一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板技术

本申请公开了一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板，所述补偿方法包括如下步骤：显示基板提供步骤，提供一显示基板，包括两个以上显示区域，每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板，所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜；厚度获取步骤，获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度；以及厚度比对步骤，比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差；厚度补偿步骤，当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿。膜进行第一厚度补偿。膜进行第一厚度补偿。

【技术实现步骤摘要】
一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板。

技术介绍

[0002]随着显示技术的发展，图案化的制作技术越来越受到人们的关注，目前的图案化技术主要为黄光制程及喷墨打印技术，其中，黄光制程的工艺步骤多并且繁杂，而喷墨打印在量产时对喷头数量和多次对位均有较高的要求，这些技术在同一基板的多次图案化的过程中都具有一定的局限性。
[0003]目前，一般采用黄光制程及喷墨打印技术制备纳米粒子薄膜，但这些技术制备出来的纳米粒子薄膜因厚度不均而导致显示面板无法具有均匀电场。为了解决使得显示面板具有均匀的电场，有人提出通过精确控制显示面板上下电极之间的距离，使得显示面板具有均匀的电场。但是，在控制显示面板上下电极之间的距离时，显示面板的上基板会因为重力的影响会发生形变，以致于上基板与下基板之间的间距无法保持处处相等，因此，设于上基板与下基板之间的纳米粒子薄膜还是无法具有均匀的膜厚。
[0004]另外，由于上基板经常会被重复利用，上基板的电极容易出现厚度不均匀的现象。由于上基板的电极厚度不均会影响显示面板的局部电场。因此，在纳米粒子沉积形成纳米粒子薄膜后，纳米粒子薄膜不同位置的膜厚也会不同。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于，提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板，以解决显示面板的纳米粒子薄膜正面膜厚不均，以获得均匀电场的技术问题。
[0006]为实现上述目的，本专利技术提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法，所述补偿方法包括如下步骤：显示基板提供步骤，提供一显示基板，包括两个以上显示区域，每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板，所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜；厚度获取步骤，获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度；以及厚度比对步骤，比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差；厚度补偿步骤，当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿；和/或当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
[0007]进一步的，在所述厚度补偿步骤中，当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度的95％时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿；或者当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度的105％时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。
[0008]进一步的，所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板与所述第
二极板之间，或者增加需厚度补偿的显示区域的电压，以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
[0009]进一步的，所述第二厚度补偿为降低所述第一极板与所述第二极板之间的纳米粒子溶液的浓度，或者减小需厚度补偿的显示区域的电压，以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。
[0010]进一步的，在所述厚度补偿步骤之后，还包括：当下一显示基板的结构与上一显示基板的结构相同时，执行提供显示基板步骤及厚度补偿步骤。
[0011]进一步的，在所述厚度补偿的步骤中，向所述显示区域的第一子极板及所述第二极板施加电压，以使所述显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
[0012]进一步的，所述第一极板包括两个以上间隔设置的第一子极板；在所述厚度补偿的步骤中，向所述显示区域的第一子极板及与该第一子极板相邻设置的另一第一子极板施加电压，以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与所述目标膜的厚度相同。
[0013]进一步的，所述显示基板包括：相对设置的第一基板与第二基板；其中，所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板，所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧；所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板，所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧；以及间隔结构，设置于所述第一基板与所述第二基板之间，且靠近所述第一基板与所述第二基板的边缘处。
[0014]进一步的，所述显示基板包括：相对设置的第一基板与第二基板；其中，所述第一基板包括第一基底以及所述第一极板，所述第一极板设置于所述第一基底上且靠近所述第二基板的一侧；所述第二基板包括第二基底以及所述第二极板，所述第二极板设置于所述第二基底上且靠近所述第一基板的一侧；以及间隔结构，设置于所述第一基板与所述第二基板之间；其中，所述间隔结构包括两个以上间隔柱，所述间隔柱间隔设置于所述第一基板与所述第二基板之间。
[0015]本专利技术的技术效果在于，提供一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法及显示面板，通过获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度，再比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差，并且根据纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差，对纳米粒子薄膜进行厚度补偿，从而使得显示面板具有均匀的电场。
附图说明
[0016]下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。
[0017]图1为本申请实施例提供的显示基板的结构示意图一。
[0018]图2为本申请实施例提供的显示基板的结构示意图二。
[0019]图3为本申请实施例提供的纳米粒子薄膜的厚度与电场强度和浓度的乘积关系图。
[0020]图4为本申请实施例1提供的用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法的流程图。
[0021]图5为本申请实施例2提供的用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法的流程图。
[0022]附图部件标识如下：
[0023]1、第一基板；
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2、第二基板；
[0024]3、间隔结构；
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4、纳米粒子薄膜；
[0025]11、第一基底；
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12、第一极板；
[0026]21、第二基底；
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22、第二极板；
[0027]31、间隔柱；
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10、显示区域；
[0028]100、显示基板；
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121、第一子基板。
具体实施方式
[0029]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0030]如图1所示，本申请实施例提供一种显示本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于补偿纳米粒子薄膜的厚度的补偿方法，其特征在于，所述补偿方法包括如下步骤：显示基板提供步骤，提供一显示基板，包括两个以上显示区域，每一显示区域包括相对设置的第一极板与第二极板，所述第一极板与所述第二极板之间填充有纳米粒子溶液以形成纳米粒子薄膜；厚度获取步骤，获取各个显示区域的纳米粒子薄膜的厚度以及目标膜的厚度；以及厚度比对步骤，比对各个显示区域的纳米粒子薄膜与所述目标膜之间的厚度差；厚度补偿步骤，当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿；和/或当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。2.根据权利要求1所述的补偿方法，其特征在于，在所述厚度补偿步骤中，当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度小于所述目标膜的厚度的95％时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第一厚度补偿；或者当一显示区域的纳米粒子薄膜的厚度大于所述目标膜的厚度的105％时，向该显示区域的纳米粒子薄膜进行第二厚度补偿。3.根据权利要求1或2所述的补偿方法，其特征在于，所述第一厚度补偿为再次填充纳米粒子溶液于所述第一极板与所述第二极板之间，或者增加需厚度补偿的显示区域的电压，以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。4.根据权利要求1所述的补偿方法，其特征在于，所述第二厚度补偿为降低所述第一极板与所述第二极板之间的纳米粒子溶液的浓度，或者减小需厚度补偿的显示区域的电压，以使该显示区域的纳米粒子薄膜的厚度与目标膜的厚度相同。5.根据权利要求1所述的补偿方法，其特征在于，在所述厚度补偿步骤之后，还包括：当下一显示基板的结构与上一显示基板的结构相同...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈黎暄，赵金阳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：