使用了双向二端子元件的显示装置和显示装置的制造方法制造方法及图纸

技术编号:3205800 阅读:185 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
提供一种用比以前还简单的方法制造得到的有源矩阵型显示装置。显示装置(100)具有:多个第一电极(11);多个双向二端子元件(12);多个像素电极(14),分别经多个双向二端子元件(12)中的至少一个双向二端子元件(12)电连接于多个第一电极(11)的之一;多个第二电极(17);和设置在多个像素电极(14)与多个第二电极(17)之间的显示介质层。多个像素电极(14)的各个与至少一个双向二端子元件(12)的配置关系为随机的。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种显示装置中用于显示装置的开关元件和显示装置的制造方法。
技术介绍
近年来,液晶显示装置或有机EL(电致发光)显示装置等薄型显示装置的利用迅速发展。在这些薄型显示装置(FPD)内,尤其是可进行高品质显示的有源矩阵型显示装置中,将非晶硅TFT(薄膜晶体管)、多晶硅TFT等3端子元件、或MIM(Metal-Insulator-Metal)等2端子元件用作开关元件。这些开关元件在制造显示装置的工序中被形成于构成显示装置的基板上。另外,开关元件通常通过重复多次薄膜堆积工序、布图工序来形成。例如,在TFT的情况下,至少必需重复3次,通常重复4次到8次,即使在MIM的情况下,也要重复2次以上,通常重复3次到4次。开关元件对应于像素来形成,开关元件的面积比像素的面积小,所以堆积在基板的大致整个面上的各种薄膜(例如金属层、绝缘层或半导体层)在布图工序中被去除大部分。例如,在透过型液晶显示装置的情况下,为了增大像素的孔径,去除金属层或半导体层的近90%。另外,布图工序大多由使用光掩模的光刻工序来执行,为了抑制元件特性的参差不齐,必需在各工序中以高精度使光掩模位置重合。并且,为了显示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置,其特征在于,具有:    多个第一电极;多个双向二端子元件;多个像素电极,分别经所述多个双向二端子元件中的至少一个双向二端子元件电连接于所述多个第一电极之一;多个第二电极;和设置在所述多个像素电极与所述多个第二电极之间的显示介质层,    所述多个像素电极的各个与所述至少一个双向二端子元件的配置关系为随机的。

【技术特征摘要】
JP 2001-12-7 374559/20011.一种显示装置,其特征在于,具有多个第一电极;多个双向二端子元件;多个像素电极,分别经所述多个双向二端子元件中的至少一个双向二端子元件电连接于所述多个第一电极之一;多个第二电极;和设置在所述多个像素电极与所述多个第二电极之间的显示介质层,所述多个像素电极的各个与所述至少一个双向二端子元件的配置关系为随机的。2.根据权利要求1所述的显示装置,其特征在于所述至少一个双向二端子元件具有一对电极、和形成于所述一对电极之间的半导体层叠结构。3.根据权利要求2所述的显示装置,其特征在于所述多个第一电极的各个与所述至少一个双向二端子元件经设置在所述至少一个双向二端子元件的所述一对电极内的一个与所述第一电极之间的导电性树脂层进行电连接。4.根据权利要求3所述的显示装置,其特征在于所述导电性树脂层包含导电性材料与感光性树脂。5.根据权利要求1-4之一所述的显示装置,其特征在于所述多个双向二端子元件的各个还具有覆盖所述半导体层叠结构侧面的遮光层。6.根据权利要求1-5之一所述的显示装置,其特征在于所述多个双向二端子元件的宽度比所述多个像素电极的相邻间距离小。7.根据权利要求1-6之一所述的显示装置,其特征在于所述多个双向二端子元件的宽度比所述多个第一电极的相邻间距离小。8.根据权利要求1-7之一所述的显示装置,其特征在于所述多个双向二端子元件选择地配置在所述多个第一电极上。9.根据权利要求8所述的显示装置,其特征在于所述多个像素电极中与所述多个第一电极重合的部分的面积在所述多个像素电极的整体面积的一半以下。10.一种显示装置的制造方法,该显示装置具有多个第一电极;多个双向二端子元件;多个像素电极,分别经所述多个双向二端子元件中的至少一个双向二端子元件电连接于所述多个第一电极之一;多个第二电极;和设置在所述多个像素电极与所述多个第二电极之间的显示介质层,其中包含如下工序(a)准备具有形成了多个第一电极的主面的基板;(b)准备分别具有彼此相对的一对电极的多个双向二端子元件;(c)将所述多个双向二端子元件以规定密度随机配置在所述多个第一电极上,使各个经所述一对电极内的一个电极与所述多个第一电极之一电连接;(d)形成各个分别经所述多个双向二端子元件内的至少一个电连接于所述多个第一电极之一上的多个像素电极;和(e)在所述多个像素电极与多个第二电极之间,经显示介质层,彼此相对地设置所述多个第二电极与所述显示介质层。11.根据权利要求10所述的显示装置的制造方法,其特征在于工序(c)包含如下工序(c-1)以规定密度使所述多个双向二端子元件分散于包含导电性材料与树脂材料的涂布材料中;(c-2)将包含所述多个双向二端子元件的所述涂布材料施加到所述基板的所述多个第一电极上;和(c-3)选择地保留存在于所述基板的所述多个第一电极与所述多个双向二端子元件之间的所述涂布材料。12.根据权利要求11所述的显示装置的制造方...

【专利技术属性】
技术研发人员:杉原利典原猛
申请(专利权)人:夏普株式会社
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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