本实用新型专利技术实施例提供一种显示基板、显示面板及显示装置，显示基板包括设置在基底上的发光结构层，发光结构层包括依次叠设的阳极层、第一膜层组和第二膜层组，阳极层包括一个或多个阳极，第一膜层组包括OLED器件中位于阳极和阴极之间的至少一个膜层，第二膜层组包括阴极，以及OLED器件中位于阳极和阴极之间的至少一个膜层；第二膜层组在基底上的正投影包含第一膜层组在基底上的正投影，第一膜层组中所有膜层的交叠部分作为第一膜层组的第一部分，第一膜层组的第一部分的覆盖在阳极表面且与阳极表面直接接触的部分在基底上的正投影区域为显示基板的发光区域，第一膜层组的边缘与第二膜层组的边缘之间的距离在多个位置处不同。同。同。
【技术实现步骤摘要】
一种显示基板、显示面板及显示装置
[0001]本技术实施例涉及但不限于显示
，具体涉及一种显示基板、显示面板及显示装置。
技术介绍
[0002]一些有机电致发光二极管(OLED)显示装置的发光结构层中，位于阳极和阴极之间的膜层采用蒸镀工艺形成，在蒸镀过程中使用金属遮罩把基板上需要沉积材料的区域暴露在蒸镀材料蒸汽中，并遮住不需要沉积蒸镀材料的区域，如此可以在基板上形成图案与遮罩开口相同的膜层，按照OLED器件的膜层结构依次在相同的位置沉积相应膜层，最终形成可发光的OLED器件叠层结构，以及在基板上形成相应形状(可以是多个OLED器件排布形成的等效图形)的发光区域。但是，如图1所示，对于基板1
’
上某些形状的发光区域2
’
而言，如边缘形状复杂、曲率变化大、无任何对称性，以及舌形、环形等类似形状，制作相应形状的金属遮罩的难度大，存在金属遮罩的开口易形变、尺寸不易精确控制、不能一次成形等问题，因此，不易实现平面尺寸准确控制的膜层形状。
技术实现思路
[0003]本技术实施例提供一种显示基板，包括：设置在基底上的驱动电路层和设于所述驱动电路层的远离所述基底一侧的发光结构层，所述驱动电路层包括像素驱动电路，所述发光结构层包括与所述像素驱动电路连接的OLED器件，所述OLED器件包括依次叠设的阳极、发光功能层和阴极，所述发光功能层包括叠设的多个膜层；所述发光结构层包括依次叠设的阳极层、第一膜层组和第二膜层组，所述阳极层包括一个或多个所述阳极，所述第一膜层组包括所述发光功能层中的至少一个膜层，所述第二膜层组包括所述发光功能层中的至少一个膜层和所述阴极；所述第二膜层组在所述基底上的正投影包含所述第一膜层组在所述基底上的正投影，所述第一膜层组中所有膜层的交叠部分作为所述第一膜层组的第一部分，所述第一膜层组的第一部分的覆盖在所述阳极表面且与所述阳极表面直接接触的部分在所述基底上的正投影区域为所述显示基板的发光区域，所述第二膜层组的未与所述第一膜层组的第一部分交叠的部分在所述基底上的正投影区域设置为不发光；所述第一膜层组的边缘与所述第二膜层组的边缘之间的距离在多个位置处不同。
[0004]可选地，所述发光功能层包括发光层，以及下述膜层中的任意一个或多个：空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层。
[0005]可选地，所述第一膜层组或所述第二膜层组包括所述发光层。
[0006]可选地，所述第一膜层组包括所述空穴注入层、所述空穴传输层和所述电子阻挡层中的任意一个或多个。
[0007]可选地，所述第二膜层组包括所述空穴阻挡层、所述电子传输层和所述电子注入层中的任意一个或多个。
[0008]可选地，所述第一膜层组包括两个或两个以上数目的膜层，所述第一膜层组中的
任意两个膜层在所述基底上的正投影包含相同数目和位置的所述阳极在所述基底上的正投影。
[0009]可选地，所述第二膜层组的未与所述第一膜层组交叠的部分中的一部分覆盖在所述阳极表面。
[0010]可选地，所述第一膜层组的膜面连续或者不连续。
[0011]可选地，所述第二膜层组的任意一个膜层为一体结构。
[0012]可选地，所述第一膜层组的膜层采用喷墨打印、喷涂、原位生长、曝光显影和激光烧蚀中的任意一种或多种工艺形成。
[0013]可选地，所述发光结构层还包括设于所述阳极层的背离所述基底一侧的像素定义层，所述像素定义层包括多个沿第一方向延伸的第一分隔部和多个沿第二方向延伸的第二分隔部，所述多个第一分隔部和所述多个第二分隔部相互交叉限定出多个像素开口，所述像素开口将所述阳极表面暴露出；所述第一分隔部的厚度大于所述第二分隔部的厚度，所述第一膜层组被所述第一分隔部隔断。
[0014]可选地，所述第一分隔部在所述第二方向上的宽度大于等于10微米。
[0015]可选地，所述第二分隔部在所述第一方向上的宽度大于等于20微米。
[0016]可选地，所述第一膜层组的第一部分至少具有第一膜厚和第二膜厚，所述第一膜厚大于所述第二膜厚；
[0017]所述第一膜层组的第一部分的覆盖在所述第二分隔部上的部分具有所述第一膜厚，所述第一膜层组的第一部分的覆盖在所述阳极表面且与所述阳极表面直接接触的部分具有所述第二膜厚。
[0018]可选地，所述第一膜层组的厚度为10nm至300nm。
[0019]本技术实施例还提供一种显示面板，包括任一实施例所述的显示基板。
[0020]本技术实施例还提供一种显示装置，包括任一实施例所述的显示基板。
