【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于再生离子交换剂的方法与设备，更特别地讲，涉及这样一种用于再生这样离子交换剂的方法与设备该方法与设备在用来处理一块片基(譬如一块半导体晶片)表面的导电材料或者除去附着在该片基表面的杂质的电解处理中，能够用电化学方法除去该电解过程中使用的离子交换剂内所吸收的金属或其他离子，从而再生该离子交换剂。本专利技术也涉及电解处理装置及方法，提供用来再生离子交换剂的设备，并可用于处理一块片基(譬如一块半导体晶片)表面的导电材料或者除去附着在该片基表面的杂质，而且本专利技术也涉及一种用于这种电解处理的方法。
技术介绍
近年来，不再使用铝或铝合金来作为在一块片基(譬如一块半导体晶片)的表面形成互联电路的一种材料，代之而起的是，出现了一种采用具有低电阻系数及高电迁移电阻的铜(Cu)的明显倾向。铜制的相互连线通常通过将铜充填到一块片基表面的细微凹陷来形成。存在各种人所熟知的、形成这种铜制相互连线的技术，包括CVD、喷涂以及电镀。根据任何一种这样的技术，都是在一块片基的几乎整个表面上形成一层铜膜，然后通过化学机械抛光(CMP)来除去不需要的铜。图1A至图1C按照处...
【技术保护点】
一种用于对供电解使用的离子交换剂进行再生的方法，包括：提供一对电极和要被再生的、放置在该对电极之间的离子交换剂；以及将电压加到该对电极之间并同时在它们之间供应液体，从而再生该离子交换剂。
【技术特征摘要】
JP 2002-3-22 80975/2002;JP 2002-3-22 80974/2002;JP1.一种用于对供电解使用的离子交换剂进行再生的方法，包括提供一对电极和要被再生的、放置在该对电极之间的离子交换剂；以及将电压加到该对电极之间并同时在它们之间供应液体，从而再生该离子交换剂。2.如权利要求1的方法，其中该液体是超纯水、纯水、具有不高于500μS/cm的导电系数的液体或者电解液。3.如权利要求1的方法，其中供再生的离子交换剂被放置在要被再生的离子交换剂与这些电极中的至少一个电极之间。4.如权利要求3的方法，其中供再生的离子交换剂有一个离子交换组，该离子交换组与要被再生的离子交换剂的离子交换组具有相同的极性。5.如权利要求4的方法，其中当该要被再生的离子交换剂与该供再生的离子交换剂为阳离子交换剂时，放置在该要被再生的离子交换剂这一侧的电极是一个阳极；当两者都是阴离子交换剂时，则是一个阴极。6.一个用于对放置在电极之上、供电解处理使用的离子交换剂进行再生的设备，包括再生组件，包含一个再生电极；再生电源，被用于将电压加到该电极与该再生电极之间；以及液体供应组件，被用于将液体供应到该电极与该再生电极之间；其中该要被再生的离子交换剂被放置在该电极与该再生电极之间。7.如权利要求6的设备，其中该液体是超纯水、纯水、具有一个不高于500μS/cm的导电系数的液体或者电解液。8.如权利要求6的设备，还包括放置在该要被再生的离子交换剂与该再生电极之间的、供再生的离子交换剂。9.如权利要求8的设备，其中供再生的离子交换剂有一个离子交换组，该离子交换组与该要被再生的离子交换剂的离子交换组具有相同的极性。10.如权利要求9的设备，其中放置在该要被再生的离子交换剂这一侧的电极当该要被再生的离子交换剂与该供再生的离子交换剂为阳离子交换剂时是一个阳极，而当两者都是阴离子交换剂时是一个阴极。11.如权利要求6的设备，其中该要被再生的离子交换剂与该供再生的离子交换剂中至少有一种是由多种离子交换材料构成的一个薄片。12.如权利要求6的设备，还包括用于在该电压被加到该电极与该再生电极之间时监视该电解电流与时间以及/或者该电量的一个监视器。13.一种用于对被污染离子交换剂进行再生的方法，包括提供一个再生电极与一个反电极、放置在该再生电极与该反电极之间的一个隔板以及放置在该反电极与该隔板之间的要被再生的一种离子交换剂；以及将电压加到该再生电极与该反电极之间，与此同时，将液体供应到该隔板与该再生电极之间，而且也将液体供应到该隔板与该反电极之间。14.如权利要求13的方法，其中该隔板包括离子交换剂。15.