光转换膜、光转换基片和发光二极管制造技术

本发明专利技术公开了一种光转换膜、光转换基片和发光二极管。该光转换膜包括透明折射层和光色转换层，透明折射层的层数比光色转换层少一层，光色转换层和透明折射层交替层叠设置，且设置于光转换膜的最靠外的层均为光色转换层，光色转换层能够吸收光线并发出荧光，光色转换层的折射率高于透明折射层的折射率。该光转换膜能够显著提高光线的发射效率和提取效率，还无需高精度的制备工艺，能够满足更多场景下的实际需求。实际需求。实际需求。

【技术实现步骤摘要】
光转换膜、光转换基片和发光二极管


[0001]本专利技术涉及电子显示
，尤其是涉及一种光转换膜、光转换基片和发光二极管。

技术介绍

[0002]以发光二极管为发光单元的显示屏逐渐成为市场的主流显示屏。通常一个显示屏中包括许多像素化的发光二极管，一个像素点通常包括能够发射红、绿、蓝三色的发光二极管。红、绿、蓝三色光线可以是由三个分别发射红、绿、蓝三色光线的发光二极管发射，也可以是由发射单一颜色光线的背光光源分别经由红、绿、蓝三色光转换膜转换后发射。
[0003]传统的基于滤膜的显示技术多采用发射蓝光的二极管以及将蓝光转换为红光或绿光的光转换膜。但是由量子点形成的光转换膜存在如下缺点：若光转换膜偏薄，则容易使得背光的蓝光漏光，不仅导致显色失真、对用户眼部造成伤害，还显著降低了光色转换效率；若为了提高光色转换效率，将光转换膜设计偏厚，又会因为在制备过程中难以有效控制薄膜的形貌质量，而显著提升所需制备工艺的精度。

技术实现思路

[0004]基于此，本专利技术的目的之一在于提供一种光转换膜，以在无需额外提升制备工艺精度的情况本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光转换膜，其特征在于，包括透明折射层和光色转换层，所述透明折射层的层数比所述光色转换层少一层，所述光色转换层和所述透明折射层交替层叠设置，且所述光转换膜的最靠外的层均为所述光色转换层，所述光色转换层能够吸收光线并发出荧光，所述光色转换层的折射率高于所述透明折射层的折射率。2.根据权利要求1所述的光转换膜，其特征在于，所述透明折射层的折射率为1.0～1.5。3.根据权利要求2所述的光转换膜，其特征在于，所述透明折射层的材料选自含氟聚合物、二氧化硅和硅土气凝胶中的一种或多种。4.根据权利要求2所述的光转换膜，其特征在于，所述光色转换层的材料包括金属卤化物钙钛矿材料，所述金属卤化物钙钛矿材料的结构通式为：ABX3，其中，A选自一种阳离子或多种阳离子的组合，B选自一种金属离子或多种金属离子的组合，X选自一种卤素阴离子或...

【专利技术属性】
技术研发人员：玉福星，
申请(专利权)人：广东聚华印刷显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：