铁氧体基片的平整化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了铁氧体基片的平整化装置，包括装置壳体，所述装置壳体的内腔下端左侧固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的传动杆上端固定连接有放置板，所述装置壳体的内腔上端中部固定连接有第一传动电机，所述第一传动电机的转轴下端固定连接有连接盘，所述连接盘的下端左右两侧分别固定连接有微波发生器和离子发射器，所述装置壳体内腔下端右侧固定连接有第一连接块，所述第一连接块的上端固定插接有第二连接块，所述第二连接块的内腔下部固定连接有第二传动电机，所述第二传动电机的转轴上端固定连接有连接转盘。该铁氧体基片平整化装置，通过设备整体结构，能够有效的清除旋磁铁氧体基片表面的微纳粒子，又不对基片产生损伤。产生损伤。产生损伤。

【技术实现步骤摘要】
铁氧体基片的平整化装置


[0001]本技术涉及机械
，具体为铁氧体基片的平整化装置。

技术介绍

[0002]铁氧体是20世纪40年代发展起来的一种新型的非金属磁性材料。由于它的制备工艺和外观很类似陶瓷品，因此有时被称为磁性瓷。铁氧体一般是指铁族的和其他一种或多种适当的金属元素的复合氧化物，属于半导体，它是作为磁性介质而被利用。磁铁矿，其主要成分是Fe3O4，是一种最简单的铁氧体，也是人类最早应用的一种非金属磁性材料，可是普通的铁氧体基片在进行平整化时，普通的装置不方便清洗，且在平整时容易损伤基片，因此我们提出了一种铁氧体基片的平整化装置。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本技术提供了铁氧体基片的平整化装置，能够有效的清除旋磁铁氧体基片表面的微纳粒子，又不对基片产生损伤，解决了现有的平整化装置在运行时，普通的装置不方便清洗，且在平整时容易损伤基片的问题。
[0004]本技术提供如下技术方案：铁氧体基片的平整化装置，包括装置壳体，所述装置壳体的内腔下端左侧固定连接有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆的传动杆上端固定连本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.铁氧体基片的平整化装置，包括装置壳体(1)，其特征在于：所述装置壳体(1)的内腔下端左侧固定连接有电动伸缩杆(2)，所述电动伸缩杆(2)的传动杆上端固定连接有放置板(3)，所述装置壳体(1)的内腔上端中部固定连接有第一传动电机(4)，所述第一传动电机(4)的转轴下端固定连接有连接盘(5)，所述连接盘(5)的下端左右两侧分别固定连接有微波发生器(7)和离子发射器(6)，所述装置壳体(1)内腔下端右侧固定连接有第一连接块(8)，所述第一连接块(8)的上端固定插接有第二连接块(9)，所述第二连接块(9)的内腔下部固定连接有第二传动电机(10)，所述第二传动电机(10)的转轴上端固定连接有连接转盘(11)，所述连接转盘(11)的上侧通过螺栓固定连接有连板(12)，所述连板(12)的上端固定连接有毛刷层(13)，所述装置壳体(1)的前端下部左侧通过合页连接有开关门(14)，所述毛刷层(13)的毛刷包括刷毛杆(15)、橡胶球(16)和刷毛(...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨武，杨志，
申请(专利权)人：江苏信核芯微电子有限公司，
类型：新型
国别省市：