[0021]本技术实施例的显示基板，发光结构层包括依次叠设的阳极层、第一膜层组和第二膜层组，阳极层包括一个或多个阳极，第一膜层组包括OLED器件中位于阳极和阴极之间的至少一个膜层，第二膜层组包括阴极，以及OLED器件中位于阳极和阴极之间的至少一个膜层，第二膜层组在基底上的正投影包含第一膜层组在基底上的正投影，第一膜层组中所有膜层的交叠部分作为第一膜层组的第一部分，第一膜层组的第一部分的覆盖在阳极表面且与阳极表面直接接触的部分在基底上的正投影区域为显示基板的发光区域，第二膜层组的未与第一膜层组的第一部分交叠的部分在基底上的正投影区域设置为不发光，如此，可以通过限定第一膜层组的第一部分的形状来限定显示基板的发光区域的形状，当显示基板的发光区域的形状为不规则图形时，只需将第一膜层组的第一部分的形状制备成相应的不规则图形即可，从而不需要将第二膜层组的膜层的形状制备成相应的不规则图形，降低第二膜层组的制备难度，此外，第一膜层组的膜层材料可以选择能采用蒸镀工艺以外的成膜工艺制备膜层的材料，实现蒸镀工艺不易形成的膜层图案的制备，这样可降低发光结构层的制备难度，较为方便地形成仅靠蒸镀工艺难以形成的发光区域图形。
附图说明
[0022]附图用来提供对本技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，
与本技术的实施例一起用于解释本技术的技术方案，并不构成对本技术技术方案的限制。附图中部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。
[0023]图1为一些不同形状的发光区域的基板的结构示意图；
[0024]图2为一些示例性实施例的显示基板的平面结构示意图；
[0025]图3为在一些示例性实施例中图2中的A
‑
A剖面结构示意图；
[0026]图4a为在一些示例性实施例中在基底上形成驱动电路层和隔垫柱后的平面结构示意图；
[0027]图4b为在一些示例性实施例中图4a中的A
‑
A剖面结构示意图；
[0028]图5a为在一些示例性实施例中在阳极上形成第一膜层组后的平面结构示意图；
[0029]图5b为在一些示例性实施例中图5a中的A
‑
A剖面结构示意图；
[0030]图6为另一些示例性实施例的显示基板的平面结构示意图；...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种显示基板，其特征在于，包括：设置在基底上的驱动电路层和设于所述驱动电路层的远离所述基底一侧的发光结构层，所述驱动电路层包括像素驱动电路，所述发光结构层包括与所述像素驱动电路连接的OLED器件，所述OLED器件包括依次叠设的阳极、发光功能层和阴极，所述发光功能层包括叠设的多个膜层；所述发光结构层包括依次叠设的阳极层、第一膜层组和第二膜层组，所述阳极层包括一个或多个所述阳极，所述第一膜层组包括所述发光功能层中的至少一个膜层，所述第二膜层组包括所述发光功能层中的至少一个膜层和所述阴极；所述第二膜层组在所述基底上的正投影包含所述第一膜层组在所述基底上的正投影，所述第一膜层组中所有膜层的交叠部分作为所述第一膜层组的第一部分，所述第一膜层组的第一部分的覆盖在所述阳极表面且与所述阳极表面直接接触的部分在所述基底上的正投影区域为所述显示基板的发光区域，所述第二膜层组的未与所述第一膜层组的第一部分交叠的部分在所述基底上的正投影区域设置为不发光；所述第一膜层组的边缘与所述第二膜层组的边缘之间的距离在多个位置处不同。2.如权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光功能层包括发光层，以及下述膜层中的任意一个或多个：空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层。3.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一膜层组或所述第二膜层组包括所述发光层。4.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第一膜层组包括所述空穴注入层、所述空穴传输层和所述电子阻挡层中的任意一个或多个。5.如权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二膜层组包括所述空穴阻挡层、所述电子传输层和所述电子注入层中的任意一个或多个。6.如权利要求1至5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述第一膜层组包括两个或两个以上数目的膜层，所述第一膜层组中的任意两个膜层在所述基底上的正投影包含相同数目和位置的所述阳极在所述基底上的正...
【专利技术属性】
技术研发人员：孙力，吴仲远，徐攀，王红丽，马凯葓，施槐庭，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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