产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质技术方案

本发明专利技术提供了一种产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质，其方法包括：获取目标产品在当前生产加工环节期间内，生产所述目标产品的所有加工设备的各项工艺参数；计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率；比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因。本发明专利技术能够对工业制造产品的不良原因进行准确分析，便于对制造过程进行优化。便于对制造过程进行优化。便于对制造过程进行优化。

【技术实现步骤摘要】
产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质


[0001]本专利技术涉及工业生产
，尤指一种产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质。

技术介绍

[0002]化工、电子等工业生产中，各工程的不合格率常被称为不良率，其反应了在各工程的检测环节不合格产品的比例。不良率直接关系到生产成本，能否在最短的时间内实现快速提高良率即降低不良率，很大程度上决定了能否按时收回生产成本。不良率作为工厂产品的产能指标，在元件生产制造的各个环节都有应用价值，较高的不良率会导致各类成本的增加，比如生产原材料投入的预算，生产工序的控制管理费用，产品质量的改进审核费用都会增加。因此，高水平的良率是体现产品可靠性和实现产品收益的关键指标，在元件加工行业生产制造型企业中尤为重要。
[0003]传统工业生产中，生产过程中遇到发生不良件时，很难从加工设备的大量的工艺参数中找出引发不良的原因，主要依靠人工经验判定产生不良件的原因，这种方式效果差且时效慢，往往耗费大量财力、物力和时间，不能满足企业的快速发展。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质，解决了人工分析不良件产生原因，效果差且时效慢，往往耗费大量财力、物力和时间的技术问题。
[0005]本专利技术提供的技术方案如下：本专利技术提供一种产品的不良原因分析方法，包括步骤：获取目标产品在当前生产加工环节期间内，生产所述目标产品的所有加工设备的各项工艺参数；计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率；比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因。
[0006]进一步的，所述计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率包括步骤：根据产品生产日志从所述当前生产加工环节期间内中，查找所述良品区间对应的所有工艺参数，以及所述不良品区间对应的所有工艺参数；对所述当前生产加工环节期间内所述工艺参数的最大值和最小值进行差值计算，分别计算得到不同工艺参数对应的波动差，将所述波动差对应的工艺参数降序排列；对所述良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述良品波动率；对所述不良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述不良波动率。
[0007]进一步的，所述比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因包括步骤：将所述良品波动率与所述不良波动率进行差值计算得到波动率差值；判断所述波动率差值是否大于预设阈值；若所述波动率差值小于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠后的工艺参数；若所述波动率差值大于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠前的工艺参数。
[0008]进一步的，所述比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因之后包括步骤：获取引发不良的原因对应的工艺参数，将不同的工艺参数采用不同颜色和/或图形进行标记。
[0009]本专利技术还提供一种产品的不良原因分析系统，包括：获取模块，用于获取目标产品在当前生产加工环节期间内，生产所述目标产品的所有加工设备的各项工艺参数；处理模块，用于计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率；分析模块，用于比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因。
[0010]进一步的，所述处理模块包括：查找单元，用于根据产品生产日志从所述当前生产加工环节期间内中，查找所述良品区间对应的所有工艺参数，以及所述不良品区间对应的所有工艺参数；第一计算单元，用于对所述当前生产加工环节期间内所述工艺参数的最大值和最小值进行差值计算，分别计算得到不同工艺参数对应的波动差，将所述波动差对应的工艺参数降序排列；第二计算单元，用于对所述良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述良品波动率，对所述不良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述不良波动率。
[0011]进一步的，所述分析模块包括：第三计算单元，用于将所述良品波动率与所述不良波动率进行差值计算得到波动率差值；判断单元，用于判断所述波动率差值是否大于预设阈值；处理单元，用于若所述波动率差值小于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠后的工艺参数；所述处理单元，还用于若所述波动率差值大于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠前的工艺参数。
[0012]进一步的，所述产品的不良原因分析系统还包括：所述处理模块，还用于获取引发不良的原因对应的工艺参数，将不同的工艺参数采用不同颜色和/或图形进行标记。
[0013]本专利技术还提供一种终端设备，包括处理器、存储器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器，用于执行所述存储器上所存放的计算机程序，实现如所述的产品的不良原因分析方法所执行的操作。
[0014]本专利技术还提供一种存储介质，所述存储介质中存储有至少一条指令，所述指令由处理器加载并执行以实现如述的产品的不良原因分析方法所执行的操作。
[0015]通过本专利技术提供的一种产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质，能够对工业制造产品的不良原因进行准确分析，便于对制造过程进行优化。
附图说明
[0016]下面将以明确易懂的方式，结合附图说明优选实施方式，对一种产品的不良原因分析方法、系统、终端设备和存储介质的上述特性、技术特征、优点及其实现方式予以进一步说明。
[0017]图1是本专利技术一种产品的不良原因分析方法的一个实施例的流程图；图2是本专利技术一种产品的不良原因分析方法的工艺参数分析示意图；图3是本专利技术一种产品的不良原因分析方法的良品区间和不良品区间的主轴负载的波动变化示意图。
具体实施方式
[0018]以下描述中，为了说明而不是为了限定，提出了诸如特定系统结构、技术之类的具体细节，以便透彻理解本申请实施例。然而，本领域的技术人员应当清楚，在没有这些具体细节的其他实施例中也可以实现本申请。在其他情况中，省略对众所周知的系统、装置、电路以及方法的详细说明，以免不必要的细节妨碍本申请的描述。
[0019]应当理解，当在本说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”指示所述描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或集合的存在或添加。
[0020]为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本专利技术相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。
[0021]还应当进一步理解，在本申请说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种产品的不良原因分析方法，其特征在于，包括步骤：获取目标产品在当前生产加工环节期间内，生产所述目标产品的所有加工设备的各项工艺参数；计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率；比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因。2.根据权利要求1所述的产品的不良原因分析方法，其特征在于，所述计算在所述当前生产加工环节期间内，所有工艺参数在良品区间和不良品区间对应的良品波动率和不良波动率包括步骤：根据产品生产日志从所述当前生产加工环节期间内中，查找所述良品区间对应的所有工艺参数，以及所述不良品区间对应的所有工艺参数；对所述当前生产加工环节期间内所述工艺参数的最大值和最小值进行差值计算，分别计算得到不同工艺参数对应的波动差，将所述波动差对应的工艺参数降序排列；对所述良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述良品波动率；对所述不良品区间对应的所有工艺参数，进行均值计算得到所述不良波动率。3.根据权利要求2所述的产品的不良原因分析方法，其特征在于，所述比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因包括步骤：将所述良品波动率与所述不良波动率进行差值计算得到波动率差值；判断所述波动率差值是否大于预设阈值；若所述波动率差值小于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠后的工艺参数；若所述波动率差值大于所述预设阈值，确定引发不良的原因是排列顺序靠前的工艺参数。4.根据权利要求1
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3任一项所述的产品的不良原因分析方法，其特征在于，所述比较所述良品波动率和不良波动率的大小，根据比较结果得到引发所述目标产品不良的原因之后包括步骤：获取引发不良的原因对应的工艺参数，将不同的工艺参数采用不同颜色和/或图形进行标记。5.一种产品的不良原因分析系统，其特征在于，包括：获取模块，用于获取目标产品在当前生产加工环节期间内，生产所述目标产品的所有加工设备的各项工艺参数；处理模块，用于计算在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王嘉毅，李纲，
申请(专利权)人：锱云上海物联网科技有限公司，
类型：发明
国别省市：