一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途技术

本发明专利技术涉及一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途，属于分子筛膜技术领域。通过原位骨架掺杂将B掺杂进入DDR分子筛的骨架，提高分子筛膜对CO2的吸附并减小膜的孔径，解决CO2/H2分离选择性较低的问题。选择性较低的问题。选择性较低的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途


[0001]本专利技术涉及一种B掺杂分子筛膜、制备方法及用途，属于分子筛膜


技术介绍

[0002]DDR分子筛膜由于其对CO2表现出优先吸附，且在分离CO2/CH4时分子筛分作用使得CH4无法进入分子筛的孔道，因而表现出较高的分离选择性。但是当其用于分离CO2/H2时，由于H2的动力学直径小于分子筛的孔径，单单依靠CO2的优先吸附，很难达到很高的CO2/H2分离选择性。Zheng等人
[1]通过二次生长法制备的DDR分子筛膜在常温下表现出优先透CO2，CO2/H2选择性为1.4，王琳等人
[83]在臭氧环境下低温(473K)脱除分子筛膜模板，制备了高性能无缺陷的DDR分子筛膜，然而，该膜在常温分离等摩尔CO2/H2时，理想选择性仅为5。
[0003][1]Mirfendereski M,Sadrzadeh M,Mohammadi T.Effect of synthesis parameters on single gas permeation through T
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种B掺杂分子筛膜，包括支撑层和分离层，其特征在于，所述的分离层材质是DDR分子筛，且分子筛骨架中部分Si被B取代。2.根据权利要求1所述的B掺杂分子筛膜，其特征在于，所述的分离层的厚度1
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20μm。3.根据权利要求1所述的B掺杂分子筛膜，其特征在于，所述的支撑层的材质为多孔陶瓷。4.权利要求1所述的B掺杂分子筛膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤a，将Sigma
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1分子筛晶种制备成晶种液，涂覆于支撑体的表面；步骤b，将步骤a中得到的支撑体与含有硼源的合成液接触并进行水热合成反应，干燥后，脱模板剂，得到B掺杂分子筛膜。5.根据权利要求4所述的B掺杂分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的Sigma
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1分子筛晶种是通过二次生长法制备得到。6.根据权利要求5所述的B掺杂分子筛膜的制备方法，其特征在于，所述的二次生长法包括：将原位合成得到Sigma
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1分子筛进行球磨处理后，置于晶种合成液中进行水热合成反应；晶种合成液中的原料摩尔配比ADA(金刚烷胺):SiO2:Al2O3:NaOH:H2O＝5
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20:30
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100:1
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4:1
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【专利技术属性】
技术研发人员：顾学红，张玉亭，仇旭峰，洪周，杜鹏，
申请(专利权)人：南京工业大学，
类型：发明
国别省市：