【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】清洗液、套组、喷墨记录设备和清洗方法
[0001]本专利技术涉及清洗液(清洗液、清洗溶液)、套组、喷墨记录设备和清洗方法。
技术介绍
[0002]提出了多种作为用于喷墨记录设备的喷出喷嘴(喷射喷嘴)和油墨通道的清洗液。例如,专利文件1描述了将从染料墨水中移除染料获得的液体制成清洗液。此外,专利文件2描述了含有多元醇、一元醇和水的维护液;专利文件3描述了含有低级醇、阴离子表面活性剂和水的维护液;专利文件4记载了含有水溶性螯合剂和水的维护液。引用文件专利文件
[0003][专利文件1]日本专利申请公开文本编号昭和58
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71170[专利文件2]日本专利申请公开文本编号昭和62
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169876[专利文件3]日本专利申请公开文本编号昭和62
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169877[专利文件4]日本专利申请公开文本编号平成01
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148557
技术实现思路
技术问题
[0004]另一方面,存在对于吸水性低或不吸水的记录介质(以下某些情况称为“疏水性”记录介 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于清洁喷墨记录设备的清洗液,所述清洗液包含:非离子表面活性剂,所述非离子表面活性剂在20℃时在水中的溶解度小于0.2质量%;第一水溶性有机溶剂,所述第一水溶性有机溶剂的溶解度参数不小于13;第二水溶性有机溶剂,所述第二水溶性有机溶剂的溶解度参数小于12;和水,其中,所述清洗液满足以下条件(1)至(4):条件(1):X≥0.1条件(2):A
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B≥0条件(3):B/X≥15条件(4):10≤A+B≤60在条件(1)至(4)中,X:非离子表面活性剂在清洗液总量中的含量(质量%),A:第一水溶性有机溶剂在清洗液总量中的含量(质量%),和B:第二水溶性有机溶剂在清洗液总量中的含量(质量%)。2.根据权利要求1所述的清洗液,其中,所述第一水溶性有机溶剂包括选自甘油、二甘醇和丙二醇中的至少一种。3.根据权利要求1或2所述的清洗液,其中,所述第二水溶性有机溶剂包括选自三丙二醇、1,2
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己二醇、三甘醇正丁醚和三丙二醇正丁醚中的至少一种。4.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗液,其中,所述清洗液可与包含水不溶性颗粒和水的用于喷墨记录的水性油墨一起使用。5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洗液,其中,所述清洗液可用于清洗选自以下的至少一种:喷墨记录设备中的喷墨头、油墨通道和擦拭器,所述擦拭器被配置为与所述喷墨头的喷嘴形成面接触,并从所述喷嘴形成面擦去油墨。6.一种套组,包含:权利要求1至5中任一项所述的清洗液;和...
【专利技术属性】
技术研发人员:永野太郎,栗木宽文,东山俊一,
申请(专利权)人:兄弟工业株式会社,
类型:发明
国别省市:
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