控制处理系统操作的方法技术方案

在一种控制处理系统操作的方法中，主机、处理工具和抽空系统的组件（例如，消解工具）被连接到系统总线。消解工具监测在系统总线上与主机和处理工具之间传送的信号和直接从处理工具接收的信号。消解工具使用包含在该监测信号内的信息来产生关于消解工具的工作特性的处理工具的信号。该信号或者直接或者在系统总线上被传送至处理工具，它使用所产生的信号来控制处理工具的操作状态。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种控制处理系统(例如，半导体或平板显示器处理系统)操作的方法，并且涉及包含执行时实施控制这种半导体处理系统操作的程序的计算机可读介质。
技术介绍
半导体基底和平板显示装置的处理一般是在抽空处理室内完成的。用于处理室的抽空系统一般包括若干真空泵以及(取决于工艺气体的属性)包括若干消解工具。例如，由美国专利6,739,840已知使用变速真空泵上的气体负载这样的参数来控制泵的速度并因此降低功耗。
技术实现思路
至少本专利技术的优选实施例的目的是提供一种改进的在一个方面，本专利技术提供了一种控制处理系统(例如，半导体处理系统)操作的方法，该处理系统包含处理工具和用于处理工具室的抽空系统，该方法包含监测从该处理工具传送的信号，利用包含在该监测信号中的信息来产生包含关于抽空系统组件的状态或工作特性的处理工具的信息的信号，并传送所产生的信号。在另一方面，本专利技术提供了一种包含执行时实施用于控制处理系统的操作的程序的计算机可读介质，该处理系统包含处理工具和用于处理工具的抽空系统，该操作包括监测从该处理工具传送的信号，利用包含在该监测信号中的信息来产生包含关于抽空系统组件的状态或工作特性的处理工具的信息的信号，并传送所产生的信号。计算机程序可以包含在各种各样信号承载介质上，例如，只读存储装置或软盘，并且可以通过通信介质(诸如通过计算机或电话网络，包括无线通信)传送至计算机。本专利技术还提供了用于处理系统的抽空系统，该处理系统包含处理工具，其中抽空系统的组件中的至少一个(例如，真空泵和/或消解工具)包含用于监测从处理工具传送的信号的部件、用于利用包含在该监测信号中的信息来产生包含关于该组件的工作特性或状态的处理工具的信息的信号的部件，以及用于传送所产生的信号的部件。本专利技术还提供了半导体处理系统，该处理系统包含如上所述的抽空系统。附图说明现在将仅仅以举例的方式，参照附图来描述本专利技术的优选特征，其中图1是半导体制造系统网络的实施例的框图；图2(a)-2(c)是用于处理室的抽空系统的不同实施例的框图；图3是图1网络的处理工具的框图；图4是图1网络的真空泵的框图；图5是图1网络的消解工具的框图；图6(a)说明的是用来抽空处理室的两个真空泵的电动机功率随时间的变化，而图6(b)示出的是和图6(a)相同的变化，其经过修改可包括与处理室的状态有关的信息；图7是说明泵控制器的算法的流程图；图8是说明消解工具控制器的算法的流程图；以及图9是说明处理工具控制器的算法的流程图。具体实施例方式参照图1至5，处理系统的网络10包含处理工具12。工具12包含用于接纳将要处理的基底的处理室14。处理室14可以是任何类型的用于半导体处理并且是至少暂时处于真空状态下的室。例如，处理室14可以是蚀刻室、蒸汽淀积室、离子注入室、转移室、负载锁定室、定向室等其中的一个。工具12一般包括各种各样的机械组件，诸如控制阀、执行机构和电动机。例如，工具12可以包括用于控制气体从一个或多个气源供给室14的若干阀门，和用于控制废气从室14排出的若干阀门。过程控制器16通过生成用于控制这样的机械组件的操作的控制信号来控制处理室14内的处理过程。过程控制器16可以是能够控制工具12的操作的任何装置，并且一般包括中央处理单元、支持电路和存储一个或多个用来操作工具12的程序的存储器。处理工具12通过系统总线20链接到主机18。主机18通过向控制器16发送命令信号来控制工具12。控制器16按照所存储的程序使用在该信号内接收的指令来操作工具。位于工具12内的检测器、传感器等将信号输出至与处理参数(例如，室14内的压力和温度、气体流速、室14的装载状态等等)有关的过程控制器16，由此控制器16产生将要返回到主机18的状态信号。这些信号使主机18能够根据命令来监测工具12的工作状态。这些状态信号可以包括比如各种报警、事件、参数更新、触发等等。根据从这些信号接收到的信息，主机18产生将要发送至控制器16的另外的命令信号。信号按照公用标准(诸如在半导体行业中公知的GEM/SECS)优选地在系统总线20上被发送。GEM/SECS通信接口22连接在控制器16和主机18之间。图2(a)-2(c)以框图的形式说明了用于抽空处理室14的不同系统。这样的抽空系统24一般包含至少一个用于抽空处理室14的真空泵26。真空泵26可以包含任何适当类型的真空泵，例如，使用内部啮合转子的单级或多级容积式泵。