三氯甲硅烷基)乙烷或双(三甲氧基甲硅烷基)乙烷。27.根据权利要求24所述的样品制备装置,其中I和III的所述烷基甲硅烷基涂层具有约的总厚度。28.根据权利要求1或2中任一项所述的样品制备装置,其中将所述烷基甲硅烷基涂层选择成通过(1)排斥力、(2)次级相互作用或(3)不同于与固定相材料的相互作用的保留机制来与所述样品中的至少一种分析物相互作用。29.根据权利要求28所述的样品制备装置,其中所述分析物和活性涂层是带负电的。30.根据权利要求28所述的样品制备装置,其中所述分析物和所述活性涂层是带正电的。31.根据权利要求28所述的样品制备装置,其中所述次级相互作用是离子交换分配。32.根据权利要求28所述的样品制备装置,其中所述烷基甲硅烷基涂层具有式IV:其中每个X独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH、OR
A
、R
B
、R
C
、R
D
和卤素;R
A
表示与所述样品制备装置的所述表面的附接点,并且至少一个X为OR
A
;R
B
不存在,或表示疏水性改性剂;R
C
表示电荷改性剂,并且至少一个X为R
C
;R
D
为以下三者:不存在、螯合剂或冠醚;并且Y为选自(C1‑
C
20
)烷基、
‑
O[(CH2)2O]1‑
20
‑
、
‑
(C1‑
C
10
)[NH(CO)NH(C1‑
C
10
)]1‑
20
‑
或
‑
(C1‑
C
10
)[烷基苯基(C1‑
C
10
)烷基]1‑
20
‑
的桥联部分。33.根据权利要求32所述的样品制备装置,其中所述电荷改性剂(R
C
)为
其中Z独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH、卤素或与式IV的附接点;并且其中至少一个Z为与式IV的所述附接点。34.根据权利要求32所述的样品制备装置,其中所述电荷改性剂(R
C
)为其中Z独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH、卤素或与式IV的附接点;并且其中至少一个Z为与式IV的所述附接点。35.根据权利要求32所述的样品制备装置,其中所述电荷改性剂(R
C
)为季胺。36.根据权利要求32所述的样品制备装置,其中存在所述疏水性改性剂(R
B
)。37.根据权利要求36所述的样品制备装置,其中所述疏水性改性剂(R
B
)具有净中性电荷。38.根据权利要求36所述的样品制备装置,其中所述疏水性改性剂(R
B
)为其中Z独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑
C6)烷基、
‑
N((C1‑
C6)烷基)2、OH、卤素或与式IV的附接点;并且其中至少一个Z为与式IV的所述附接点。39.根据权利要求36所述的样品制备装置,其中所述疏水性改性剂(R
B
)为其中Z独立地选自(C1‑
C6)烷氧基、
‑
NH(C1‑<...
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