【技术实现步骤摘要】
蒸镀速率检测设备、蒸镀设备及蒸镀速率检测方法
[0001]本公开涉及显示领域,特别涉及一种蒸镀速率检测设备、蒸镀设备及蒸镀速率检测方法。
技术介绍
[0002]OLED(Organic Light
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Emitting Diode,有机发光二级管)显示屏具有对比度高、厚度薄、能耗小、驱动电压低、视角广、反应速度快、可制作柔性面板、使用温度范围广等优异特性,被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。
[0003]当前实现OLED器件结构通常使用蒸镀工艺,是指在一定的真空条件下加热有机和金属蒸镀材料,使蒸镀材料熔化(或升华)成原子、分子或原子团组成的蒸汽,然后凝结在基板表面成膜,从而形成OLED器件的功能层。
[0004]对于蒸镀工艺而言,提高材料沉积速率稳定性是其重要一环。在蒸镀过程中,有机材料不断沉积到晶振片上,通过处理震荡频率等参数,计算出当前的蒸镀速率,所以保证材料稳定沉积到晶振片上成为稳定蒸镀速率的重中之重。但是,每颗晶振片使用寿命较短,需要经常切换新晶振片对应生产,而新晶振片表面光滑,沉 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀速率检测设备,其特征在于,至少包括:旋转挡板、带孔盖和晶振盘;其中,所述晶振盘上设置有多个晶振片;所述带孔盖设置在所述晶振盘外侧,所述带孔盖的投影面积覆盖所述晶振盘,所述带孔盖上设置有两个第一通孔,所述第一通孔用于完全露出所述晶振盘上的整个晶振片;所述旋转挡板设置在所述带孔盖外侧,所述旋转挡板上设置有预定形状的第二通孔,所述第二通孔用于在所述旋转挡板按照预定速度旋转至所述第一通孔所在位置时完全露出所述第一通孔内的全部第一晶振片和部分第二晶振片,以通过露出的部分所述第二晶振片在所述第二晶振片整体上蒸镀第一预定厚度的蒸镀材料。2.如权利要求1所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,所述第一通孔完全露出的两个晶振片为相邻的两个晶振片。3.如权利要求1所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,所述第二通孔的数量为一个或两个。4.如权利要求3所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,在所述第二通孔的数量为一个时,所述第二通孔的形状包括第一部分和第二部分,所述第一部分用于露出整个第一晶振片,所述第一部分为圆形、方形、梯形或三角形,第二部分用于露出部分第二晶振片,所述第二部分为圆形、方形或三角形。5.如权利要求3所述的蒸镀速率检测设备,其特征在于,在所述第二通孔的数量为两个时,第一个第二通孔的形状与第二个第二通孔的形状相同,所述第二个第二通孔的面积小于所述第一个第二通孔的面积。6.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘文豪,加新星,刘金彪,罗楠,肖昂,姬磊,李靖,晋亚杰,李元星,胡斌,周杰,蒲红均,兰代江,李端瑞,王天昊,黄瑮,党博谭,尹茂吉,刘飞,熊呈祥,祁泽宙,汪泽峰,刘雅楼,
申请(专利权)人:成都京东方光电科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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