一种滴液装置及滴液设备制造方法及图纸

技术编号:32248591 阅读:14 留言:0更新日期:2022-02-09 17:52
本实用新型专利技术涉及液晶显示技术领域,公开了一种滴液装置及滴液设备。所述滴液装置用于向基板上滴液,包括滴液组件和压液组件,滴液组件能够容纳液体并向基板表面滴出液滴,压液组件包括压板,压板朝向基板的一侧设置有凹槽,当凹槽与滴在基板上的液滴相对时,压板设置有凹槽的一侧能够与基板抵接,以将液滴压平。本实用新型专利技术的滴液装置,其向基板滴出的液滴在刻蚀基板的过程中不易扩散。本实用新型专利技术的滴液设备,通过设置上述的滴液装置,能够提高液滴对基板的刻蚀精度,保证基板后续工艺的顺利进行。行。行。

【技术实现步骤摘要】
一种滴液装置及滴液设备


[0001]本技术涉及液晶显示
,尤其涉及一种滴液装置及滴液设备。

技术介绍

[0002]液晶显示面板成型工艺一般包括:前段阵列制程、中段成盒制程及后段模组组装制程。其中,中段成盒制程包括TFT(Thin Film Transistor,薄膜晶体管基板)基板与CF(Color Filter,彩膜)基板的贴合,此过程中,要在TFT基板的整面镀设金属层,此时TFT基板上用于后续进行黄光制程的标记点会被金属层覆盖,因此,需要向金属层上与标记点对应的位置滴酸,通过酸滴将此处的金属层刻蚀掉,以使标记点露出。
[0003]现有技术中,滴液装置直接将酸滴滴在金属层上后,酸滴与金属层之间存在表面张力,酸滴在表面张力和重力的作用下使酸滴保持表面呈拱形的形状,当随着酸液对金属层的刻蚀,表面张力发生变化,而当表面张力无法克服重力时,酸滴的形状无法保持而向周围发生扩散,且酸滴的扩散的方向难以进行控制,最终导致金属层被刻蚀掉的区域与预设区域出现偏差,对后续的工艺造成不良影响。
[0004]因此,亟需一种滴液装置及滴液设备来解决上述技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术的第一个目的在于提供一种滴液装置,其向基板滴出的液滴在刻蚀基板的过程中不易扩散。
[0006]本技术的第二个目的在于提供一种滴液设备,通过设置上述的滴液装置,能够提高液滴对基板的刻蚀精度,保证基板后续工艺的顺利进行。
[0007]为达上述目的,本技术采用以下技术方案:
[0008]一种滴液装置,用于向基板上滴液,包括:
[0009]滴液组件,能够容纳液体并向所述基板表面滴出液滴;
[0010]压液组件,包括压板,所述压板朝向所述基板的一侧设置有凹槽,当所述凹槽与滴在所述基板上的所述液滴相对时,所述压板设置有凹槽的一侧能够与所述基板抵接,以将所述液滴压平。
[0011]可选地,所述压液组件还包括第一驱动源,所述压板与所述第一驱动源的输出端连接,所述第一驱动源能够驱动所述压板靠近或远离所述基板。
[0012]可选地,所述滴液组件包括:
[0013]滴液管组,能够容纳液体并向所述基板表面滴出所述液滴;
[0014]第二驱动源,所述滴液管组与所述第二驱动源的输出端连接,所述第二驱动源能够驱动所述滴液管组靠近或远离所述基板。
[0015]可选地,所述滴液管组包括:
[0016]管筒,能够容纳液体,所述管筒的一端设置有针头,且内部设置有活塞;
[0017]第三驱动源,能够驱动所述活塞沿所述管筒移动,以将所述管筒内的液体从针头
处挤出。
[0018]可选地,所述凹槽的横截面为圆形或方形。
[0019]可选地,所述凹槽的直径为D,所述凹槽的深度为T,其中,5mm≤D≤8mm,T≤3mm。
[0020]可选地,所述滴液装置还包括:
[0021]基座,其上设置有基准位置,所述滴液组件和所述压液组件均与所述基座活动连接;
[0022]第四驱动源,设置在所述基座上,所述第四驱动源能够将所述滴液组件驱动至所述基准位置;
[0023]第五驱动源,设置在所述基座上,所述第五驱动源能够将所述滴液组件驱动至所述基准位置。
[0024]可选地,所述滴液装置还包括设置在所述基座上的直线导轨,所述滴液组件和所述压液组件均与所述直线导轨滑动配合。
[0025]可选地,所述滴液装置还包括:
[0026]第一直线模组,能够输出沿第一方向的直线运动;
[0027]第二直线模组,与所述第一直线模组的输出端连接并能够输出沿第二方向的直线运动,所述基座与所述第二直线模组的输出端连接,所述第一方向与所述第二方向相交,且均与所述基板平行。
[0028]一种滴液设备,包括承载平台和所述的滴液装置,所述承载平台能够支撑所述基板。
[0029]本技术有益效果为:
[0030]本技术的滴液装置,滴液组件先向基板上滴出液滴,此时的液滴呈拱形,接着将压液组件移动至液滴的正上方,并使凹槽与液滴相对,此时驱动压液组件靠近基板并与基板贴合,凹槽与基板的表面之间形成容纳空间,而液滴被包容在容纳空间中以被压平,此时液滴与基板的接触面增加,进而在液滴刻蚀基板的过程中能够提供较大的表面张力来克服重力,避免或大大减少液滴向周围扩散,提高液滴的刻蚀精度,进而保证基板后续工艺的顺利进行。
[0031]本技术的滴液设备,通过设置上述的滴液装置,能够避免或减少液滴在刻蚀过程向周围扩散,从而提高液滴对基板的刻蚀精度,保证基板后续工艺的顺利进行。
附图说明
[0032]图1是本技术具体实施方式提供的滴液装置和基板的结构示意图;
[0033]图2是本技术具体实施方式提供的滴液组件向基板上滴液时的示意图;
[0034]图3是本技术具体实施方式提供的压液组件压平液滴时的示意图;
[0035]图4是本技术具体实施方式提供的基板和被压平的液滴的示意图。
[0036]图中:
[0037]100

