一种适于接触式光刻机的曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种适于接触式光刻机的曝光装置，包括基片以及设置在基片一侧的轨道，所述轨道的上方设有安装座，所述安装座与轨道之间设有行走结构，所述安装座的上方转动安装有连接架，所述连接架靠近基片的一侧安装有曝光遮挡主体，所述曝光遮挡主体上开设有曝光孔，所述曝光遮挡主体上安装有用以调整曝光孔大小的调节结构，本实用新型专利技术的曝光遮挡主体的位置可通过行走结构和旋转的安装架进行调整，以实现曝光遮挡主体能够到达基片上的所有位置，并且能够使得曝光遮挡主体撤离基片，使得本装置能够区域曝光和全方位曝光两种状态，曝光孔能够移动到基板的边角处，实现边角曝光。光。光。

【技术实现步骤摘要】
一种适于接触式光刻机的曝光装置


[0001]本技术涉及光刻机
，具体是一种适于接触式光刻机的曝光装置。

技术介绍

[0002]在接触式光刻机进行曝光时，有事需要一片基片上曝光一半、四分之一或者更小区域的图形，以便于区别比较后续工艺,比如刻蚀、溅射等等；
[0003]申请号为201620238897.6的专利中提出了适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其通过设置四个可调节位置的挡板，但是其存在缺陷，当需要在基板的边角进行投影时，其侧面的挡板遮无法移动到中间，导致基板边角无法投影，并且挡板装置无法完全撤离基板，导致基板无法全方位投影。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种适于接触式光刻机的曝光装置，以解决现有技术中侧面的挡板遮无法移动到中间，导致基板边角无法投影，并且挡板装置无法完全撤离基板，导致基板无法全方位投影的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种适于接触式光刻机的曝光装置，包括基片以及设置在基片一侧的轨道，所述轨道的上方设有安装座，所述安装座与轨道之间设有行走结构，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适于接触式光刻机的曝光装置，包括基片(8)以及设置在基片(8)一侧的轨道(1)，其特征在于：所述轨道(1)的上方设有安装座(2)，所述安装座(2)与轨道(1)之间设有行走结构(6)，所述安装座(2)的上方转动安装有连接架(4)，所述连接架(4)靠近基片(8)的一侧安装有曝光遮挡主体(7)，所述曝光遮挡主体(7)上开设有曝光孔(71)，所述曝光遮挡主体(7)上安装有用以调整曝光孔(71)大小的调节结构。2.根据权利要求1所述的一种适于接触式光刻机的曝光装置，其特征在于：所述行走结构(6)包括转动安装在安装座(2)下表面四个拐角处的齿轮、开设在轨道(1)上表面与齿轮对应的滑槽、安装在滑槽下底面的齿条以及安装在安装座(2)上用以驱动行走结构(6)转动的马达，所述齿轮与齿条啮合。3.根据权利要求1所述的一种适于接触式光刻机的曝光装置，其特征在于：所述安装座(2)的上表面中部嵌入电机(3)，电机(3)的动力输出端与连接架(4)远离曝光遮挡主体(7)当一端固接。4.根据权利要求1所述的一种适于接触式光刻机的曝光装置，其特征在于：所述连接架(4)靠近曝光遮挡主体(7)...

【专利技术属性】
技术研发人员：张俊杰，
申请(专利权)人：上海图双精密装备有限公司，
类型：新型
国别省市：