【技术实现步骤摘要】
一种超纯去离子水使用的电阻率探头
[0001]本技术主要涉及半导体检测
,尤其涉及一种超纯去离子水使用的电阻率探头。
技术介绍
[0002]在半导体关键制程里通常需要对反应釜进行温度控制,这种温度控制是通过特殊介质进行的,其中一种常用的介质是超纯去离子水,使用这种介质时需要对其电阻率进行监控,而监控该介质需要用到与介质接触的探头,目前市面上常见的探头从接口规格、尺寸大小和电极常数等考虑无法完全满足半导体行业对超纯去离子水的检测需求,尤其无法找到在特定的设备上需要用到尺寸小且规格和电极常数匹配的探头。因此急需要开发一款能够适用半导体行业里特定设备上的,用于超纯去离子水使用的电阻率探头,该探头需要有较小的尺寸,符合设备需求的规格。
技术实现思路
[0003]针对现有技术的上述缺陷,本技术提供一种超纯去离子水使用的电阻率探头,用于对超纯去离子水进行电阻率监控。
[0004]一种超纯去离子水使用的电阻率探头,包括外壳体组件,电极组件和密封组件;
[0005]所述外壳体组件包括呈圆柱状设置的外壳1,与 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超纯去离子水使用的电阻率探头,包括外壳体组件,电极组件和密封组件;其特征在于,所述外壳体组件包括呈圆柱状设置的外壳(1),与所述外壳(1)配合卡嵌设置在外壳(1)底部的下壳体(2);所述电极组件包括电极(4),套筒(3)和隔套(6);所述套筒(3)和隔套(6)分别套设在所述电极(4)的上下两部;所述电极(4)与套设在电极(4)上下两部的套筒(3)和隔套(6)贯穿设置在所述外壳(1)和下壳体(2)卡嵌形成的中部腔体内;所述密封组件包括下垫片(5),小密封圈(7)和大密封圈(8);所述下垫片(5)设置在所述电极(4)下端与所述壳体(2)下表面之间;所述小密封圈(7)和大密封圈(8)均设置在所述隔套(6)与所述电极之间;所述密封组件还包括平垫圈(9),锯齿垫圈(10)和螺母(11);所述螺母(11)套设在所述电极(4)顶部,将电极(4)固定在所述套筒(3)上;所述锯齿垫圈(10)与平垫圈(9)自上至下依次设置在所述电极(4)顶部,被螺母(11)压紧贴合在所述套筒(3)上。2.根据权利要求1所述的超纯去离子水使用的...
【专利技术属性】
技术研发人员:戴忠林,
申请(专利权)人:无锡迈泰科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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