一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线制造技术

技术编号:31827428 阅读:17 留言:0更新日期:2022-01-12 12:57
本发明专利技术涉及一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线。本发明专利技术天线具体是在单个基片集成波导腔体中进行了天线和滤波器的一体化设计,通过耦合缝隙对谐振腔进行馈电,将具有低损耗特点的介质集成波导技术和谐振腔的高阶模相结合,用一个简单的馈电网络实现了紧凑的低剖面滤波天线子阵。由于不含额外的滤波电路,本发明专利技术解决了介质集成波导相对于微带线尺寸较大所引起的基于介质集成波导技术的滤波天线的馈电结构过于冗杂的问题。此外该设计不仅在引入滤波特性的同时保持了尺寸的紧凑还避免了不必要的插入损耗。由于馈电结构的简单可方便地用于大型阵列的构建。总之,本发明专利技术的天线具备结构紧凑,低剖面,高选择性,高增益和宽工作带宽的特点。和宽工作带宽的特点。和宽工作带宽的特点。

【技术实现步骤摘要】
一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线


[0001]本专利技术属于无线通信终端的天线
,涉及一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,可作为小型化无线收发机射频前端的天线,广泛应用于移动通信、卫星通信以及雷达等无线通信系统中。

技术介绍

[0002]在5G通信应用中,毫米波天线被提出用于解决频谱资源紧张的问题,而高增益、宽带宽、结构紧凑且成本低廉的毫米波天线是5G通信系统所迫切需求的。提高天线增益的一个常规操作是进行阵列设计,而阵列所必须的馈电网络会带来额外的损耗,因此具有馈电结构的天线在进行阵列设计中将具备显著优势。另外,目前大多数高增益的平面天线阵列是基于微带技术进行设计的。微带技术具备设计灵活,价格低廉,低剖面且易集成等显著优势,但是在毫米波频段,其额外的寄生辐射损耗将会变得不可忽略。大的寄生辐射损耗对于要实现高增益特性的天线或者阵列而言是不可接受的。作为替代,具有低剖面,低损耗特点的基片集成波导(Substrate integrated waveguide,SIW)技术近年来受到了研究者们的普遍关注并已经被大量用于毫米波天线的设计。在基于SIW的天线设计中,SIW背腔天线能够进一步提高天线的增益由此被大量用于高增益天线的设计。目前,SIW背腔天线主要分为缝隙背腔天线和贴片背腔天线两类。相比于缝隙背腔天线,背腔贴片天线具备更高的天线增益,且由于由额外的贴片模式所引入的额外的谐振点,其工作带宽也得到了进一步的拓展。
[0003]另一方面,将射频前端器件中不可或缺的天线和滤波器进行一体化设计的滤波天线以其小型化、低损耗的显著优势获得了业界的广泛关注。目前,基于微带技术的高选择性、宽带宽的滤波天线已经被大量研制,而高增益滤波天线尤其是毫米波高增益滤波天线阵列的研发却进展缓慢。这是因为基于微带技术的毫米波滤波天线存在不可忽略的寄生辐射问题,而基于SIW技术的滤波天线存在滤波结构设计难度较高的问题。目前已报道的大多数滤波天线的实现都是依托于将滤波电路集成在天线的馈电网络中,由此导致了馈电网络的复杂化。而SIW技术相比于微带技术的一个劣势在于其相对较大的体积,这使得基于SIW的集成有滤波电路的馈电网络将需要很大的铺设空间,这直接导致了阵列设计的难以实现。
[0004]综上所述,为了实现毫米波滤波天线阵列设计,本专利技术通过引入高阶谐振腔模式,提出了一种基于SIW技术的不含额外滤波电路的滤波天线设计方案。本专利技术提出的天线可看作一个2*2的天线阵列,而相比于传统的2*2滤波天线阵列,本专利技术具备极其简单的馈电网络,这对于以此为基础进行大规模的阵列设计具有重要意义。此外,本专利技术所提出的天线还具备高选择性、高增益以及宽工作带宽。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是针对现有技术的不足,提供一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴
片滤波天线,具体是在单个基片集成波导腔体中进行了天线和滤波器的一体化设计,通过耦合缝隙对谐振腔进行馈电。本专利技术提出的天线结构十分简单,只使用了两层介质基板,一个基片集成波导谐振腔以及一个基片集成波导,其加工十分简单,制作成本也很低。此外,在结构简单的同时该天线还具有良好的辐射特性,其带宽、增益均十分优良。
[0006]实现本专利技术目的的技术解决方案:
[0007]紧凑的高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,从上至下依次包括上层金属面M1、上层介质基板S1、中间金属面M2、下层介质基板S2、下层金属面M3;
[0008]所述上层介质基板S1内设有谐振腔C,该谐振腔C由周期性分布的多个第一金属化通孔围合而成;所述谐振腔C中心设有由周期性分布的多个第二金属化通孔构成的十字金属壁WV;所述十字金属壁WV将所述谐振腔C分为四个完全相同的区域CS;
[0009]所述第一金属化通孔、第二金属化通孔、短路金属化通孔VT贯穿上层介质基板S1;
[0010]所述上层金属面M1覆盖在所述上层介质基板S1的上表面;所述上层金属面M1开有四个镂空区域,所述四个镂空区域的中心与四个区域CS的中心一一对应;所述四个镂空区域均设有金属贴片P,所述金属贴片P与上层金属面M1不接触,即金属贴片P与上层金属面M1间留有环形缝隙A;所述上层金属面M1在谐振腔C四个角相对应位置各开有一窄缝SP;四个窄缝SP关于谐振腔C中心对称;
[0011]所述中层金属面M2位于上层介质基板S1的下表面和下层介质基板S2的上表面;所述中层金属面M2上蚀刻有耦合窄缝隙ST,所述耦合窄缝隙ST与十字金属壁的一臂平行且贴近于谐振腔C的金属化通孔壁;
[0012]所述下层介质基板S2内设有一个基片集成波导W,该基片集成波导W由中层金属面M2、下层金属面M3、周期性分布的多个第三金属化通孔构成;所述基片集成波导W内设有一阻抗匹配金属化通孔VB,且所述基片集成波导W的位于下层介质基板S2边缘一端开放设置;
[0013]所述第三金属化通孔贯穿下层介质基板S2;
[0014]所述下层金属面M3设置在下层介质基板S2的下表面;所述下层金属面M3蚀刻有一共面波导T;所述一共面波导T位于基片集成波导W开放端对应位置,且位于所述基片集成波导W内;所述共面波导T由一对轴对称设置的缝隙枝节构成;所述缝隙枝节不与基片集成波导W接触。
[0015]作为优选,所述的介质集成波导谐振腔C的尺寸满足使其实现主要工作在TE
410
模式和TE
330
模式;
[0016]作为优选,所述的介质集成波导谐振腔C中每个区域CS的尺寸满足实现工作在对角TE
120
模式;
[0017]作为优选,利用环形缝隙A与金属贴片P之间的混合电磁耦合在工作频带上边带引入了一个增益零点,利用介质集成波导的截止频率使工作频带下边带发生了急剧的滚降;
[0018]作为优选,所述区域CS的中心各设有一短路金属化通孔VT。
[0019]作为优选,所述谐振腔C为方形,其边长为1.45