在每一级中，转子可以具有相同类型的轮廓或者该轮廓可以随级变化。另一方面，真空泵26还可以包含涡轮分子泵、回旋叶片泵、低温泵或容积式泵。真空泵控制器28控制真空泵26的操作。例如，控制器28可以配置成通过向用于促动泵浦机制的电动机30输出控制该电动机30所吸收的功率量的信号来控制真空泵26的泵浦速度。从位于电动机30的传感器返回到控制器28的信号可以使控制器28能够监测电动机30的状态，由此该控制器可以改变工作参数(诸如提供给电动机30的电压的频率)以便优化泵浦机构的性能。泵控制器28可以是能够控制真空泵26的操作的任何装置，而且一般包括中央处理单元、支持电路和已编程的存储器。真空泵26的工作特性的控制可以按照预编程的例程和/或根据外部控制信号来实施。参照图1、3和4，在该实施例中，真空泵26具有接口32，用以通过接口34接收由处理工具12的过程控制器16产生的信号。这些接口32、34可以利用电缆或其它的物理连接器连接在一起，或者这些控制器16、28可以配置成用于无线通信。这可以使真空泵26的接口32能够从处理工具12的接口34接收表示处理工具12的状态的信号。包含在这些信号中的信息可以类似于包含在从处理工具12传送到主机18的信号中的信息，例如，涉及处理室14内的压力、气体流速和/或处理工具的一个或多个阀门的状态的信息。真空泵24的控制器28被配置成可根据这些接收的信号来监测处理工具12的状态，并按照所存储的算法调节真空泵的一个或多个工作特性，例如，泵浦速度。泵控制器28还可以被配置成监测真空泵的工作特性(诸如泵内的温度)并且在这些工作特性超过预定值的情况下产生报警信号。半导体处理技术一般使用各种各样的气体进行处理，诸如薄膜沉积、蚀刻和表面清理。这些气体中的许多以及作为这些技术的副产品形成的气体是有毒、侵蚀性或易燃的。因而，该系统包括至少一个消解工具36，用以处理从处理室14排出的废气流，以便从废气流中除去这种不希望有的气体。消解工具36或者如图2(a)所示在真空泵26的下游或者如图2(b)所示在真空泵26的上游接收来自处理室14的废气流，并且例如通过湿法洗涤将废气流中不希望有的气体转化成一种或多种可以更方便处理的化合物，和/或转化成可以排入大气的化合物。消解工具36的属性将取决于从处理室14排出的废气的成分。例如，消解工具36可以包含燃烧器，诸如热处理单元(TPU)、引火调节系统、气体反应柱(GRC)、热或非热等离子体消解装置等。除真空泵和消解工具以外，处理系统的抽空系统还可以包括其它组件。例如，如图2(c)所示，该抽空系统可以包括用于将惰性净化气体(如氮)供给处理室14和真空泵的净化气源38以及用于控制流过抽空系统的废气流速的一个或多个阀门40。这些组件的操作可以由各自的控制器(图中未示出)或由处本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种控制处理系统的操作的方法，所述处理系统包含处理工具和用于所述处理工具的室的抽空系统，所述方法包含：监测从所述处理工具传送的信号；利用包含在所监测的信号内的信息产生包含关于所述抽空系统组件的工作特性或状态的所述处理工具的信 息的信号；以及传送所产生的信号。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2004-6-7 0412623.11.一种控制处理系统的操作的方法，所述处理系统包含处理工具和用于所述处理工具的室的抽空系统，所述方法包含监测从所述处理工具传送的信号；利用包含在所监测的信号内的信息产生包含关于所述抽空系统组件的工作特性或状态的所述处理工具的信息的信号；以及传送所产生的信号。2.按照权利要求1所述的方法，其中所述信号按照存储的算法产生。3.按照权利要求1或2所述的方法，其中所述处理工具连接到系统总线，所述监测的信号在所述系统总线上于所述处理工具和主机之间传送。4.按照权利要求3所述的方法，其中所述组件被配置成可监测在所述处理工具和所述主机之间传送的信号。5.按照权利要求3或4所述的方法，其中所述产生的信号被传送到所述主机，它向所述处理工具传递包含在所述产生的信号内的信息。6.按照权利要求5的所述方法，其中所述组件被配置成可在所述系统总线上向所述主机传送所述产生的信号。7.按照前面任何一项权利要求所述的方法，其中所述处理工具被布置成可利用所述产生的信号内的信息来控制所述处理工具的工作特性或状态。8.按照权利要求7所述的方法，其中所述处理工具按照存储的算法来控制。9.按照前面任何一项权利要求所述的方法，其中所述抽空系统的组件是消解工具。10.一种包含程序的计算机可读介质，在执行所述程序时，实施控制处理系统的操作，所述处理系统包含处理工具和...

【专利技术属性】
技术研发人员：JR史密斯，MR切尔尼亚克，NJ吉宾斯，
申请(专利权)人：爱德华兹有限公司，
类型：发明
国别省市：GB[英国]