一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃及其制备方法，属于磁控溅射镀膜技术领域；一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十二个膜层，其中，第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层和第五层为颜色调节层，第六层和第七层为第二电介质组合层，第八层和第九层为阻挡保护层，第十层为低辐射功能层，第十一层和第十二层为第三电介质组合层。本发明专利技术玻璃呈晶灰色，具有颜色一致性好等优点。具有颜色一致性好等优点。具有颜色一致性好等优点。

【技术实现步骤摘要】
一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃及其制备方法


[0001]本专利技术属于磁控溅射镀膜
，具体涉及一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃及制备方法。

技术介绍

[0002]Low
‑
E玻璃作为一种新型建筑及装饰材料，其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有以下明显优势：1)优异的热性能，外门窗玻璃的热损失是建筑物能耗的主要部分，占建筑物能耗的50％以上。低辐射镀膜玻璃根据不同膜层结构相较于普通结构白玻门窗，可以减少该部位能量损耗的60％
‑
90％。2)良好的光学性能。Low
‑
E玻璃对太阳光中可见光有高的透射比，可达80％以上。而反射比则很低，这使其与传统的镀膜玻璃相比，光学性能大为改观。从室外观看，外观更透明、清晰。即保证了建筑物良好的采光，又避免了以往大面积玻璃幕墙、中空玻璃门窗光反射所造成的光污染现象，营造出更为柔和、舒适的光环境。
[0003]根据近年来的市场销售情况分析，目前市场对晶灰色系低辐射镀膜玻璃越来越认可，晶灰色系产品的需求也逐渐旺盛。但是随着技术的逐渐成熟推广，同质化竞争也日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高。就幕墙玻璃的实际安装效果而言，由于墙体面积较大、建筑楼层较高，幕墙在近距离观测时不同位置的玻璃其观测角度也不同，对于双银低辐射镀膜玻璃而言由于多层膜的干涉及透过色影响，不同角度观测时其颜色也不同，进而导致幕墙整体颜色不一致，影响装饰效果，同时很多产品由于过度追求室外颜色导致室内颜色装饰性较差，与室外面颜色存在很大差异。现有技术的缺点：
[0004]1)现有双银低辐射镀膜玻璃主要偏向蓝色系与绿色系。
[0005]2)现有的双银膜系普遍存在小角度变色，室内外颜色差异较大的现象。
[0006]3)平弯颜色搭配效果不一致。

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃及制备方法，本专利技术所要解决的技术问题是如何通过镀膜层排列及镀膜工艺的优化设计，使整个镀膜玻璃呈晶灰色，且各角度颜色一致。
[0008]本专利技术的目的可通过下列技术方案来实现：一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十二个膜层，其中，第一层和第二层为第一电介质组合层，第三层为低辐射功能层，第四层和第五层为颜色调节层，第六层和第七层为第二电介质组合层，第八层和第九层为阻挡保护层，第十层为低辐射功能层，第十一层和第十二层为第三电介质组合层。
[0009]在上述一种蓝灰色三银低辐射镀膜玻璃中，所述第一层为氮化硅(SiN
x
)层，所述第二层为氧化锌铝(ZnAlO
x
)层，所述第三层为银(Ag)层，所述第四层为铜(Cu)层,所述第五层为纳米晶含氮镍铬合金薄膜(NiCr
‑
N)层,所述第六层为AZO层,所述第七层为氮化硅
(SiNx)层，所述第八层为氧化锌锡(ZnSnO
x
) 层，所述第九层为氧化锌铝(ZnAlO
x
)层，所述第十层为银(Ag) 层，所述第十一层为AZO层，所述第十二层为氮化硅(SiN
x
)层。
[0010]本中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃的镀膜层中，除了设有三个银(Ag)层外，还有一铜(Cu)层，使得其低辐射功能层达到四层，节能效果更佳；更重要的，其中膜系中央，设有紧贴的银(Ag) 层与铜(Cu)层及纳米晶含氮镍铬合金薄膜(NiCr
‑
N)层，三者颜色复合，使得整个镀膜玻璃呈晶灰色，丰富了三银产品的颜色体系；且本专利技术解决了常规双银镀膜玻璃室内外个角度及平弯颜色不一致的问题。
[0011]在上述一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃中，其制备方法包括如下步骤：
[0012]1)、磁控溅射镀膜层；
[0013]A、磁控溅射第一层：
[0014]靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为25～50nm；
[0015]B、磁控溅射第二层：
[0016]靶材数量：交流旋转靶3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～ 5
×
10
‑
3mbar；镀膜厚度为20～30nm；
[0017]C、磁控溅射第三层：
[0018]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为3～10nm；
[0019]D、磁控溅射第四层：
[0020]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为铜(Cu)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为1～5nm；
[0021]E、磁控溅射第五层：
[0022]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为12:1；溅射气压为 2～3
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为1～3nm；
[0023]F、磁控溅射第六层：
[0024]靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为AZO；工艺气体比例：氩气；溅射气压为2～3
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为1～5nm；
[0025]G、磁控溅射第七层：
[0026]靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为30～60nm；
[0027]H、磁控溅射第八层：
[0028]靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2；溅射气压为3～5
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为5～10nm；
[0029]I、磁控溅射第九层：
[0030]靶材数量：交流旋转靶1～3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2；溅射气压为3～5
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为10～30nm；
[0031]J、磁控溅射第十层：
[0032]靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10
‑
3mbar；镀膜厚度为5～15nm；
[0033]K、磁控溅射第十一层：
[0034]靶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(G)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(G)向外依次复合有十二个膜层，其中，第一层(1)和第二层(2)为第一电介质组合层，第三层(3)为低辐射功能层，第四层(4)和第五层(5)为颜色调节层，第六层(6)和第七层(7)为第二电介质组合层，第八层(8)和第九层(9)为阻挡保护层，第十层(10)为低辐射功能层，第十一层(11)和第十二层(12)为第三电介质组合层。2.根据权利要求1所述一种中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)为氮化硅(SiN
x
)层，所述第二层(2)为氧化锌铝(ZnAlO
x
)层，所述第三层(3)为银(Ag)层，所述第四层(4)为铜(Cu)层,所述第五层(5)为纳米晶含氮镍铬合金薄膜(NiCr
‑
N)层,所述第六层(6)为AZO层,所述第七层(7)为氮化硅(SiNx)层，所述第八层(8)为氧化锌锡(ZnSnO
x
)层，所述第九层(9)为氧化锌铝(ZnAlO
x
)层，所述第十层(10)为银(Ag)层，所述第十一层(11)为AZO层，所述第十二层(12)为氮化硅(SiN
x
)层。3.一种制备权利要求1或权利要求2所述的中反高透晶灰低辐射镀膜玻璃的方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：1)、磁控溅射镀膜层；A、磁控溅射第一层(1)：靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为25～50nm；B、磁控溅射第二层(2)：靶材数量：交流旋转靶3个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5
×
10
‑
3mbar；镀膜厚度为20～30nm；C、磁控溅射第三层(3)：靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置银(Ag)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3
×
10
‑3mbar；镀膜厚度为3～10nm；D、磁控溅射第四层(4)：靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为铜(Cu)；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊建，蒲军，宋宇，杨清华，江维，但小龙，徐敏，张宪峰，杨佐刚，
申请(专利权)人：中国南玻集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：