本发明专利技术公开一种发声装置、发声装置的校准方法及发声单元，所述发声装置包括两个发声单元，每一所述发声单元包括腔体、发声单体以及调节装置，所述发声单体设于所述腔体内将所述腔体间隔为前腔和后腔，所述调节装置包括调节板和驱动部，所述调节板的一端转动安装于所述后腔的一内壁，所述驱动部驱动所述调节板活动以调节所述后腔的有效体积。本发明专利技术所述的发声装置通过改变其中一所述发声单元中所述调节板的位置，从而对应调节其峰值频率，使得两个所述发声单元的频响参数之间的差值在预设范围内，使得两个所述发声单元的一致性更好，从而具有较好的远场消声效果。而具有较好的远场消声效果。而具有较好的远场消声效果。
【技术实现步骤摘要】
发声装置、发声装置的校准方法及发声单元
[0001]本专利技术涉及发声装置
，特别涉及发声装置、发声装置的校准方法及发声单元。
技术介绍
[0002]目前市场上的VR类、AR类产品逐渐增多，人们在满足了日常使用的基础上，对隐私性的要求越来越高。目前市面上的产品已经有常用的单个发声单元的远场消声方案以及双发声单元的远场消声方案。而双发声单元由于组合的灵活性以及可实现功能的多样会逐渐成为主流。但对于双发声单元而言，发声单元的差异是不可避免的，而发声单元的一致性会直接影响远场消声。
技术实现思路
[0003]本专利技术的主要目的是提出一种发声装置、发声装置的校准方法及发声单元，旨在解决目前的双发声单元构成的发声装置中，由于单个发声单元的出厂差异而对远场消声造成影响的问题。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提出一种发声装置，包括：
[0005]两个发声单元，各所述发声单元包括腔体、发声单体以及调节装置，所述发声单体设于所述腔体内将所述腔体间隔为前腔和后腔，所述调节装置包括调节板和驱动部，所述调节板的一端转动安装于所述后腔的一内壁，所述驱动部驱动所述调节板活动以调节所述后腔的有效体积。
[0006]可选地，各所述发声单元中，所述后腔的内壁在所述调节板的转动轨迹上设置多个密封配合部，所述调节板的另一端可活动至与其中一所述密封配合部密封连接。
[0007]可选地，多个所述密封配合部之间呈夹角设置，相邻的两个所述密封配合部之间的夹角为α，其中，0
°
＜α＜90
°
。
[0008]可选地，多个所述密封配合部按照所述调节板的预设转动角度间隔设置。
[0009]可选地，多个所述密封配合部包括靠近所述前腔一端的限位部，所述限位部凸设于所述后腔的内壁以限制所述调节板的位移。
[0010]本专利技术还提出一种发声装置的校准方法的校准方法，包括以下步骤：
[0011]获取两个所述发声单元的频响参数；
[0012]根据所述频响参数之间的差值，控制至少一所述发声单元的调节装置和/或输入电压，使得两个所述发声单元的频响参数之间的差值在预设范围内。
[0013]可选地，所述频响参数包括峰值频率和/或低谷阻抗；
[0014]获取两个所述发声单元的频响参数的步骤，包括：
[0015]在向两个所述发声单元分别以额定电压播放扫频信号时，获取两个所述发声单元返回的电流信号；
[0016]根据所述额定电压和获取的两个电流信号，计算得到两个所述发声单元的阻抗曲
线；
[0017]根据两个所述阻抗曲线得到两个所述发声单元的峰值频率f
01
、f
02
、和/或两个所述发声单元的低谷阻抗Z
e1
、Z
e2
。
[0018]可选地，所述频响参数包括峰值频率；
[0019]根据所述频响参数之间的差值，控制至少一所述发声单元的调节装置和/或输入电压，使得两个所述发声单元的频响参数之间的差值在预设范围内的步骤，包括：
[0020]比较两个所述发声单元的峰值频率f
01
和峰值频率f
02
，得到峰值频率差值；
[0021]根据所述峰值频率差值，控制至少一所述发声单元的调节装置，使得两个所述发声单元的峰值频率差值在预设范围内。
[0022]可选地，根据所述峰值频率差值，控制至少一所述发声单元的调节装置，使得两个所述发声单元的峰值频率差值在预设范围内的步骤，包括：
[0023]根据所述峰值频率差值以及预设映射关系，获得需要调整的所述发声单元的有效后腔体积大小；
[0024]根据获取的所述有效后腔体积大小，控制对应的所述驱动部驱动所述调节板活动，以调节对应的所述后腔的有效体积。
[0025]可选地，所述后腔的内壁设置在所述调节板的转动轨迹上的多个密封配合部，所述调节板的另一端可活动至与其中一所述密封配合部密封连接；
[0026]根据获取的所述有效后腔体积大小，控制对应的所述驱动部驱动所述调节板活动，以调节对应的所述后腔的有效体积的步骤，包括：
