蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法技术

本申请公开了蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法。所述蒙砂液包括：蚀刻剂、晶粒形成剂、悬浮剂和水，所述晶粒形成剂包括H3PO4、HNO3、Na2SO4、CuSO4、NaNO3、NaH2PO4和NH4Cl，所述悬浮剂为淀粉和甘油，所述蒙砂液为过饱和溶液。由此，利用该蒙砂液对玻璃基体进行蚀刻，可使玻璃基体呈现出雪花视觉效果，同时使玻璃基体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，显著提升电池后盖的外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求。对电子设备多样化的需求。

【技术实现步骤摘要】
蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法


[0001]本申请涉及玻璃蒙砂
，具体地，涉及蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法。

技术介绍

[0002]目前，玻璃材质的电池后盖凭借优良的质感、易于装饰化、不屏蔽信号等优点，越来越受欢迎。通过对玻璃基体进行蒙砂蚀刻，可使玻璃基体获得雾面的外观效果，提升电池后盖的外观表现力。
[0003]然而，目前对玻璃基体进行蒙砂蚀刻的蒙砂液、蒙砂玻璃及其加工方法仍有待改进。

技术实现思路

[0004]本申请是基于专利技术人对于以下事实和问题的发现和认识作出的：
[0005]目前电池后盖的外观仍无法满足用户的需求。如前所述，通过对玻璃基体进行蒙砂蚀刻，可使玻璃基体获得雾面的外观效果。具体的，玻璃与蒙砂液反应，形成球状的蒙砂颗粒，上述蒙砂颗粒可减弱反射光，形成漫反射，达到雾面效果。专利技术人发现，蒙砂液对玻璃基体呈现的外观效果具有重要影响，具体的，蒙砂液可影响形成的蒙砂颗粒的形状和排布，从而影响玻璃基体最终呈现的外观效果。因此，亟需对蒙砂液进行改进，以使玻璃基体获得新的外观效果，提升电池后盖的外观表现力。
[0006]本申请旨在至少一定程度上缓解或解决上述提及问题中至少一个。鉴于此，本申请提出了一种可使玻璃基体呈现雪花效果的蒙砂液。
[0007]在本申请的一个方面，本申请提出了一种蒙砂液。所述蒙砂液包括：蚀刻剂、晶粒形成剂、悬浮剂和水，所述晶粒形成剂包括H3PO4、HNO3、Na2SO4、CuSO4、NaNO3、NaH2PO4和NH4Cl，所述悬浮剂为淀粉和甘油，所述蒙砂液为过饱和溶液。由此，利用该蒙砂液对玻璃基体进行蚀刻，可使玻璃基体呈现出雪花视觉效果，同时使玻璃基体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，显著提升电池后盖的外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求。
[0008]在本申请的另一方面，本申请提出了一种蒙砂玻璃的加工方法。所述方法包括：利用前面所述的蒙砂液对玻璃基体的预定区域进行摆动浸泡蚀刻，形成蒙砂部，以获得所述蒙砂玻璃。由此，利用该方法获得的蒙砂玻璃可呈现出雪花视觉效果，同时具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，显著提升电池后盖的外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求，并且该方法具有简单实用、容易操作、成本低廉等优点。
[0009]在本申请的另一方面，本申请提出了一种蒙砂玻璃。所述蒙砂玻璃是利用前面所述的方法加工而成的。由此，该蒙砂玻璃可呈现出雪花视觉效果，同时具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，显著提升电池后盖的外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求。
附图说明
[0010]图1显示了示例1的蒙砂玻璃的显微镜照片；
[0011]图2显示了对比例1的蒙砂玻璃的显微镜照片。
具体实施方式
[0012]下面详细描述本申请的示例，通过参考附图描述的示例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。
[0013]在本申请的一个方面，本申请提出了一种蒙砂液。根据本申请的示例，该蒙砂液包括：蚀刻剂、晶粒形成剂、悬浮剂和水，其中，晶粒形成剂包括H3PO4、HNO3、Na2SO4、CuSO4、NaNO3、NaH2PO4和NH4Cl，悬浮剂为淀粉和甘油，且蒙砂液为过饱和溶液。由此，利用该蒙砂液对玻璃基体进行蚀刻，可使玻璃基体呈现出雪花视觉效果，同时使玻璃基体具有抗反射光、抗划伤、抗粉尘、抗指纹等优良性能，显著提升电池后盖的外观表现力，满足用户对电子设备多样化的需求。
