一种高度择优取向Magn制造技术

本发明专利技术涉及一种高度择优取向Magn

【技术实现步骤摘要】
一种高度择优取向Magn
é
li相Ti6O
11
透明导电薄膜及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及透明导电薄膜
，尤其涉及一种高度择优取向Magn
é
li相Ti6O
11
透明导电薄膜及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]Magn
é
li相亚氧化钛Ti
n
O
2n
‑1(4≤n≤10)自60年前发现以来也引起了广泛关注。Magn
é
li相亚氧化钛Ti
n
O
2n
‑1以金红石相TiO2结构为基础，每间隔n层TiO2结构，存在一个氧缺失层TiO。氧缺陷层的存在降低了Ti
n
O
2n
‑1的禁带宽度，使其具有良好的导电性，Magn
é
li相亚氧化钛的电导率要比TiO2的电导率高出几个数量级。TiO2层的存在又使Magn
é
li相亚氧化钛保留了金红石相TiO2优良的化学稳定性和良好的耐磨性。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高度择优取向Magn
é
li相Ti6O
11
透明导电薄膜的制备方法，其特征在于步骤如下：（1）石英玻璃预处理：将石英玻璃分别在丙酮、无水乙醇、去离子水溶液中超声清洗10min，最后用氮气干燥，备用；（2）沉积准备：采用脉冲激光沉积法，以石英玻璃作为衬底、TiO2作为靶材，靶材和衬底之间的间距保持在4
‑
8cm，激光束以45
°
的入射角度照射在靶材表面，先将腔室抽真空为1
×
10
‑3‑5×
10
‑
3 Pa，然后加热衬底温度至200
‑
700℃，再继续抽真空为1
×
10
‑4‑5×
10
‑
4 Pa，接着通氧气，控制氧流量为10sccm，调节氧分压为5
‑
10Pa；（3）沉积：先预溅射5min，去除靶材表面氧化物后再开始向衬底溅射，结束后原位退火至室温，即生成沉积在石英玻璃衬底上的Magn
é
li相Ti6O
11
透明导电薄膜，其中生长速率为2
‑
12 nm/min。2.根据权利要求1所述的一种高度择优取向Magn
é
li相Ti6O
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透明导电薄膜的制备方法，其特征在于：所述脉冲激光沉积法的设置参数为脉冲激光波长248nm、脉冲宽度25ns、脉冲频率5Hz、输出脉冲能量为200
‑
300 mJ。3.根据权利要求1所述的一种高度择优...

【专利技术属性】
技术研发人员：乔文涛，李明，王康佳，宗海涛，潘靖，殷月红，
申请(专利权)人：河南理工大学，
类型：发明
国别省市：