【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法、显示装置
[0001]本公开涉及显示
,特别是涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
技术介绍
[0002]使用喷墨打印(ink jet)或者蒸镀的方法制作显示面板的发光器件膜层,是目前比较成熟的方法,但是,使用这两种方式很难获得比较高的像素密度(PPI),喷墨打印工艺会受到喷头吐出的墨滴大小的限制,蒸镀工艺会受到FMM mask(精细金属掩模版)的限制。而使用光刻方式,可以做到较高的像素密度,但是,需要发光器件膜层材料具有比较好的耐受能力,同时要使用真空曝光机或者氮气曝光机,成本高,工艺灵活性低。因此,对于目前的显示面板,较高的像素密度与较低的制备难度难以兼顾。
技术实现思路
[0003]本公开提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,以解决现有的显示面板难以兼顾较高的像素密度与较低的制备难度的问题。
[0004]为了解决上述问题,本公开公开了一种显示面板,包括
[0005]基板,包括衬底和阳极;
[0006]第一挡墙,设置在所述阳极远离所述衬底的一侧,所述显示面板的像素区围绕有所述第一挡墙;
[0007]子像素,多个相同发光颜色的所述子像素沿第一方向排列构成子像素列,多个所述子像素列沿第二方向排列,所述第一方向与所述第二方向相交,所述子像素包括发光器件膜层,所述发光器件膜层包括图案化的空穴注入层和图案化的发光材料层,图案化的所述空穴注入层和图案化的所述发光材料层设置在对应的所述子像素列中。
[0008]可选地,相邻所述子像素间 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示面板,其特征在于,包括:基板,包括衬底和阳极;第一挡墙,设置在所述阳极远离所述衬底的一侧,所述显示面板的像素区围绕有所述第一挡墙;子像素,多个相同发光颜色的所述子像素沿第一方向排列构成子像素列,多个所述子像素列沿第二方向排列,所述第一方向与所述第二方向相交,所述子像素包括发光器件膜层,所述发光器件膜层包括图案化的空穴注入层和图案化的发光材料层,图案化的所述空穴注入层和图案化的所述发光材料层设置在对应的所述子像素列中。2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,相邻所述子像素间具有第二挡墙,所述第二挡墙在垂直于衬底方向的厚度小于所述第一挡墙在垂直于衬底方向的厚度,所述第二挡墙包括沿所述第一方向延伸的第二列挡墙和沿所述第二方向延伸的第二行挡墙。3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素区中包括所述第一挡墙,所述第一挡墙沿所述第一方向或所述第二方向延伸。4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述像素区中的所述第一挡墙相互平行,相邻的两个所述第一挡墙之间具有至少两行或两列所述子像素。5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,所述像素区包括沿所述第一方向或所述第二方向排布的多个分立的像素子区,相邻的两个所述像素子区之间具有所述第一挡墙。6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述发光器件膜层包括图案化的空穴传输层,图案化的所述空穴传输层设置在对应的所述子像素列中。7.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙的材料为疏液性材料。8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙在垂直于衬底方向的厚度大于或等于0.05μm,且小于或等于2μm。9.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一挡墙在所述像素区到所述第一挡墙方向的宽度大于或等于5μm。10.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述像素子区沿排布方向的尺寸小于或等于300μm。11.一种显示面板的制备方法,其特征在于,所述方法包括:提供一基板;所述基板包括衬底、阳极和第二挡墙;相邻所述子像素间具有第二挡墙,所述第二挡墙在垂直于衬底方向的厚度小于所述第一挡墙在垂直于衬底方向的厚度,所述第二挡墙包括沿第一方向延伸的第二列挡墙和沿第二方向延伸的第二行挡墙;通过光刻工艺,在所述阳极远离所述衬底的一侧形成第一挡墙;所述显示面板的像素区围绕有所述第一挡墙;在所述第一挡墙之间形成沿所述第一方向相互平行的多个第三挡墙,在相邻的两个所述第三挡墙之间形成子像素;多个相同发光颜色的所述子像素沿所述第一方向排列构成子像素列,多个所述子像素列沿所述第二方向排列,所述第一方向与所述第二方向相交,所述子像素包括发光器件膜层,所述发光器件膜层包括图案化的空穴注入层和图案化的发光材料层,图案化的所述空穴注入层和图案化的所述发光材料层设置在对应的所述子像素列中。
12.根据权利要求11所述的方法,其特征在于,所述在所述第一挡墙之间形成沿所述第一方向相互平行的多个第三挡墙,在相邻的两个所述第三挡墙之间形成子像素,包括:通过光刻工艺,在所述第一挡墙之间形成沿所述第一方...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵德江,卢天豪,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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