一种高耐水性低压化成箔及其化成方法和应用技术

本发明专利技术提供了一种高耐水性低压化成箔及其化成方法和应用。该制备方法包括将铝箔进行液中给电化成处理，并且所述液中给电化成处理的化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液，其中，五硼酸铵与己二酸铵的质量比为(1

【技术实现步骤摘要】
一种高耐水性低压化成箔及其化成方法和应用


[0001]本专利技术涉及铝电解电容器化成箔制造
，具体涉及一种高耐水性低压化成箔、化成方法及应用。

技术介绍

[0002]电解电容器家族中，铝电解电容器因性能上乘，价格低廉，用途广泛，近20年来在世界范围内得到快速发展。铝电解电容器根据使用环境分为高压用铝电解电容器工作电压、低压用铝电解电容器，高压用和低压用铝电解电容器由于电气性能不同，化成箔的氧化膜微观结构及制造工艺都有区别。高压用铝电解电容器化成箔氧化膜的表面呈立柱状微孔，而低压用铝电解电容器化成箔氧化膜的表面呈连续的海绵状微孔。
[0003]低压铝电解电容器电极箔的制造，需要在铝箔表面形成一层致密的氧化膜，作为电容器的工作介质。其方法常采用化成处理方法，所谓化成处理是用化学或电化学方法处理金属表面，得到金属化合物的覆膜。
[0004]由于铝电解电容器的小型化、轻量化要求日益增长，需要用到静电容量更高、机械强度更加优异的阳极用铝箔(即化成箔)。化成箔是在铝电解电容器中用作阳极的铝箔，其由高纯铝箔经过腐蚀和化成工序制成。但现有的铝箔在腐蚀过程中，经常会出现腐蚀不均匀的现象，局部腐蚀过度，导致腐蚀箔比容不高，各种性能下降，因此电极箔腐蚀不均一直是各厂商重点关注的问题。
[0005]目前阳极箔的制备方法，主要是通过前处理对腐蚀箔表面改性处理或者表面保护，减少化成中水合氧化膜的生成，而化学物质主要通过吸附或者络合作用与铝基体结合，作用力较弱，在加电情况下易脱落或者分解，制备的低压化成箔的耐纹波电流能力仍然较差。

