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本实用新型涉及一种反应设备的气体分布器，包括：气体分布器，气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘，凸缘设有限位凹槽，气体分布器为圆盘形；反应设备，反应设备的内部设有内腔，内腔具有底面和侧面，气体分布器位于反应设备内部。本实用新型的有益效果是：...
该专利属于天津天元伟业化工技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津天元伟业化工技术有限公司授权不得商用。

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