基板;101

薄膜晶体管基板;102

金属层;103

标记点;200

液滴;
[0038]1‑
滴液组件;11

滴液管组;111

管筒;112

针头;113

活塞;12

第二支撑板;13

第二滑块;14

第二导轨;
[0039]2‑
压液组件;21

压板;211

凹槽;22

连接杆;23

第一支撑板;24

第一滑块;25


一导轨;
[0040]3‑
基座;
[0041]4‑
第四驱动源;
[0042]5‑
第五驱动源;
[0043]6‑
直线导轨。
具体实施方式
[0044]下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅用于解释本技术,而非对本技术的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。
[0045]在本技术的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[004本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种滴液装置,用于向基板(100)上滴液,其特征在于,包括:滴液组件(1),能够容纳液体并向所述基板(100)表面滴出液滴(200);压液组件(2),包括压板(21),所述压板(21)朝向所述基板(100)的一侧设置有凹槽(211),当所述凹槽(211)与滴在所述基板(100)上的所述液滴(200)相对时,所述压板(21)设置有凹槽(211)的一侧能够与所述基板(100)抵接,以将所述液滴(200)压平。2.如权利要求1所述的滴液装置,其特征在于,所述压液组件(2)还包括第一驱动源,所述压板(21)与所述第一驱动源的输出端连接,所述第一驱动源能够驱动所述压板(21)靠近或远离所述基板(100)。3.如权利要求1所述的滴液装置,其特征在于,所述滴液组件(1)包括:滴液管组(11),能够容纳液体并向所述基板(100)表面滴出所述液滴(200);第二驱动源,所述滴液管组(11)与所述第二驱动源的输出端连接,所述第二驱动源能够驱动所述滴液管组(11)靠近或远离所述基板(100)。4.如权利要求3所述的滴液装置,其特征在于,所述滴液管组(11)包括:管筒(111),能够容纳液体,所述管筒(111)的一端设置有针头(112),且内部设置有活塞(113);第三驱动源,能够驱动所述活塞(113)沿所述管筒(111)移动,以将所述管筒(111)内的液体从针头(112)处挤出。5.如权利要求1所述的滴液装置,其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱成磊
申请(专利权)人:昆山龙腾光电股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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