一种低温ITO镀膜腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：包括进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室，带有绝缘层OC的基板进行ITO镀膜时通过进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室、过渡室、缓冲室、出口室，进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室中均设有真空泵，在过渡室和镀膜室中还设有冷肼。冷肼是利用低温表面抽去真空腔体中的杂气和水蒸汽的一种设备，成本低，但可以实现真空泵相同的抽气作用。冷肼的设置增加了抽气能力，从而可有效去除OC材料逸出杂气，实现低温ITO镀膜满架挂片，进一步提升生产效率。进一步提升生产效率。进一步提升生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种低温ITO镀膜腔体


[0001]本技术属于触摸屏制作
，具体涉及一种低温ITO镀膜腔体，用于去除腔体杂气，提高低温ITO镀膜效率。

技术介绍

[0002]触摸屏作为一种最新的电脑输入设备，它是简单、方便、自然的一种人机交互方式。其中以电容屏最为活跃，电容屏是利用人体的电流感应进行工作的，在玻璃表面贴上一层透明的特殊金属导电物质，当有导电物体触碰时，就会改变触点的电容，从而可以探测出触摸的位置。
[0003]电容屏中OGS产品因其成本低成为热门，但良率一直较低，主要不良为静电击伤。经过设计优化，在ITO膜层下垫一层绝缘层OC，可以解决此异常提升良率，但OC为一种有机材料，不耐高温，经过镀膜腔体烘烤后会逸出大量杂气，导致ITO膜层阻值不稳定，超出现有规格，品质不稳定。针对以上异常，目前的技术方案是减少挂片数量，由满架(4ST/架)改为半架(2ST/架)，但每架台车挂片数量减少，每小时产出减少一半，生产效率只有50％，生产成本较高。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中存在的不足，本技术的目的在于提供一种结构简单、使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：包括进口室(1)、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室(9)，带有绝缘层OC的基板进行ITO镀膜时通过进口室(1)、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室(9)，进口室(1)、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室(9)中均设有真空泵(10)，在过渡室和镀膜室中还设有冷肼(11)。2.如权利要求1所述的一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：所述镀膜室包括第一镀膜室(4)、第二镀膜室(5)和第三镀膜室(6)，第一镀膜室(4)、第二镀膜室(5)和第三镀膜室(6)依次相邻设置且位于ITO镀膜腔体的中间位置。3.如权利要求2所述的一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：所述第一镀膜室(4)中设有Si靶(12)，第二镀膜室(5)和第三镀膜室(6)均设有ITO靶(13)。4.如权利要求3所述的一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：所述第一镀膜室(4)、第二镀膜室(5)和第三镀膜室(6)均设有真空泵(10)，第一镀膜室(4)中还设有冷肼(11)，带有绝缘层OC的基板依次通过第一镀膜室(4)、第二镀膜室(5)和第三镀膜室(6)。5.如权利要求3或4所述的一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：所述过渡室包括第一过渡室(3)和第二过渡室(7)，第一过渡室(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑建军，余志辉，钟素文，夏大映，王胜，朱照生，
申请(专利权)人：芜湖长信科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：