一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用，属于涂层技术领域。该隐身涂层包括YSZ陶瓷层，YSZ陶瓷层具有羽毛柱状晶，且羽毛柱状晶之间的间隙为不超过1μm。具有上述结构的YSZ陶瓷层不仅在高温下具有良好的稳定性和隔热性能，而且能够增大涂层对红外光的反射和后向散射，降低涂层的发射率。其制备方法包括以下步骤：采用等离子喷涂

【技术实现步骤摘要】
一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及涂层
，具体而言，涉及一种具有红外低发射率的隐身涂层及其制备方法与应用。

技术介绍

[0002]随着军事技术的发展，红外隐身涂层变得至关重要，而红外隐身技术的关键在于降低目标飞行器的红外辐射强度。根据玻尔兹曼定律：红外辐射强度E＝εσT4，其中，ε为材料的发射率，T为物体表面的热力学温度，σ为玻尔兹曼常数，因此，要降低红外辐射强度，最主要是降低材料的温度和发射率，热障涂层具有低发射率这将使红外隐身性能起到双倍的作用。因此制备低发射率且隔热性能好的热障涂层至关重要。
[0003]传统制备热障涂层的方法主要有大气等离子喷涂(APS)和电子束
‑
物理气相沉积(EB
‑
PVD)。
[0004]APS主要以半融和熔融粒子为主，沉积层状的涂层，虽然涂层的隔热性能较好，但是结合强度差。EB
‑
PVD主要以气相粒子为主，沉积羽毛柱状的涂层，但涂层热导率较高，隔热性能差，对红外光吸收差。/>[0005]鉴于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有红外低发射率的隐身涂层，其特征在于，所述隐身涂层包括YSZ陶瓷层，所述YSZ陶瓷层具有羽毛柱状晶，且羽毛柱状晶之间的间隙不超过1μm。2.根据权利要求1所述的隐身涂层，其特征在于，所述羽毛柱状晶之间的间隙为圆形孔隙；优选地，所述YSZ陶瓷层的孔隙率小于5％；优选地，所述YSZ陶瓷层的厚度为150
‑
200μm。3.根据权利要求1或2所述的隐身涂层，其特征在于，所述隐身涂层还包括用于设置于基底及所述YSZ陶瓷层之间的NiCoCrAlY粘结层；优选地，所述NiCoCrAlY粘结层的厚度为150
‑
200μm；优选地，所述基底的温度为1200
‑
1600℃；优选地，所述基底的材料为合金材料；更优地，所述合金材料包括Ni、Co、Cr、Mo、Al和Ti中的至少一种。4.如权利要求1
‑
3任一项所述的隐身涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：制备所述YSZ陶瓷层。5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，采用等离子喷涂
‑
物理气相沉积方式制备所述YSZ陶瓷层，制备过程中，喷涂距离为600
‑
800mm；优选地，所述YSZ陶瓷层的制备条件还包括：喷涂气体包括氩气和氦气，所述氩气的流量为30
‑
40L/min，所述氦气的流量为50
‑
70L/min，喷涂功率为100
‑
130Kw。6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，先于基底表面沉积NiCoCrAlY粘...

【专利技术属性】
技术研发人员：张小锋，殷举航，刘敏，邓春明，邓畅光，邓子谦，毛杰，
申请(专利权)人：广东省科学院新材料研究所，
类型：发明
国别省市：