一种平面度测量装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种平面度测量装置，包括基座、测量机构，基座具有用于对待测量工件进行定位的定位机构，测量机构具有支架和沿支架长度方向滑动设置的测量单元，支架设于基座上且可沿基座宽度方向移动，测量单元设有两个或两个以上且位于待测量工件的上方，用于测量待测量工件的平面度。本实用新型专利技术通过在支架上设置多个测量单元，可同时对工件表面的多个点进行测量，有效提高了作业效率，并通过将支架与基座滑动连接，将测量单元与支架滑动连接，使用时可控制测量单元相对于工件的长度和宽度方向移动，实现对工件全方位的检测，不仅操作简单、方便，且测量精度高。且测量精度高。且测量精度高。

【技术实现步骤摘要】
一种平面度测量装置


[0001]本技术涉及测量
，尤其涉及一种平面度测量装置。

技术介绍

[0002]平面度是指基片具有宏观回凸高度相对理想平面的偏差，平面度是限制实际平面对其理想平面变动量的一项指标，用来控制被测实际平面的形状误差。
[0003]目前常见的平面度测量方法是通过人工使用量具对工件进行多面检测，其测量精准度低，劳动强度大。现有技术中也有采用平面度测量设备对工件进行测量，但这种测量设备大都采用单测头测量，其测量速度慢，工作效率低。

技术实现思路

[0004]为解决上述技术问题，本技术的目的在于提供一种平面度测量装置，可实现高精度测量，且测量效率高。
[0005]本技术提供一种平面度测量装置，其特征在于，包括：
[0006]基座，其具有用于对待测量工件进行定位的定位机构；
[0007]测量机构，其具有支架和沿所述支架长度方向滑动设置的测量单元，所述支架设于所述基座上且可沿所述基座宽度方向移动，所述测量单元设有两个或两个以上且位于待测量工件的上方，用于测量待测量工件的平面度。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平面度测量装置，其特征在于，包括：基座(1)，其具有用于对待测量工件进行定位的定位机构(11)；测量机构(2)，其具有支架(21)和沿所述支架(21)长度方向滑动设置的测量单元(22)，所述支架(21)设于所述基座(1)上且可沿所述基座(1)宽度方向移动，所述测量单元(22)设有两个或两个以上且位于待测量工件的上方，用于测量待测量工件的平面度。2.根据权利要求1所述的平面度测量装置，其特征在于，所述基座(1)上设置有第一滑轨(12)，所述第一滑轨(12)沿所述基座(1)宽度方向设置，所述支架(21)上设置有与所述第一滑轨(12)滑动配合的第一滑块(23)。3.根据权利要求2所述的平面度测量装置，其特征在于，还包括用于驱动所述第一滑块(23)移动的第一驱动机构，所述第一驱动机构设于所述基座(1)或所述第一滑轨(12)上。4.根据权利要求1所述的平面度测量装置，其特征在于，所述支架(21)上设置有第二滑轨(211)和与所述第二滑轨(211)滑动连接的第二滑块(212)，所述第二滑块(212)与所述测量单元(22)连接。5.根据权利要求4所述的平面度测量装置，其特征在于，还包括用于驱动所述第二滑块(21...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄奇，
申请(专利权)人：苏州宸可精密工业有限公司，
类型：新型
国别省市：