铝基功能梯度薄膜激光吸收率仿真方法技术

本发明专利技术公开了一种铝基功能梯度薄膜激光吸收率仿真方法，该方法包括：建立铝合金基底模型；设置仿真精度、入射激光光源参数及边界条件；将所述铝合金基底模型作为二维仿真模型，对所述铝合金基底模型进行网格划分；基于各网格进行仿真模拟，直至达到稳定收敛，输出铝合金基底模型参数。利用本发明专利技术方案，可以迅速有效地获得对特定波长高吸收的铝基复合薄膜。膜。膜。

【技术实现步骤摘要】
铝基功能梯度薄膜激光吸收率仿真方法


[0001]本专利技术涉及激光烧蚀铝合金处理领域，具体涉及一种铝基功能梯度薄膜激光吸收率仿真方法。

技术介绍

[0002]随着高能激光、光刻技术的飞速发展，对精密光学系统中的杂散光防护提出了新的挑战。在高功率激光束的传输过程中，光束中不仅包含了波长1064nm的基频光，还包括经过倍频后波长532nm的二倍频光和波长355nm的三倍频光，即使是光学元件表面微弱的剩余反射，经铝合金精加工表面多次反射汇聚后，会产生很高能量密度的汇聚点，直接损伤光学元件，或对铝合金表面造成损伤，产生的污染颗粒会加剧光学元件的损伤，进而对光学系统造成灾难性的后果。光刻机中投影曝光系统的杂散光是影响光刻分辨力的主要因素之一，随着光刻技术节点从90nm、65nm、45nm到32nm延伸，光刻照明曝光系统的光源波长也越来越短，如波长284nm和波长193nm的极紫外光，对分辨力的要求越来越高，杂散光的影响也越来越大，会导致图像的分辨率降低，从而对成像的线宽造成影响。
[0003]由于杂散光产生的原因很复杂，很多因素是随机产生的，难以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种铝基功能梯度薄膜激光吸收率仿真方法，其特征在于，所述方法包括：建立铝合金基底模型；设置仿真精度、入射激光光源参数及边界条件()；将所述铝合金基底模型作为二维仿真模型，对所述铝合金基底模型进行网格划分；基于各网格进行仿真模拟，直至达到稳定收敛，输出铝合金基底模型参数。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述铝合金基底模型由三层具有不同功能的膜层构成，表层为透光封闭层，中层为吸收层、底层为隔离层。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述表层为二氧化硅；所述中层为含纳米孔的阳极氧化铝，并且纳米孔洞中嵌入有硒化镉纳米量子点；所述底层为铝合金。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述硒化镉纳米量子点的直径为3nm
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10nm。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述设置仿真精度包括：采用二维仿真模型(x，y)，x方向仿真区域为
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0.15μm
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0.15μm，y方向仿真区域为
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5μm
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5μm。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述设置射激光光源参数及边界条件包括：激光光源为平面电磁波，入射方向为y轴正方向，距离xoy平面为0.1μm；x方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹永智，卢礼华，尹佳恒，陈家轩，高强，高敬翔，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：