[0027]根据获取的所述有效后腔体积大小，确认满足该有效后腔体积大小所对应的密封配合部；
[0028]控制对应的所述驱动部驱动所述调节板活动以与确认的所述密封配合部密封配合，以完成所述后腔的有效体积的调节。
[0029]可选地，所述频响参数包括低谷阻抗；
[0030]根据所述频响参数之间的差值，控制至少一所述发声单元的调节装置和/或输入电压，使得两个所述发声单元的频响参数之间的差值在预设范围内的步骤，包括：
[0031]比较两个所述发声单元的低谷阻抗Z
e1
和低谷阻抗Z
e2
，得到低谷阻抗差值；
[0032]根据所述低谷阻抗差值以及预设映射关系，控制至少一所述发声单元的输入电压，使得两个所述发声单元的低谷阻抗差值在预设范围内。
[0033]本专利技术还提出一种发声单元，包括腔体、发声单体以及调节装置，所述发声单体设于所述腔体内将所述腔体间隔为前腔和后腔，所述调节装置包括调节板和驱动部，所述调节板的一端转动安装于所述后腔的一内壁，所述驱动部驱动所述调节板活动以调节所述后腔的有效体积。
[0034]本专利技术的技术方案中，所述发声装置中包括两个发声单元，由于两个所述发声单元的出厂频响差异，造成二者的共振峰值和灵敏度具有差异，从而在所述发声装置使用时影响消声效果，每一所述发声单元中，所述调节板将所述后腔分割成彼此独立的两个腔室，对应所述前腔位置的腔室的体积为有效体积，可以通过调整所述调节板与其安装的内壁面之间的夹角而达到调节所述后腔的目的，两个所述发声单元的后腔的有效体积都可以通过所述调节装3进行调节，从而使得该发声单元与另一发声单元的频响在一定的误差范围里，
具有较好的一致性，从而在两个所述发声单元工作的过程中具有较好的远场消声效果，使得所述发声装置能够获得较好的音质效果，提高用户的体验感。
附图说明
[0035]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。
[0036]图1为本专利技术提供的发声装置一实施例的立体示意图；
[0037]图2为图1中局部剖面示意图；
[0038]图3为图2中后腔的放大示意图；
[0039]图4为本专利技术提供的发声装置的校准方法一实施例的流程示意图；
[0040]图5为图4中发声装置的校准方法另一实施例的流程示意图；
[0041]图6为图4中的阻抗曲线图。
[0042]附图标号说明：
[0043]标号名称标号名称100发声装置22本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种发声装置，其特征在于，包括：两个发声单元，各所述发声单元包括腔体、发声单体以及调节装置，所述发声单体设于所述腔体内将所述腔体间隔为前腔和后腔，所述调节装置包括调节板和驱动部，所述调节板的一端转动安装于所述后腔的一内壁，所述驱动部驱动所述调节板活动以调节所述后腔的有效体积。2.如权利要求1所述的发声装置，其特征在于，各所述发声单元中，所述后腔的内壁在所述调节板的转动轨迹上设置多个密封配合部，所述调节板的另一端可活动至与其中一所述密封配合部密封连接。3.如权利要求2所述的发声装置，其特征在于，多个所述密封配合部之间呈夹角设置，相邻的两个所述密封配合部之间的夹角为α，其中，0
°
＜α＜90
°
。4.根据权利要求2或3所述的发声装置，其特征在于，多个所述密封配合部按照所述调节板的预设转动角度间隔设置。5.根据权利要求2或3所述的发声装置，其特征在于，多个所述密封配合部包括靠近所述前腔一端的限位部，所述限位部凸设于所述后腔的内壁以限制所述调节板的位移。6.一种发声装置的校准方法，其特征在于，所述发声装置包括两个发声单元，每一所述发声单元包括腔体、发声单体以及调节装置，所述发声单体设于所述腔体内将所述腔体间隔为前腔和后腔，所述调节装置包括调节板和驱动部，所述调节板的一端转动安装于所述后腔的一内壁，所述驱动部驱动所述调节板活动以调节所述后腔的有效体积，所述发声装置的校准方法包括以下步骤：获取两个所述发声单元的频响参数；根据所述频响参数之间的差值，控制至少一所述发声单元的调节装置和/或输入电压，使得两个所述发声单元的频响参数之间的差值在预设范围内。7.如权利要求6所述的发声装置的校准方法，其特征在于，所述频响参数包括峰值频率和/或低谷阻抗；获取两...
【专利技术属性】
技术研发人员：张健，
申请(专利权)人：歌尔光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。