一种反应设备的气体分布器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种反应设备的气体分布器，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部。本实用新型专利技术的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。布器的使用寿命。布器的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种反应设备的气体分布器


[0001]本技术涉及气体分布器，尤其涉及一种反应设备的气体分布器。

技术介绍

[0002]气体分布器向反应设备输送高压气体，会导致气体分布器发生振动，现有技术的气体分布器无法稳定的安装在反应设备内部，振动会影响气体分布器的使用寿命。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种反应设备的气体分布器。
[0004]本技术是通过以下技术方案予以实现：
[0005]一种反应设备的气体分布器，包括：
[0006]气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；
[0007]反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
[0008]底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；
[0009]侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；
[0010]限位块连接限位齿轮，限位齿轮与限位齿条啮合，压环连接压环齿条，压环齿条与传动齿轮啮合，传动齿轮与传动齿条啮合，传动齿条与限位齿条垂直，传动齿条与限位齿条通过传动杆连接，传动杆的两端分别铰接传动齿条和限位齿条。
[0011]根据上述技术方案，优选地，压环齿条与反应设备滑动连接，压环齿条与传动齿条平行，且分别位于传动齿轮的两侧，传动齿轮与反应设备转动连接，传动齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与传动齿条的运动方向垂直。
[0012]根据上述技术方案，优选地，侧壁凹槽内部设有第一限位面和第二限位面。第一限位面限制限位块在侧壁凹槽内部的位置，第二限位面限制限位块的转动角度。
[0013]本技术的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。气体分布器是使通入的气体在整个截面上均匀分布的设备。限位凹槽用于限制气体分布器的位置。气体分布器的底面为圆形平面。气体分布器安装到反应设备的底面上时，气体分布器可以下压压环，推动压环向下进入环形槽。压簧推动压环向上移动，当气体分布器与压环脱离，弹簧会推动压环向上移动复位。限位块从侧壁凹槽中转出，卡入气体分布器的限位凹槽中。当压环下移时，会推动压环齿条移动，压环齿条带动传动齿轮转动，传动齿轮会带动传动齿条反向移动，传动齿条通过传动杆带动限位齿条移动，限位齿条带动限位齿轮转动。
附图说明
[0014]图1示出了本技术的实施例的主视结构示意图。
[0015]图2示出了本技术的实施例的俯视结构示意图。
[0016]图3示出了本技术的实施例的限位齿轮和限位齿条连接结构示意图。
[0017]图4示出了本技术的实施例的传动杆结构示意图。
[0018]图中：
[0019]1.气体分布器，11.凸缘，12.限位凹槽，
[0020]2.反应设备，21.内腔，
[0021]22.底面，221.环形槽，222.压环，223.压簧，224.传动齿轮，225.传动齿条，226.传动杆，
[0022]23.侧面，231.侧壁凹槽，2311.第一限位面，2312.第二限位面，232.限位块，233.限位齿轮，234.限位齿条。
具体实施方式
[0023]为了使本
的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和最佳实施例对本技术作进一步的详细说明。
[0024]如图所示，本技术一种反应设备的气体分布器，包括：
[0025]气体分布器1，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘11，凸缘设有限位凹槽12，气体分布器为圆盘形；
[0026]反应设备2，反应设备的内部设有内腔21，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
[0027]底面22，底面设有环形槽221，环形槽内滑动连接压环222，压环与环形槽之间设有压簧223，压环与气体分布器的底面接触；
[0028]侧面23，侧面设有侧壁凹槽231，侧壁凹槽中设有限位块232，限位块与侧壁凹槽转动连接；
[0029]限位块连接限位齿轮233，限位齿轮与限位齿条234啮合，压环连接压环齿条224，压环齿条与传动齿轮224啮合，传动齿轮与传动齿条225啮合，传动齿条与限位齿条垂直，传动齿条与限位齿条通过传动杆226连接，传动杆的两端分别铰接传动齿条和限位齿条。
[0030]根据上述实施例，优选地，压环齿条与反应设备滑动连接，压环齿条与传动齿条平行，且分别位于传动齿轮的两侧，传动齿轮与反应设备转动连接，传动齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与反应设备滑动连接，限位齿条与传动齿条的运动方向垂直。
[0031]根据上述实施例，优选地，侧壁凹槽内部设有第一限位面2311和第二限位面2312。第一限位面限制限位块在侧壁凹槽内部的位置，第二限位面限制限位块的转动角度。
[0032]本实施例的工作原理为：气体分布器是使通入的气体在整个截面上均匀分布的设备。限位凹槽用于限制气体分布器的位置。气体分布器的底面为圆形平面。气体分布器安装到反应设备的底面上时，气体分布器可以下压压环，推动压环向下进入环形槽。压簧推动压环向上移动，当气体分布器与压环脱离，弹簧会推动压环向上移动复位。限位块从侧壁凹槽中转出，卡入气体分布器的限位凹槽中。当压环下移时，会推动压环齿条移动，压环齿条带动传动齿轮转动，传动齿轮会带动传动齿条反向移动，传动齿条通过传动杆带动限位齿条
移动，限位齿条带动限位齿轮转动。
[0033]本技术的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。
[0034]以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应设备的气体分布器，其特征在于，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；限位块连接限位齿轮，限位齿轮与限位齿条啮合，压环连接压环齿条，压环齿条与传动齿轮啮合，传动齿轮与传动齿条啮合，传动齿条与限位齿条垂直，...

【专利技术属性】
技术研发人员：周宝强，高晓冲，胡长荣，
申请(专利权)人：天津天元伟业化工技术有限公司，
类型：新型
国别省市：