具有可变快门的曝光机台及其曝光方法技术

一种具有可变快门的曝光机台及其曝光方法，该曝光机台是用于半导体制作的曝光机台，该曝光机台包括有一光源、一具有可变透光区域的快门组件以及一透镜组。其中，快门组件可由多个三叶片所组成，并使用步进马达调整三叶片的相对位置以构成可变的透光区域，而透光区域的大小则依据光源的强度或是工艺所需的总曝光量来确定。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供一种曝光机台及其曝光方法，尤指一种可应用于低曝光量的曝光机台及其曝光方法。
技术介绍
一般在制造半导体芯片时，芯片上的各种电路布局需要经过上百道的薄膜工序、曝光显影工序(photolithography processes)、离子掺杂工序、蚀刻工序来形成。其中，在进行曝光显影工序时，先在半导体芯片的表面上涂上一层光阻，之后再通过光源照射将光罩的电路布线图形映像至光阻层上，以使光阻层的化学性质因光源的照射而产生变化，然后再利用去光阻剂来将被光源照射过的光阻或未经曝光的光阻从芯片上去除，以形成对应于光罩的线路布局，进而完成图形转移。由于当光阻层被光源照射时，光阻层的总曝光量为光源强度与曝光时间的乘积，而为了缩短曝光时间以提升产能，通常会选用高功率的光源灯泡。参考图1及图2，图1为公知曝光机台10的内部组件示意图，图2为公知三叶片(Triple-Blade Shutter)14的示意图。曝光机台10由灯泡12、三叶片14、多个透镜16、光罩18、镜头20以及多个反射镜24所组成，其中三叶片14为一快速转动的叶片机构。当进行曝光工序时，灯泡12会发出光源，经由三叶片14控制本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于半导体制作的曝光机台，该曝光机台包括：一光源；一快门组件，该快门组件具有一可变透光区域；以及一透镜组。

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体制作的曝光机台，该曝光机台包括一光源；一快门组件，该快门组件具有一可变透光区域；以及一透镜组。2.如权利要求1的曝光机台，其特征在于该快门组件由多个三叶片所组成。3.如权利要求2的曝光机台，其特征在于该快门组件使用一步进马达调整该些三叶片的相对位置。4.如权利要求1的曝光机台，其特征在于该可变透光区域的大小依据该光源的强度而确定。5.如权利要求1的曝光机台，其特征在于该可变透光区域的大小依据工艺所需的一总曝光量而确定。6.一种用于半导体制作的曝光机台，该曝光机台包括一光源；一快门组件，该快门组件由多个三叶片所组成；以及一透镜组。7.如权利要求6的曝光机台，其特征在于该快门组件使用一步进马达调整该些三叶片的相对位置。8.如权利要求6的曝光机台，其特征在于该快门组件具有一可变透光区域，且该...

【专利技术属性】
技术研发人员：王宏祺，郭宗铭，
申请(专利权)人：力晶半导体股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]