【技术实现步骤摘要】
半导体用高纯石英材料制备装置
[0001]本技术属于半导体材料制备设备
,特别涉及一种半导体用高纯石英材料制备装置。
技术介绍
[0002]目前,半导体材料是一类具有半导体性能(导电能力介于导体与绝缘体之间,电阻率约在1mΩ
·
cm~1GΩ
·
cm范围内)、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料,半导体材料在制备过程中,会先经过初步的加热处理,再进行后续的冷却和精细加工,因此需要提供一种设备实现半导体材料的加热处理过程。
技术实现思路
[0003]本技术提出一种半导体用高纯石英材料制备装置,实现了现有技术中半导体材料制备过程中进行加热的目的。
[0004]本技术的技术方案是这样实现的:一种半导体用高纯石英材料制备装置,包括外壳,所述外壳的顶部开设有进料口,所述进料口位于外壳上部的中心位置,所述进料口下方固定设置有导流板,所述外壳左侧的上部连通且固定设置有排气管,所述外壳的底部固定设置有加热管,所述加热管的顶部与外壳内部连通,所述外壳内部固定设置有加热台板,所述加 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体用高纯石英材料制备装置,其特征在于,包括外壳,所述外壳的顶部开设有进料口,所述进料口位于外壳上部的中心位置,所述进料口下方固定设置有导流板,所述外壳左侧的上部连通且固定设置有排气管,所述外壳的底部固定设置有加热管,所述加热管的顶部与外壳内部连通,所述外壳内部固定设置有加热台板,所述加热管的顶部位于加热台板底部,所述外壳底部的另一侧固定设置有温度传感器,所述温度传感器与加热管之间间隔设置,所述加热台板位于外壳的下部且横向设置在外壳内。2.根据权利要求1所述的一种半导体用高纯石英材料制备装置,其特征在于,所述导流板的表面开设有若干均匀分布的通孔,所述导流板位于加热台板的正上方,所述导流板左右两侧之间的宽度小于工作台板左右之间的宽度。3.根据权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员:沈恒文,王玮康,唐浩,代悦明,夏美芳,
申请(专利权)人:江苏艾匹克半导体设备有限公司,
类型:新型
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。