一种三色探测器制造技术

技术编号:32181942 阅读:43 留言:0更新日期:2022-02-08 15:44
本申请公开了一种三色探测器。包括:探测器本体;所述探测器本体包括:自下至上依次堆叠设置的p型锑基超晶格材料层、p型拓扑绝缘体薄膜材料层、BN二维材料层和p型AlGaN材料层;本申请具体地利用自下至上依次堆叠设置的p型锑基超晶格材料层、p型拓扑绝缘体薄膜材料层、BN二维材料层和p型AlGaN材料层形成探测器本体,并且,p型AlGaN材料层具备上金属电极,p型锑基超晶格材料层具备中金属电极与下金属电极,通过分别调节上金属电极、中金属电极及下金属电极所施加的偏压,以使p型锑基超晶格材料层可探测红外波段与可见光波段、p型AlGaN材料层可探测紫外波段,实现三种波段探测。实现三种波段探测。实现三种波段探测。

【技术实现步骤摘要】
一种三色探测器


[0001]本公开一般涉及半导体光电探测器
,具体涉及一种三色探测器。

技术介绍

[0002]光电探测器在国民经济以及军事等各个领域有广泛的用途。基于不同波段探测的光电探测器,对不同领域的探测有着重要作用。在可见以及近红外,光电探测器主要应用于射线测量和探测、工业自动控制、光度测量等方面;在紫外波段主要用途由紫外制导、紫外告警、紫外通信、紫外对抗、电力监测等军用和民用领域。传统的以氮化镓/铝镓氮体系为代表的III族氮化物材料体系,是实现紫外探测的最佳材料,但难以实现可见及近红外的探测,而基于锑基超晶格材料光探测器在可见光及近红外方面日益成熟,然而难以向紫外探测扩展。因此,我们提出一种三色探测器,用以解决上述的单一材料的光探测器响应受限,探测波段有限的问题。

技术实现思路

[0003]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种提高器件响应度,探测波段范围广,集成简单且易于实现的三色探测器。
[0004]第一方面,本申请提供一种三色探测器,包括:探测器本体;
[0005]所述探测器本体包括:自本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种三色探测器,其特征在于,包括:探测器本体;所述探测器本体包括:自下至上依次堆叠设置的p型锑基超晶格材料层、p型拓扑绝缘体薄膜材料层、BN二维材料层和p型AlGaN材料层;所述p型AlGaN材料层具备上金属电极(12);所述p型锑基超晶格材料层具备中金属电极(6)与下金属电极(3);分别调节所述上金属电极(12)、所述中金属电极(6)及所述下金属电极(3)所施加的偏压,以使所述p型锑基超晶格材料层可探测红外波段与可见光波段、所述p型AlGaN材料层可探测紫外波段。2.根据权利要求1所述的一种三色探测器,其特征在于,所述p型锑基超晶格材料层包括:p型GaSb衬底层(1),p型SLS下接触层(2),设置在所述p型GaSb衬底层(1)的上表面;p型SLS吸收层(4),设置在所述p型SLS下接触层(3)的上表面;所述下金属电极(3)位于所述p型SLS下接触层(2)上表面,且其环设在所述p型SLS吸收层(4)周围;p型SLS上接触层(5),设置在所述p型SLS吸收层(4)的上表面。3.根据权利要求2所述的一种三色探测器,其特征在于,所述p型拓扑绝缘体薄膜材料层为p型拓扑绝缘体可见光吸收层(7),且其置于所述p型SLS上接触层(5)的上表面;所述中金属电极(6)位于所述p型SLS上接触层(5)的上表面,且其环设在所述p型拓扑绝缘体可见光吸收层(7)周围。4.根据权利要求3所述的一种三色探测器,其特征在于,所述BN二维材料层为二维氮化硼薄膜势垒层(8),且其置于所述p型拓扑绝缘体可见光吸收层(7)的上表面。5.根据权利要求4所述的一种三色探测器,其特征在于,所述p型AlGaN材料层包括:p型AlGaN紫外吸收层(9),设置在所述二维氮化硼薄膜势垒层(8)的上表面;p型AlGaN接触层(10),设置在所述p型AlGaN紫外吸收层(9)的上表面;所述上金属电极(12)位于所述p型AlGaN接触层(10)的上表面。6.根据权利要求1所述的一种三色探测器,其特征在于,所述上金属电极(12)、所述中金属电极(6)及所述下金...

【专利技术属性】
技术研发人员:张云霄李爱民孙文宝
申请(专利权)人:天津津航技术物理研究所
类型:发明
国别省市:

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