一种反应设备的气体分布器制造技术

本实用新型专利技术涉及一种反应设备的气体分布器，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部。本实用新型专利技术的有益效果是：使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部，延长气体分布器的使用寿命。布器的使用寿命。布器的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种反应设备的气体分布器


[0001]本技术涉及气体分布器，尤其涉及一种反应设备的气体分布器。

技术介绍

[0002]气体分布器向反应设备输送高压气体，会导致气体分布器发生振动，现有技术的气体分布器无法稳定的安装在反应设备内部，振动会影响气体分布器的使用寿命。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种反应设备的气体分布器。
[0004]本技术是通过以下技术方案予以实现：
[0005]一种反应设备的气体分布器，包括：
[0006]气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；
[0007]反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；
[0008]底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；
[0009]侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；
[0010]限位块连接限位齿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应设备的气体分布器，其特征在于，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部；底面，底面设有环形槽，环形槽内滑动连接压环，压环与环形槽之间设有压簧，压环与气体分布器的底面接触；侧面，侧面设有侧壁凹槽，侧壁凹槽中设有限位块，限位块与侧壁凹槽转动连接；限位块连接限位齿轮，限位齿轮与限位齿条啮合，压环连接压环齿条，压环齿条与传动齿轮啮合，传动齿轮与传动齿条啮合，传动齿条与限位齿条垂直，...

【专利技术属性】
技术研发人员：周宝强，高晓冲，胡长荣，
申请(专利权)人：天津天元伟业化工技术有限公司，
类型：新型
国别省市：