一种复合电极及其制备方法及光电器件技术

技术编号:45741063 阅读:3 留言:0更新日期:2025-07-08 21:29
本申请涉及光电技术领域,尤其涉及一种复合电极及其制备方法及光电器件,其中,所述复合电极包括层叠设置的种子层以及导电层;种子层包括第一子种子层,第一子种子层为非连续种子层。本申请提供的复合电极中导电层的连续性好,透过率高且方阻较低。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及光电,尤其涉及一种复合电极及其制备方法及光电器件


技术介绍

1、目前,光电器件的电极一般采用金属导电材料制成。然而,由于电极形成时具有阈值厚度,低于该阈值厚度时,容易导致电极呈非连续薄膜形态,从而降低电极的电学和光学传输性能。


技术实现思路

1、基于此,本申请提供一种复合电极及其制备方法及光电器件。

2、为了解决上述技术问题,本申请实施例提供一种复合电极,采用了如下所述的技术方案:

3、一种复合电极,所述复合电极包括层叠设置的种子层和导电层;

4、所述种子层包括第一子种子层,所述第一子种子层为非连续种子层。

5、进一步地,所述第一子种子层包括多个间隔设置的岛状单元;和/或,

6、所述种子层还包括第二子种子层和第三子种子层,所述第三子种子层靠近所述导电层设置,所述第一子种子层设于所述第二子种子层与所述第三子种子层之间。

7、进一步地,所述岛状单元的平均高度为0.3~3nm;和/或,

8、所述岛状单元的平均直径为0.0本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种复合电极,其特征在于,所述复合电极包括层叠设置的种子层和导电层;

2.根据权利要求1所述的复合电极,其特征在于,所述第一子种子层包括多个间隔设置的岛状单元;和/或,

3.根据权利要求2所述的复合电极,其特征在于,所述岛状单元的平均高度为0.3~3nm;和/或,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的复合电极,其特征在于,所述导电层的厚度为18~25nm;和/或,

5.根据权利要求1至3中任一项所述的复合电极,其特征在于,所述复合电极还包括层叠设于所述导电层上的介电层;

6.一种复合电极的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:...

【技术特征摘要】

1.一种复合电极,其特征在于,所述复合电极包括层叠设置的种子层和导电层;

2.根据权利要求1所述的复合电极,其特征在于,所述第一子种子层包括多个间隔设置的岛状单元;和/或,

3.根据权利要求2所述的复合电极,其特征在于,所述岛状单元的平均高度为0.3~3nm;和/或,

4.根据权利要求1至3中任一项所述的复合电极,其特征在于,所述导电层的厚度为18~25nm;和/或,

5.根据权利要求1至3中任一项所述的复合电极,其特征在于,所述复合电极还包括层叠设于所述导电层上的介电层;

6.一种复合电极的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:

7.根据权利要求6所述的复合电极的制备方法,其特征在于,所述通入第一金属蒸汽沉积形成第一子种子层的步骤中,沉积时间为1~20s;和/或,

8.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:李松举孙贤文付东
申请(专利权)人:广东聚华印刷显示技术有限公司
类型:发明
国别省市:

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