【技术实现步骤摘要】
一种提效降本的太阳能电池硼扩散方法
[0001]本专利技术属于太阳能电池
,具体涉及一种提效降本的太阳能电池硼扩散方法。
技术介绍
[0002]目前P型晶硅电池占据晶硅电池市场的绝对份额。然而,不断追求效率提升和成本降低是光伏行业永恒的主题。N型单晶硅较常规的P型单晶硅具有少子寿命高、光致衰减小等优点,具有更大的效率提升空间,同时,N型单晶组件具有弱光响应好、温度系数低等优点。因此,N型单晶系统具有发电量高和可靠性高的双重优势。
[0003]硼扩散是N型电池核心工序。与磷扩散相比硼原子在硅中扩散速率要低,所以要达到预期的掺杂浓度及深度,硼扩散工艺温度更高、时间更长,在硅浅表层更易出现“死层”现象,制约着掺硼激活率,直接影响效率表现。再者在硼扩散工艺过程中由于直接作用在硅片的B2O3硅沸点达到1860℃,而扩散工艺温度一般在900℃~1000℃之间,B2O3在工艺过程中以液态的形式与太阳能电池片接触,导致太阳能电池片的工艺结果均匀性较差。另一方面,由于副产物BSG(硼硅玻璃)的存在,致使石英件存在粘黏现象,导致硼 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提效降本的太阳能电池硼扩散方法,其特征在于,具体包括以下步骤:步骤一:采用PECVD的方式在N型硅片上沉积掺杂非晶硅层,考虑到管式硼扩散,硼掺杂非晶硅沉积厚度在100nm
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200nm,为使得硼原子均匀分布在膜层中,生长非晶硅层过程同时通入硼源;步骤二:将步骤一后的硅片进行高温退火并完成硼掺杂:1)将硅片送入炉管,氮气氛围下升温至900℃
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1000℃,N2流量控制在1000
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3000sccm;2)氮气氛围下掺杂非晶硅层进行高温晶化及杂质分布,温度稳定在900℃
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1000℃,N2流量控制在1000sccm
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3000sccm,时间控制在30min
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200min,晶化过程实现硼原子在硅中的原位掺杂,达到替位扩散效果,激活杂质硼原子,多余的硼原子以间隙/替位扩散的方式继续向硅中扩散;3)氮、氧气氛围下掺杂晶硅层进行杂质再分布,温度稳定在900℃
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1000℃,N2流量控制在100...
【专利技术属性】
技术研发人员:欧文凯,董思敏,向亮睿,
申请(专利权)人:普乐新能源科技徐州有限公司,
类型:发明
国别省市:
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