成膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种成膜装置，其可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜。所述成膜装置是在工件10上形成膜的成膜装置，其包括：搬送部30，具有循环搬送工件10的旋转台31；成膜处理部40，具有包含构成膜的材料的靶42、及将被导入靶42与旋转台31之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对靶42进行溅射而在工件10上形成膜；以及离子照射部60，照射离子；搬送部30以工件10穿过成膜处理部40与离子照射部60的方式循环搬送工件10，离子照射部60对工件10上的形成途中的膜照射离子。工件10上的形成途中的膜照射离子。工件10上的形成途中的膜照射离子。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】成膜装置


[0001]本专利技术涉及一种成膜装置。

技术介绍

[0002]在光学机器形成有光学膜，所述光学膜使规定的波长区域的光反射，使其他波长区域的光透过。作为光学机器，例如可列举：液晶投影机、影印机、红外线传感器的聚光镜等冷光镜。冷光镜形成有成为使可见光反射，使规定的波长区域的光透过的光学膜的层叠膜。作为形成此种层叠膜的方法，已知有利用溅射的方法，所述溅射使包含成膜材料的靶暴露于等离子体中，由此打出构成靶的粒子，并使所述粒子堆积于工件上。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本专利特开2005
‑
266538号公报

技术实现思路

[0006]专利技术所要解决的问题
[0007]此处，已知通过溅射所形成的层叠膜产生堆积的粒子稀疏的部分与稠密的部分，由此在膜的表面产生凹凸。将如所述那样在表面产生凹凸的膜层叠的成为光学膜的层叠膜存在于膜彼此的界面产生光的漫反射，透过率等光学特性恶化的情况。
[0008]本专利技术是为了解决如上所述的课题而形成的专利技术，其目的在于提供一种可形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜的成膜装置。
[0009]解决问题的技术手段
[0010]本专利技术的成膜装置是在工件上形成膜的成膜装置，包括：腔室，可使内部变成真空；搬送部，设置于所述腔室内，具有在圆周的搬送路径上循环搬送所述工件的旋转台；成膜处理部，具有包含构成所述膜的材料的靶、及将被导入所述靶与所述旋转台之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对所述靶进行溅射而在所述工件上形成膜；膜处理部，具有朝所述腔室的内部空间突出且朝所述搬送路径开口的筒状体、以堵塞所述筒状体的开口的方式设置的窗构件、朝形成于所述旋转台与所述筒状体之间的处理空间导入第一工艺气体的第一工艺气体导入部、经由所述窗构件而使所述处理空间内产生电场的天线、及对所述天线施加高频电压的电源，将所述第一工艺气体等离子体化来使所述处理空间内产生感应耦合等离子体，而使所述膜进行化学反应；以及离子照射部，具有在一端设置有开口部且以所述开口部朝向所述搬送路径的方式安装于所述腔室的筒形电极、朝所述筒形电极的内部导入第二工艺气体的第二工艺气体导入部、及对所述筒形电极施加高频电压的电源，对所述膜照射将所述第二工艺气体等离子体化所生成的离子；所述搬送部以所述工件穿过所述成膜处理部、所述膜处理部、及所述离子照射部的方式循环搬送所述工件，所述离子照射部对所述工件上的形成途中的所述膜照射离子。
[0011]专利技术的效果
[0012]根据本专利技术，可获得能够形成抑制光学特性的恶化的平坦的膜的成膜装置。
附图说明
[0013][图1]是示意性地表示实施方式的成膜装置的结构的透视平面图。
[0014][图2]是图1的A
‑
A剖面图。
[0015][图3]是图1的B
‑
B剖面图。
[0016][图4]是利用实施方式的成膜装置的处理的流程图。
[0017][图5]是表示利用实施方式的成膜装置的工件的处理过程的示意图。
[0018][图6]是利用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope，TEM)所拍摄的实施例1、实施例2及比较例1的剖面图像，(a)为实施例1的剖面图像，(b)为实施例2的剖面图像，(c)为比较例1的剖面图像。
[0019][图7]是图6中的实施例1、实施例2及比较例1的表层八层部分的放大剖面图像，(a)为实施例1的剖面图像，(b)为实施例2的剖面图像，(c)为比较例1的剖面图像。
