【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种防止液体回溅的装置，特别是涉及一种应用于显影制作工艺的防止回溅装置。
技术介绍
在半导体制作工艺，要在一薄膜中形成图案，通常需先在薄膜上形成一光致抗蚀剂层，接着，以一具有图案的光掩模为屏蔽，对光致抗蚀剂层进行曝光。此时，则接受光照射的区域，将产生光化转换(photochemicaltransformation)反应。接着，则是进行显影(development)的步骤，以便将光致抗蚀剂层所转移的潜在性图案显现出来，而此显影出来的图案，即是后续用以蚀刻薄膜层的依据。因此，显影的条件必须严密地控制，以免未经曝光的光致抗蚀剂层也被显影液所侵蚀(attack)，而影响所转移图案的精确性。控制显影的主要操作条件有显影时间、显影剂的浓度及温度等等。进行显影的方式有许多种，但是为了配合整条光刻制作工艺的一贯性(in-line)作业，一般的显影方式大都采用喷洒/涂布(spray/puddle)的方式来进行。这种方式如下请参考图1a，首先，喷洒显影液120在经过曝光的光致抗蚀剂层110的表面上，光致抗蚀剂层110位于玻璃基板100之上，玻璃基板100则置于一旋转...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种防止一液体回溅至一物体上的装置，该液体原本位于该物体内，该装置至少包括一旋转器，其上放置该物体，并利用该旋转器的旋转运动，使该物体与该液体分离；一侧壁，其环绕于该旋转器的周围，以防止该液体飞溅至该侧壁之外；以及一缓冲棉，其贴于该侧壁的内侧，以防止该液体由该侧壁回溅至该物体上。2.如权利要求1所述的装置，其中该侧壁为一不锈钢材质。3.如权利要求1所述的装置，其中该物体为一玻璃基...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾士庭，钟昱正，郭丁瑞，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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