一种减反射结构体及其制作方法、光学器件技术

本申请公开了一种减反射结构体，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的矩形排列。本申请中的减反射结构体包括基底和设置在基底上的微结构阵列，由于微结构阵列中多个微结构呈不规则的排列，微结构阵列可以使散射光线在空间中均匀分布，所有角度的反射光强均比较小，从而防止减反射结构体表面产生眩光。此外，本申请还提供一种具有上述优点的减反射结构体制作方法和光学器件。优点的减反射结构体制作方法和光学器件。优点的减反射结构体制作方法和光学器件。

【技术实现步骤摘要】
一种减反射结构体及其制作方法、光学器件


[0001]本申请涉及光学
，特别是涉及一种减反射结构体及其制作方法、光学器件。

技术介绍

[0002]当光线入射到两种介质的分界面时会发生菲涅尔反射，这种反射会对光能的传输和探测造成很大阻碍。为了增强抗反射效果，可以在基底的上表面设置锥体微结构阵列，锥体微结构阵列包括锥体微结构，多个锥体微结构呈规则的矩形排列或者蜂窝状排列，锥体微结构可以为圆锥体、抛物锥体、金字塔等等，锥体微结构阵列可以视为一层具有渐变折射率梯度分布的薄膜，其可以减少基底上表面与空气之间的折射率差值，从而实现宽带的抗反射效果。
[0003]当光线波长小于锥体微结构尺寸时，由于锥体微结构呈规则排列，光线会在锥体微结构阵列表面发生散射，散射光线在空间中分布不均匀，在特定角度会存在强烈的反射光线，也就是眩光。眩光具有较大的危害，例如，当眩光进入人眼，会对人眼造成不适、甚至伤害；当眩光进入光学器件，会导致光学器件造成损伤。
[0004]因此，如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。

技术实现思路

[0005]本申请的目的是提供一种减反射结构体及其制作方法、光学器件，以避免产生眩光。
[0006]为解决上述技术问题，本申请提供一种减反射结构体，包括：
[0007]基底；
[0008]位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的排列。
[0009]可选的，所述减反射结构体中，所述微结构的上表面为平面状。
[0010]可选的，所述减反射结构体中，所述基底和所述微结构的材料相同。
[0011]可选的，所述减反射结构体中，所述基底和所述微结构的材料不同。
[0012]可选的，所述减反射结构体中，所述微结构阵列呈螺旋排列、圆形排列、类矩形排列、拼接排列中的任一种。
[0013]可选的，所述减反射结构体中，所述微结构的形状为圆柱体、棱台、棱柱中的任一种。
[0014]可选的，所述减反射结构体中，微结构阵列的等效折射率的平方等于所述基底的折射率和空气的折射率的乘积。
[0015]本申请还提供一种减反射结构体的制作方法，包括：
[0016]获得基底；
[0017]在所述基底的上表面制备微结构阵列，其中，所述微结构阵列包括多个微结构，多
个所述微结构呈不规则的排列。
[0018]可选的，所述的减反射结构体的制作方法中，当所述微结构和所述基底的材料相同时，在所述基底的上表面制备微结构阵列包括：
[0019]在所述基底的上表面涂覆光刻胶，并烘烤所述光刻胶；
[0020]曝光所述光刻胶，并再次烘烤所述光刻胶；
[0021]显影所述光刻胶；
[0022]刻蚀所述基底形成所述微结构阵列，并去除所述光刻胶。
[0023]本申请还提供一种光学器件，所述光学器件包括上述任一种所述的减反射结构体。
[0024]本申请所提供的一种减反射结构体，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的矩形排列。
[0025]可见，本申请中的减反射结构体包括基底和设置在基底上的微结构阵列，由于微结构阵列中多个微结构呈不规则的排列，微结构阵列可以使散射光线在空间中均匀分布，所有角度的反射光强均比较小，从而防止减反射结构体表面产生眩光。
[0026]此外，本申请还提供一种具有上述优点的减反射结构体制作方法和光学器件。
附图说明
[0027]为了更清楚的说明本申请实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本申请实施例所提供的一种减反射结构体的截面示意图；
[0029]图2至图5为本申请实施例所提供的不同形状的微结构的示意图；
[0030]图6和图7为本申请所提供的微结构阵列的排列示意图；
[0031]图8为现有的微结构阵列的排列示意图；
[0032]图9至图11为本申请所提供的其他微结构阵列的排列示意图；
[0033]图12为本申请实施例所提供的另一种减反射结构体的截面示意图；
[0034]图13为本申请中的减反射结构体与现有传统的减反射结构体对不同波长光线的透过率的曲线图；
[0035]图14为本申请所提供的一种减反射结构体的制作方法的流程图。
具体实施方式
[0036]为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0037]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是本专利技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0038]正如
技术介绍
部分所述，为了增强抗反射效果可以在基底的上表面设置锥体微结构阵列，锥体微结构阵列中的多个锥体微结构呈规则的矩形排列，当光线波长小于锥体微结构尺寸时，光线会在锥体微结构阵列表面发生散射，散射光线在空间中分布不均匀，在特定角度会存在强烈的反射光线，即眩光，眩光具有较大的危害。
[0039]有鉴于此，本申请提供了一种减反射结构体，请参考图1，图1为本申请实施例所提供的一种减反射结构体的结构示意图，包括：
[0040]基底1；
[0041]位于所述基底1的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构2，多个所述微结构2呈不规则的排列。
[0042]需要说明的是，本申请中对微结构2的形状不做具体限定，例如，所述微结构2的形状为圆柱体、棱台、圆台、棱柱(如图2所示)、截头锥体(如图3所示)、曲面截头锥体(如图4所示)、圆锥体(如图5所示)、抛物锥体、金字塔中的任一种。截头棱锥即棱锥去掉尖端的一部分。
[0043]还需要说明的是，本申请中对微结构阵列的排列方式不做具体限定，可自行设置。例如，所述微结构阵列呈螺旋排列、圆形排列、类矩形排列、拼接排列中的任一种。
[0044]所述微结构阵列呈类矩形排列时，如图6和图7所示，图6和图7所示的微结构阵列可以看成对图8(现有微结构阵列的排列示意图)所示的呈规则矩形排列的多个微结构2施加一定的位移，改变其位置，本申请中对施加的位移不做限定，可自行设置，例如位移可以为非周期性位移，如图6所示，或者位移为周期性位移，如图7所示。
[0045]所述微结构阵列规则的圆形排列时，微结构2呈多个同心圆排布，当排列形式为不本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反射结构体，其特征在于，包括：基底；位于所述基底的上表面的微结构阵列，所述微结构阵列包括多个微结构，多个所述微结构呈不规则的排列。2.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构的上表面为平面状。3.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述基底和所述微结构的材料相同。4.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述基底和所述微结构的材料不同。5.如权利要求1所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构阵列呈螺旋排列、圆形排列、类矩形排列、拼接排列中的任一种。6.如权利要求2所述的减反射结构体，其特征在于，所述微结构的形状为圆柱体、棱台、棱柱中的任一种。7.如权利要求1至6任一项所述的减反射结构体...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兴祥，陈文礼，胡汉林，李松华，包悦，赵文广，刘继伟，刘文霞，王金华，孙俊伟，
申请(专利权)人：烟台睿创微纳技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：