一种硅烷膜电化学沉积装置制造方法及图纸

技术编号:32169853 阅读:19 留言:0更新日期:2022-02-08 15:27
本实用新型专利技术公开了一种硅烷膜电化学沉积装置,包括台架,台架上设置有硅烷液存储槽、电化学沉积槽和过滤装置,过滤装置包括水泵和过滤器,水泵的进口通过三通管件分别与供液管和回液管连通,供液管和回液管上均设置有控制阀门,供液管的进口与硅烷液存储槽连通,回液管的进口与电化学沉积槽连通;水泵的出口通过滤液进管与过滤器的进口连通,过滤器的出口通过滤液出管与电化学沉积槽连通。本实用新型专利技术可对电化学沉积的硅烷液进行循环过滤,得到较为纯净的硅烷液,实现了硅烷液可多次利用,节约成本,减少浪费,同时提高了硅烷液的稳定性以及电化学沉积硅烷膜的性能。电化学沉积硅烷膜的性能。电化学沉积硅烷膜的性能。

【技术实现步骤摘要】
一种硅烷膜电化学沉积装置


[0001]本技术涉及电化学沉积领域,尤其涉及一种硅烷膜电化学沉积装置。

技术介绍

[0002]硅烷电化学处理是一种新兴金属表面防护预处理技术,利用硅烷偶联剂的特殊分子结构对金属或非金属表面处理,其工艺具有成本低廉,操作简单,环保无污染等优点,有望完全取代铬化和磷化处理工艺。
[0003]传统硅烷化处理工艺一般采用浸涂法,即将预处理后的金属工件浸泡在预先水解的硅烷液中,一段时间后取出干燥即可。此方法工艺简单,但成膜效果差,表面膜层薄,对基体的覆盖率低,长期防护效果差。
[0004]现有技术中,电化学沉积法制备硅烷膜可以有效改善膜层质量,提高膜层厚度,提高膜层对基体的覆盖率。电化学沉积法一般将待处理的金属与直流电源负极相连,铂片与电源正极相连,一定的阴极电位下待处理表面附近微区溶液的pH值升高,有利于硅烷缩聚反应,促进硅烷膜沉积,增加膜层厚度,改善膜层质量。
[0005]但是,通过电化学沉积法制备硅烷膜后,硅烷液易出现沉淀现象,影响硅烷液的稳定性,恶化硅烷膜性能。

技术实现思路

[0006]基于上述问题,本技术的目的是提供一种具有过滤功能的硅烷膜电化学沉积装置,本技术采用如下技术方案:
[0007]本技术提供了一种硅烷膜电化学沉积装置,包括台架,所述台架上设置有硅烷液存储槽、电化学沉积槽和过滤装置,所述电化学沉积槽的一侧设置有机械臂,所述机械臂上安装有用于夹持样件的机械手;
[0008]所述过滤装置包括水泵和过滤器,所述水泵的进口通过三通管件分别与供液管和回液管连通,所述供液管和回液管上均设置有控制阀门,所述供液管的进口与所述硅烷液存储槽连通,所述回液管的进口与所述电化学沉积槽连通;所述水泵的出口通过滤液进管与所述过滤器的进口连通,所述过滤器的出口通过滤液出管与所述电化学沉积槽连通。
[0009]进一步的,所述台架的下方设置有废液存储槽,所述电化学沉积槽的底部设置有排废管,所述排废管的下端延伸至所述废液存储槽中。
[0010]进一步的,所述电化学沉积槽的底部设置有加热元件。
[0011]进一步的,所述机械臂的一侧设置有载物托盘。
[0012]进一步的,所述台架的一侧设置有电器控制台。
[0013]与现有技术相比,本技术的有益技术效果:
[0014]本技术可对电化学沉积的硅烷液进行循环过滤,得到较为纯净的硅烷液,实现了硅烷液可多次利用,节约成本,减少浪费,同时提高了硅烷液的稳定性以及电化学沉积硅烷膜的性能。
附图说明
[0015]下面结合附图说明对本技术作进一步说明。
[0016]图1为本技术硅烷膜电化学沉积装置的结构示意图;
[0017]附图标记说明:1、台架;2、硅烷液存储槽;3、电化学沉积槽;4、过滤装置;401、水泵;402、过滤器;403、供液管;404、回液管;405、控制阀门; 406、滤液进管;407、滤液出管;5、机械臂;501、机械手;6、废液存储槽; 7、排废管;8、载物托盘;9、电器控制台。
具体实施方式
[0018]为了使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本专利技术作进一步的详细说明。
[0019]如图1所示,本实施例中公开了一种硅烷膜电化学沉积装置,包括台架1,台架1上设置有硅烷液存储槽2、电化学沉积槽3和过滤装置4。
[0020]过滤装置4包括水泵401和过滤器402,水泵401的进口通过三通管件分别与供液管403和回液管404连通,供液管403和回液管404上均设置有控制阀门405,供液管403的进口与硅烷液存储槽2连通,回液管404的进口与电化学沉积槽3连通;水泵401的出口通过滤液进管406与过滤器402的进口连通,过滤器402的出口通过滤液出管407与电化学沉积槽3连通。
[0021]硅烷液存储槽2通过供液管403、水泵401、滤液进管406、过滤器402和滤液出管407向电化学沉积槽3中补充硅烷液。当电化学沉积槽3中的硅烷液出现沉积现象时,通过回液管404、水泵401、滤液进管406、过滤器402和滤液出管407实现电化学沉积槽3中硅烷液的循环过滤。
[0022]在台架1的下方设置有废液存储槽6,电化学沉积槽3的底部设置有排废管 7,电化学沉积槽3中废液通过排废管7流至废液存储槽6中,排废管7上安装有控制阀门。
[0023]电化学沉积槽3的底部设置有加热元件,加热元件与温控器电电连接,通过加热元件可加热电沉积液并保持合适的反应温度,电化学沉积过程中硅烷液温度由温控器控制,调控不同温度条件保证电化学沉积硅烷膜质量。
[0024]电化学沉积槽3的一侧设置有机械臂5,机械臂5上安装有机械手501,机械臂5的一侧设置有载物托盘8。机械手501将样件夹持并通过机械臂5完成转移工作。
[0025]台架1的一侧设置有电器控制台9,电器控制台9内安装有控制系统,通过操控电器控制台9上的控制面板可完成供液、过滤、温控、排废液、样件转移等操作。
[0026]以上所述的实施例仅是对本技术的优选方式进行描述,并非对本技术的范围进行限定,在不脱离本技术设计精神的前提下,本领域普通技术人员对本技术的技术方案做出的各种变形和改进,均应落入本技术权利要求书确定的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅烷膜电化学沉积装置,包括台架(1),其特征在于:所述台架(1)上设置有硅烷液存储槽(2)、电化学沉积槽(3)和过滤装置(4),所述电化学沉积槽(3)的一侧设置有机械臂(5),所述机械臂(5)上安装有用于夹持样件的机械手(501);所述过滤装置(4)包括水泵(401)和过滤器(402),所述水泵(401)的进口通过三通管件分别与供液管(403)和回液管(404)连通,所述供液管(403)和回液管(404)上均设置有控制阀门(405),所述供液管(403)的进口与所述硅烷液存储槽(2)连通,所述回液管(404)的进口与所述电化学沉积槽(3)连通;所述水泵(401)的出口通过滤液进管(406)与所述过滤器(...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘敬春郝毅超纪旭东郝建军马跃进
申请(专利权)人:河北农业大学
类型:新型
国别省市:

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