[0020][图8]是表示实施例1、实施例2及比较例1的各层的最大高度Rz的图表。
[0021][图9]是表示实施例1、实施例2及比较例1的各层的最大高度Rz的标准偏差的图表。
具体实施方式
[0022](实施方式)
[0023](结构)
[0024]一边参照附图，一边对本专利技术的成膜装置的实施方式进行详细说明。图1是示意性地表示本实施方式的成膜装置100的结构的透视平面图。所述成膜装置100是在工件10上形成膜的装置。工件10是玻璃基板或树脂基板。成膜装置100在工件10上形成的膜是层叠有多个膜的层叠膜。在本实施方式中，所述膜是成为光学膜的层叠膜，例如将SiO2膜与Nb2O5膜交替地层叠而形成。
[0025]成膜装置100包括：腔室20、搬送部30、成膜处理部40、膜处理部50、离子照射部60、载入/载出(load
‑
lock)部70、以及控制装置80。
[0026](腔室)
[0027]腔室20是可使内部变成真空的圆柱形状的容器。腔室20内由分隔部22划分，被呈扇状地分割成多个区域。在各区域配置成膜处理部40、膜处理部50、离子照射部60、载入/载出部70的任一者。各部40、50、60、70相对于搬送部30的搬送方向(图1中的逆时针方向)，以成膜处理部40、膜处理部50、离子照射部60、载入/载出部70的顺序配置。膜处理部50及离子照射部60邻接设置。
[0028]如图2所示，腔室20由圆盘状的顶部20a、圆盘状的内底面20b、及环状的内周面20c包围来形成。分隔部22是自圆柱形状的中心呈放射状地配设的方形的壁板，自顶部20a朝内底面20b延长，未到达内底面20b。即，在内底面20b侧确保圆柱状的空间。在所述圆柱状的空间内配置有搬送工件10的旋转台31。分隔部22的下端空开载置于搬送部30的工件10穿过的间隙，与旋转台31中的工件10的载置面相向。通过所述分隔部22，而在成膜处理部40、膜处理部50、及离子照射部60中划分进行工件10的处理的处理空间。由此，可抑制成膜处理部40
的溅射气体G1、膜处理部50的工艺气体(第一工艺气体)G2、及离子照射部60的工艺气体(第二工艺气体)G3(参照图3)朝腔室20内扩散。
[0029]另外，如后述那样，在成膜处理部40、膜处理部50、及离子照射部60中，在处理空间内生成等离子体，但只要调整被划分成比腔室20小的空间的处理空间内的压力即可，因此可容易地进行压力调整，可使等离子体的放电稳定化。再者，在腔室20设置有排气口21。在排气口21连接有排气部90。排气部90具有配管及未图示的泵、阀等。通过经由排气口21的利用排气部90的排气，可对腔室20内进行减压来变成真空。
[0030](搬送部)
[0031]搬送部30具有旋转台31、马达32及保持部33，沿着作为圆周的轨迹的搬送路径L循环搬送工件10。即，搬送部30以工件10依次穿过成膜处理部40、膜处理部50、离子照射部60的方式循环搬送工件10。因此，搬送部30以工件10交替地穿过成膜处理部40与离子照射部60的方式搬送工件10。
[0032]旋转台31具有圆盘形状，以不与内周面20c接触的程度大幅度扩展。马达32将旋转台31的圆中心作为旋转轴，以规定的旋转速度连续地本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种成膜装置，是在工件上形成膜的成膜装置，其特征在于包括：腔室，能够使内部变成真空；搬送部，设置于所述腔室内，具有在圆周的搬送路径上循环搬送所述工件的旋转台；成膜处理部，具有包含构成所述膜的材料的靶、及将被导入所述靶与所述旋转台之间的溅射气体等离子体化的等离子体产生器，利用等离子体对所述靶进行溅射而在所述工件上形成膜；膜处理部，具有朝所述腔室的内部空间突出且朝所述搬送路径开口的筒状体、以堵塞所述筒状体的开口的方式设置的窗构件、朝形成于所述旋转台与所述筒状体之间的处理空间导入第一工艺气体的第一工艺气体导入部、经由所述窗构件而使所述处理空间内产生电场的天线、及对所述天线施加高频电压的电源，将所述第一工艺气体等离子体化来使所述处理空间内产生感应耦合等离子体，而使所述膜进行化学反应；以及离子照射部，具有在一端设置有开口部且以所述开口部朝向所述搬送路径的方式安装于所述腔室的筒形电极、朝所述筒形电极的内部导入第二工艺气体的第二工艺气体导入部、及对所述筒形电极施加高频电压的电源，对所述膜照射将所述第二工艺气体等离子体化所生成的离子；所述搬送部以所述工...

【专利技术属性】
技术研发人员：小野大祐，
申请(专利权)人：芝浦机械电子装置株式会社，
类型：发明
国别省市：