1.55λ0(λ0为自由空间波长);所述镂空区域为方形,其边长为0.39

0.395λ0;所述金属贴片P为方形,其边长Lp为0.28

0.3λ0;
[0020]作为优选,所述十字金属壁WV的臂部端点到谐振腔C的金属壁的距离Lw为0.5

0.6λ0;
[0021]作为优选,所述窄缝SP的长度为0.27

0.29λ0,其到谐振腔中心的距离为0.8

0.9
λ0;
[0022]作为优先,所述耦合窄缝隙ST中心到邻近的谐振腔C壁的距离为0.05

0.06λ0;
[0023]作为优选,所述的基片集成波导W的靠近介质基板S1边缘外侧壁与谐振腔C的其中一个金属化通孔壁对齐;
[0024]作为优选,所述缝隙枝节为一体成型结构,包括水平缝隙和向外延伸的45
°
角倾斜缝隙;
[0025]作为优选,所述窄缝本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,其特征在于从上至下依次包括上层金属面M1、上层介质基板S1、中间金属面M2、下层介质基板S2、下层金属面M3;所述上层介质基板S1内设有谐振腔C,该谐振腔C由周期性分布的多个第一金属化通孔围合而成;所述谐振腔C中心设有由周期性分布的多个第二金属化通孔构成的十字金属壁WV;所述十字金属壁WV将所述谐振腔C分为四个完全相同的区域CS;所述第一金属化通孔、第二金属化通孔、短路金属化通孔VT贯穿上层介质基板S1,其两端分别与上层金属面M1、中间金属面M2连接;所述上层金属面M1开有四个镂空区域,所述四个镂空区域的中心与四个区域CS的中心一一对应;所述四个镂空区域均设有金属贴片P,所述金属贴片P与上层金属面M1间留有环形缝隙A;所述上层金属面M1在谐振腔C四个角相对应位置各开有一窄缝SP;四个窄缝SP关于谐振腔C中心对称;所述中层金属面M2上蚀刻有耦合窄缝隙ST,所述耦合窄缝隙ST与十字金属壁的一臂平行且贴近于谐振腔C的金属化通孔壁;所述下层介质基板S2内设有一个基片集成波导W,该基片集成波导W由中层金属面M2、下层金属面M3、周期性分布的多个第三金属化通孔构成;所述基片集成波导W内设有一阻抗匹配金属化通孔VB;所述第三金属化通孔贯穿下层介质基板S2,其两端分别与中间金属面M2、下层金属面M3连接;所述下层金属面M3设置在下层介质基板S2的下表面;所述下层金属面M3蚀刻有一共面波导T。2.如权利要求1所述的一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,其特征在于所述基片集成波导W的位于下层介质基板S2边缘一端开放设置;所述一共面波导T位于基片集成波导W开放端对应位置。3.如权利要求2所述的一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,其特征在于所述共面波导T由一对轴对称设置的缝隙枝节构成;所述缝隙枝节与基片集成波导W不接触。4.如权利要求3所述的一种紧凑型高增益单馈毫米波背腔贴片滤波天线,其特征在于所述缝隙枝节为一体成型结构,包括水平缝隙和向外延伸的45
...

【专利技术属性】
技术研发人员:罗国清王文磊金华燕俞伟良张晓红
申请(专利权)人:杭州电子科技大学
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1