技术实现思路

[0006]为了克服上述现有技术的缺陷，本专利技术提出了一种高耐水性低压化成箔的化成方法及化成箔。
[0007]具体通过以下技术方案实现：
[0008]一种高耐水性低压化成箔的化成方法，用于对铝箔进行低压化成，包括如下步骤：
[0009]将铝箔进行液中给电化成处理，并且所述液中给电化成处理的化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液，其中，五硼酸铵与己二酸铵的质量比为(1
‑
3)：10。
[0010]优选地，所述液中给电化成处理的控制参数包括：温度为20
‑
30℃，pH值为7.0
‑
7.5，电导率为85
‑
90ms/cm2。
[0011]进一步地，所述液中给电化成处理中，采用若干钛铱极板作为给电电极，所述钛铱极板包含钛基板以及覆设于钛基板表面的铱层，所述铱层的厚度为8
‑
10mm。
[0012]进一步地，所述液中给电化成处理时中，铝箔在化成液的浸没部分呈W形弯折，所述钛铱极板设有至少3片且分布设置于铝箔弯折面之间。
[0013]进一步地，还包括多级化成处理，所述多级化成处理中化成液为己二酸铵配置液；所述液中给电化成处理设置于所述多级化成处理之间。
[0014]进一步地，所述多级化成处理之后，还包括清洗处理、修复处理、干燥处理。
[0015]进一步地，所述化成方法具体包括如下步骤：
[0016]S1、将铝箔进行前两级连续化成处理，得到二级化成铝箔；
[0017]S2、液中给电化成处理：在温度为20
‑
30℃，pH值为7.0
‑
7.5，电导率为85
‑
90ms/cm2的条件下，将二级化成铝箔进行液中给电化成处理，其中化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液；
[0018]S3、将经液中给电化成处理的二级化成铝箔进行后两级连续化成处理，得到四级化成铝箔；
[0019]S4、清洗：将四级化成铝箔放入纯水中进行清洗处理；
[0020]S5、P处理：将清洗后的四级化成铝箔放入至磷酸配置液进行P处理；
[0021]S6、修复处理：将经过P处理的四级化成铝箔进行修复处理，得到修复化成铝箔；
[0022]S7、干燥：将修复化成铝箔进行干燥处理，得到化成箔产品。
[0023]进一步地，所述化成方法具体包括如下步骤：
[0024]S1、三级连续化成处理：将铝箔放入至温度为80
±
5℃、pH为6
±
2、浓度为8％的己二酸铵配置液进行三级连续化成处理，得到三级化成铝箔；
[0025]S2、液中给电化成处理：在温度为20
‑
30℃，pH值为7.0
‑
7.5，电导率为85
‑
90ms/cm2的条件下，将三级化成铝箔进行液中给电化成处理，其中化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液；
[0026]S3、清洗：将三级化成铝箔放入纯水中进行清洗处理；
[0027]S4、P处理：将清洗后的三级化成铝箔放入至温度为65
±
5℃、pH为1.5
±
0.5、浓度为5％的磷酸配置液进行P处理，时间为5
±
3分钟，得到P处理化成铝箔；
[0028]S5、修复处理：将热处理化成铝箔放入至温度为80
±
5℃、pH为1.5
±
0.5、浓度为1％的磷酸配置液进行修复处理，时间为10
±
5分钟，电流为150
±
100A，得到修复化成铝箔；
[0029]S6、干燥：将修复化成铝箔进行干燥处理，得到化成箔产品。
[0030]本专利技术还提供一种高耐水性低压化成箔，所述高耐水性低压化成箔由上述化成方法制备得到。
[0031]本专利技术还提供上述高耐水性低压化成箔的应用，所述高耐水性低压化成箔可应用于高耐水低压铝电解电容器中，具体为在5.0
‑
70VF的高耐水性低压铝电解电容器中作为电极箔应用。
[0032]本专利技术具有以下有益效果：
[0033]本专利技术的技术方案通过在液中给电处理的添加液中，加入了五硼酸铵，五硼酸铵与乙二酸铵的配合作用，改善了因电流集中现象产生的化成箔氧化膜缺陷，从而提高化成箔的耐水性以及强度。另外，本专利技术的技术方案通过调整钛基板上铱层的厚度，改善了钛基板表面的铱涂层因为电流释放而造成的脱落，通过铱涂层增厚处理改善电流释放的稳定性。
具体实施方式
[0034]下面将对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0035]本专利技术在液中给电的化成处理的步骤中，使用的是五硼酸铵与己二酸铵的混合液，五硼酸铵与己二酸铵的配合，可以使电流密度在铝箔表面分散得更加均匀。若不加五硼酸铵，会导致部分表面的电流集中释放，因此造成蚀孔产生溶融现象，容易使氧化膜的局部表面产生大而深的缺陷。而加了五硼酸铵，能够减少氧化膜局部密集的缺陷生成，使放电更均衡。
[0036]本专利技术中还将钛铱极板的铱层由常规的5mm本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高耐水性低压化成箔的化成方法，用于对铝箔进行低压化成，其特征在于，包括如下步骤：将铝箔进行液中给电化成处理，并且所述液中给电化成处理的化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液，其中，五硼酸铵与己二酸铵的质量比为(1
‑
3)：10。2.根据权利要求1所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，所述液中给电化成处理的控制参数包括：温度为20
‑
30℃，pH值为7.0
‑
7.5，电导率为85
‑
90ms/cm2。3.根据权利要求1所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，所述液中给电化成处理中，采用若干钛铱极板作为给电电极，所述钛铱极板包含钛基板以及覆设于钛基板表面的铱层，所述铱层的厚度为8
‑
10mm。4.根据权利要求3所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，所述液中给电化成处理时中，铝箔在化成液的浸没部分呈W形弯折，所述钛铱极板设有至少3片且分布设置于铝箔弯折面之间。5.根据权利要求1所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，还包括多级化成处理，所述多级化成处理中化成液为己二酸铵配置液；所述液中给电化成处理设置于所述多级化成处理之间。6.根据权利要求1所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，所述多级化成处理之后，还包括清洗处理、修复处理、干燥处理。7.根据权利要求6所述的高耐水性低压化成箔的化成方法，其特征在于，所述化成方法具体包括如下步骤：S1、将铝箔进行前两级连续化成处理，得到二级化成铝箔；S2、液中给电化成处理：在温度为20
‑
30℃，pH值为7.0
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7.5，电导率为85
‑
90ms/cm2的条件下，将二级化成铝箔进行液中给电化成处理，其中化成液为五硼酸铵与己二酸铵的混合液；S3、将经液中给电化成处理的二级化成铝箔进行后两级连续化成处理，得...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢国良，
申请(专利权)人：立敦电子科技惠州有限公司，
类型：发明
国别省市：