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本实用新型公开了一种低温ITO镀膜腔体，其特征在于：包括进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室，带有绝缘层OC的基板进行ITO镀膜时通过进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室、过渡室、缓冲室、出口室，进口室、缓冲室、过渡室、镀膜室和出口室中均设有真...
该专利属于芜湖长信科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过芜湖长信科技股份有限公司授权不得商用。

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