一种像素结构及其制作方法、显示面板、电子设备技术

本公开提供了一种像素结构及其制作方法、显示面板、电子设备，该像素结构包括：在位于平坦层的第一预设位置和/或位于发光区域限制层的第二预设位置处设置有反射凹槽，平坦层和/或发光区域限制层与第一预设位置和/或第二预设位置对应的区域在制作时形成预设形状的凹陷，使发光层在制作时在凹陷处断开。本公开通过在像素结构的预设位置处设置反射凹槽，反射凹槽在受到光照时形成光的衍射汇聚，使平坦层和/或发光区域限制层与预设位置对应的区域曝光形成预设形状的凹陷，在后续进行发光层和阴极层制作时，发光层会在凹陷处出现断裂，使像素间电极联通情况消失，避免出现像素串扰情况，进而提升了显示产品的显示效果。进而提升了显示产品的显示效果。进而提升了显示产品的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
一种像素结构及其制作方法、显示面板、电子设备


[0001]本公开涉及显示
，特别涉及一种像素结构及其制作方法、显示面板、电子设备。

技术介绍

[0002]在自发光的像素结构制作工艺中，极易发生不同像素之间的电极联通，从而发生像素间的串扰，使本来不应当被点亮的像素因电极联通导致发光，影响显示产品的整体画质。

技术实现思路

[0003]本公开实施例的目的在于提供一种像素结构及其制作方法、显示面板、电子设备，用以解决现有技术中像素间易发生串扰的问题。
[0004]本公开的实施例采用如下技术方案：一种像素结构，包括：依次设置的基板、平坦层、阳极层、发光区域限制层、发光层以及阴极层；其中，在位于所述平坦层的第一预设位置和/或位于所述发光区域限制层的第二预设位置处设置有反射凹槽，所述平坦层和/或所述发光区域限制层与所述第一预设位置和/或所述第二预设位置对应的区域在制作时形成预设形状的凹陷，使所述发光层在制作时在所述凹陷处断开。
[0005]在一些实施例中，所述发光层为双层堆栈结构。
[0006]在一些实施例中，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种像素结构，其特征在于，包括：依次设置的基板、平坦层、阳极层、发光区域限制层、发光层以及阴极层；其中，在位于所述平坦层的第一预设位置和/或位于所述发光区域限制层的第二预设位置处设置有反射凹槽，所述平坦层和/或所述发光区域限制层与所述第一预设位置和/或所述第二预设位置对应的区域在制作时形成预设形状的凹陷，使所述发光层在制作时在所述凹陷处断开。2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述发光层为双层堆栈结构。3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述第一预设位置为相邻两个像素之间的平坦层底部；所述第二预设位置为任意一个像素的坡度区的发光区域限制层底部。4.根据权利要求3所述的像素结构，其特征在于，在所述反射凹槽设置在所述第一预设位置处时，在所述预设形状的凹陷的截面形状中，所述平坦层与所述发光层之间接触的表面上所形成的开口宽度为第一宽度，所述平坦层与所述发光区域限制层之间接触的表面上所形成的开口宽度为第二宽度，并且所述第一宽度小于所述第二宽度；在所述反射凹槽设置在所述第二预设位置处时，所述预设形状的...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛燕霞，贺伟，卓永，赵彧，李雪萍，李海博，吴奕昊，王晓云，谭成，徐宁，
申请(专利权)人：成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：