如权利要求14的方法，其中该隔板当该要被再生的离子交换剂为阳离子交换剂时是一种阳离子交换剂，而当该要被再生的离子交换剂为阴离子交换剂时则是一种阴离子交换剂。16.如权利要求13的方法，其中该再生电极当该要被再生的离子交换剂为阳离子交换剂时是一个阴极，而当该要被再生的离子交换剂为阴离子交换剂时则是一个阳极。17.如权利要求13的方法，其中供应到该隔板与该反电极之间的液体是超纯水、纯水或具有一个不高于500μS/cm的导电系数的液体。18.如权利要求13的方法，其中供应到该隔板与再生电极之间的液体是具有一个不低于50μS/cm的导电系数的液体，不会通过与从该要被再生的离子交换剂中除去的离子产生的反应而形成一种难溶或不溶的化合物。19.一个用于对离子交换剂进行再生的设备，包括被彼此相对放置的一个再生电极与一个反电极；被放置在该再生电极与该反电极之间的一个隔板；用于将电压加到该再生电极与该反电极之间的电源；以及用于将液体供应到该隔板与该再生电极之间以及/或者该隔板与该反电极之间的液体供应组件；其中，要被再生的离子交换剂被放置在该隔板与该再生电极之间。20.如权利要求19的设备，其中该隔板包括离子交换剂。21.如权利要求20的设备，其中该隔板当该要被再生的离子交换剂为阳离子交换剂时是一种阳离子交换剂，而当该要被再生的离子交换剂为阴离子交换剂时则是一种阴离子交换剂。22.如权利要求19的设备，其中该再生电极当该要被再生的离子交换剂为阳离子交换剂时是一个阴极，而当该要被再生的离子交换剂为阴离子交换剂时则是一个阳极。23.如权利要求19的设备，其中供应到该隔板与该反电极之间的液体是超纯水、纯水或具有一个不高于500μS/cm的导电系数的液体。24.如权利要求19的设备，其中供应到该隔板与再生电极之间的液体是具有一个不低于50μS/cm的导电系数的液体，不会通过与从该要被再生的离子交换剂中除去的离子产生的反应而形成一种难溶或不溶的化合物。25.如权利要求19的设备，还包括用于当该电压被加到该电极板与该再生电极之间时监视该电解电流与时间以及/或者该电量的一个监视器。26.一种电解处理装置，包括能够靠近或接触工件的处理电极；用于向该工件供电的供电电极；在该处理电极与该供电电极中至少一个电极的工件一侧的表面上提供的一种离子交换剂；在该离子交换剂与上述处理电极和供电电极中提供离子交换剂的至少一个电极之间提供的一个再生组件；用于将处理电压加到该处理电极与该供电电极之间的处理电源；以及处理液体供应组件，用于将供电解处理的处理液体供应到该工件与上述处理电极和供电电极中存在该离子交换剂的至少一个电极之间。27.如权利要求26的电解处理装置，其中该再生组件包括被放置得靠近或接触该离子交换剂的隔板；在该隔板与该处理电极和该供电电极中至少一个电极之间形成的排放部分；以及用于将排放液体供应到该排放部分的、用于排放该离子交换剂中所含污染物的排放液体供应组件。28.如权利要求27的电解处理装置，其中该隔板包括一种离子交换剂。29.如权利要求28的电解处理装置，其中该隔板当在该处理电极和该供电电极中至少一个电极的工件一侧的表面上提供的离子交换剂为阳离子交换剂时是一种阳离子交换剂，而当在该处理电极和该供电电极中至少一个电极的工件一侧的表面上提供的离子交换剂为阴离子交换剂时是一种阴离子交换剂。30.如权利要求26的电解处理装置，其中该处理液体是超纯水、纯水或具有一个不高于500μS/cm的导电系数的液体。31.如权利要求27的装置，其中该排放液体是具有一个不低于50μS/cm的导电系数的液体，不会通过与从该处理电极和该供电电极中至少一个电极的工件一侧的表面上提供的离子交换剂中除去的离子产生的反应而形成一种难溶或不溶的化合物。32.一种电解处理装置，包括能够靠近或接触工件的处理电极；用于向该工件供电的供电电极；在该处理电极和该供电电极中至少一个电极的工...
【专利技术属性】
技术研发人员：齐藤孝行，铃木作，槙田裕司，山田薰，白樫充彦，当间康，小田严贵，粂川正行，安田穗积，锅谷治，广川一人，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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