[0014]专利技术人发现，虽然目前有能够使普通钠钙平板玻璃实现雪花效果的蒙砂液，然而还没有能够使高铝硅玻璃实现雪花效果的蒙砂液。普通钠钙平板玻璃应用于家具装饰、商务空间隔断等领域，高铝硅玻璃应用于电子设备领域，如用高铝硅玻璃作电池后盖。且专利技术人发现，若将使钠钙平板玻璃实现雪花效果的蒙砂液，应用到高铝硅玻璃上，会造成雪花效果蚀刻不均匀、雪花颗粒过小、雪花大小不均匀、漏蒙等缺陷，严重制约了电池后盖雪花效果的装饰需求。
[0015]根据本申请的示例，蒙砂液中的蚀刻剂起到在玻璃表面形成蒙砂颗粒的作用，晶粒形成剂(HNO3、H3PO4和Na2SO4、CuSO4、NaNO3、NaH2PO4和NH4Cl)起到控制蒙砂颗粒的形状和排布的作用，在蒙砂液与玻璃反应的过程中，上述晶粒形成剂可促进条状颗粒的形成，且形成的条状颗粒排列成雪花的形状，从而使玻璃呈现出雪花的视觉效果。悬浮剂(淀粉和甘油)用于调节蒙砂液的粘稠度，提升蒙砂液的悬浮乳化性能，以利于实现均匀蚀刻的目的，使得生成的条状颗粒在玻璃表面均匀分布，从而达到均匀的雪花视觉效果。
[0016]根据本申请的示例，该蒙砂液为过饱和溶液。需要说明的是，“过饱和溶液”是指可溶性固体粉末颗粒在溶液中的浓度超出了其饱和浓度。本申请令蒙砂液为过饱和溶液，在蚀刻过程中，可以使蒙砂液一直保持饱和浓度，实现蒙砂液中各种成分的不断供给，保证蚀刻过程中各种成分的反应浓度不变。过饱和溶液处于介稳状态，为了使过饱和溶液稳定，本申请在蒙砂液中添加了悬浮剂(如淀粉和甘油)，让未能充分溶解的固态粉末颗粒在蒙砂液中均匀悬浮，保证体系的稳定。
[0017]根据本申请的示例，蚀刻剂可以包括NH4F、NH4HF2和KHF2。由此，上述蚀刻剂可起到在玻璃表面形成蒙砂颗粒的作用，且能够与晶粒形成剂、悬浮剂具有良好的匹配性。
[0018]根据本申请的示例，蒙砂液包括：8-15wt％的NH4F；15-25wt％的NH4HF2；5-8wt％的KHF2；5-10wt％的H3PO4；10-20wt％的HNO3；0.5-3wt％的Na2SO4；2-6wt％的CuSO4；3-8wt％的NaNO3；0.5-2wt％的NaH2PO4；0.8-3wt％的NH4Cl；8-15wt％的淀粉；5-10wt％的甘油；和8-15wt％的水。由此，利用该蒙砂液对玻璃基体进行蚀刻，可使玻璃基体呈现出较佳的雪花效果。
[0019]本申请对蒙砂液的成分及各种成分的含量进行了优化，具体的，通过添加蚀刻剂
和晶粒形成剂，并选择合适的原料配比形成蒙砂液，蒙砂液与玻璃反应，生成的蒙砂颗粒为条状颗粒，多个条状颗粒排列成雪花的形状，从而使玻璃基体呈现出雪花的视觉效果。本申请中，条状颗粒是生长在玻璃表面的，也即是说，蒙砂液与部分玻璃反应生成了条状颗粒，该条状颗粒牢固的附着在玻璃未反应的部分上，二者构成一个整体，使得玻璃基体的表面具有条状凸起，多个条状凸起排列成雪花的形状，光照射到条状凸起之后，可发生折射和反射，从而在光照下产生雪花的视觉效果。
[0020]本申请中，用于形成蒙砂液的各成分的性能较为接近，共溶性好，各成分之间具有良好的匹配性，满足上述配比的各成分之间相互作用，形成一个平衡的体系，与玻璃反应后，可生成条状颗粒，且多个条状颗粒排列成雪花的形状。专利技术人经过大量实验发现，若将该体系中的某个成分替换成其他成分，或者，去掉该体系中的某个成分，或者，改变某个成分的配比，均会影响玻璃基体的雪花效果。例如，体系中不添加硝酸和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒙砂液，其特征在于，包括：蚀刻剂、晶粒形成剂、悬浮剂和水，所述晶粒形成剂包括H3PO4、HNO3、Na2SO4、CuSO4、NaNO3、NaH2PO4和NH4Cl，所述悬浮剂为淀粉和甘油，所述蒙砂液为过饱和溶液。2.根据权利要求1所述的蒙砂液，其特征在于，所述蚀刻剂包括NH4F、NH4HF2和KHF2。3.根据权利要求1所述的蒙砂液，其特征在于，包括：8-15wt％的NH4F；15-25wt％的NH4HF2；5-8wt％的KHF2；5-10wt％的H3PO4；10-20wt％的HNO3；0.5-3wt％的Na2SO4；2-6wt％的CuSO4；3-8wt％的NaNO3；0.5-2wt％的NaH2PO4；0.8-3wt％的NH4Cl；8-15wt％的淀粉；5-10wt％的甘油；和8-15wt％的水。4.一种蒙砂玻璃的加工方法，其特征在于，包括：利用权利要求1-3任一项所述的蒙砂液对玻璃基体的预定区域进行摆动浸泡蚀刻，形成蒙砂部，以获得所述蒙砂玻璃。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述摆动浸泡蚀刻的温度为4-8℃，所述摆动浸泡蚀刻的时间为5-10min。6.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述摆动浸泡蚀刻的摆动行程为10...

【专利技术属性】
技术研发人员：熊国祥，
申请(专利权)人：郑州恒昊光学科技有限公司，
类型：发明
国别省市：