活性雾离子发生装置及其控制系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种活性雾离子发生装置及其控制系统，涉及空气杀菌消毒技术领域，本发明专利技术之装置包括雾化组件、储水组件以及出雾组件，雾化组件包括基板、设置在基板上的电路板、设置在电路板上部的压电陶瓷片和控制模块，储水组件包括设置在基板上方的储水槽，设置在储水槽侧壁的进水管以及设置在储水槽内部的定形海绵，出雾组件包括设置在储水槽上部的下电极板，位于下电极板上方的上电极板，下电极板上部开设有圆形储水凹槽，且储水凹槽底部设有水孔，相邻储水凹槽之间设有电解锥，上电极板上贯通设有细管，细管端贯通连接有进雾漏斗，进雾漏斗位于电解锥正上方，进雾漏斗与电解锥一一对应，本发明专利技术有着较好的供水效果以及活性雾离子喷射速率更高。雾离子喷射速率更高。雾离子喷射速率更高。

【技术实现步骤摘要】
活性雾离子发生装置及其控制系统


[0001]本专利技术涉及空气杀菌消毒
，特别涉及活性雾离子发生装置及其控制系统。

技术介绍

[0002]雾化指的是将液体转化成高速气流，使液体分散成微小液滴的操作，雾化可以分为机械雾化和介质雾化两大类，机械雾化是借助于液体本身的压力，在离开喷嘴出口后发生雾化，因此又称为压力雾化，在液体喷出喷口之前，混入部分其他介质，改变液体的流动性能和表面形状，起到强化雾化过程的作用，即为介质雾化，目前的介质雾化主要采用气体，有时也可以在喷嘴出口之后再次混入其他介质，可以进一步改善雾化效果，但是较为常用的雾化技术为超声波机械雾化。
[0003]现有的超声波机械雾化中，超声波雾化技术因为整体结构简洁，雾滴均匀效果好而普遍的应用在各个领域，超声波雾化技术的核心是超声波雾化片，现有的超声雾化片是由压电陶瓷晶体（PZT4）和不锈钢贴片（SUS304） 黏合构成，在超声波雾化原理中，超声波雾化片产生谐振频率，通过谐振频率的超声波对液体进行雾化。
[0004]现有的活性雾离子发生装置采用压电陶瓷晶体和不锈钢贴片进行液本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种活性雾离子发生装置，包括装置本体，其特征在于：所述装置本体包括雾化组件、储水组件以及出雾组件；所述雾化组件包括基板（1）、设置在基板（1）上的电路板（2）、设置在电路板（2）上部的压电陶瓷片（3）和控制模块（4）；所述储水组件包括设置在基板（1）上方的储水槽（5），设置在储水槽（5）侧壁的进水管（6）以及设置在储水槽（5）内部的定形海绵（7）；所述出雾组件包括设置在储水槽（5）上部的下电极板（8），位于下电极板（8）上方的上电极板（9），所述下电极板（8）与所述上电极板（9）相互对应，所述下电极板（8）上部开设有圆形储水凹槽（10），若干储水凹槽（10）阵列分布，且每个所述储水凹槽（10）底部设有水孔（11），相邻所述储水凹槽（10）之间设有电解锥（12），所述上电极板（9）上贯通设有细管（13），若干所述细管（13）成阵列分布，每个所述细管（13）端贯通连接有进雾漏斗（14），所述进雾漏斗（14）上端直径与所述细管（13）直径相同，所述进雾漏斗（14）下端直径大于其上端直径，且每两个进雾漏斗（14）侧壁紧密贴合，每个所述进雾漏斗（14）位于所述电解锥（12）正上方，阵列分布的进雾漏斗（14）与阵列分布的电解锥（12）一一对应。2.根据权利要求1所述的活性雾离子发生装置，其特征在于：所述出雾组件还包括套设在上电极板（9）以及下电极板（8）外壁的隔离罩（30），所述隔离罩（30）侧壁设有线管（31），所述线管（31）下端与基板（1）连接，所述线管（31）上端穿过隔离罩（30）与上电极板（9）侧壁连接，所述线管（31）中部凸管穿过隔离罩（30）与所述下电极板（8）侧壁连接。3.根据权利要求2所述的活性雾离子发生装置，其特征在于：所述进水管（6）一端设有若干出水头（15），所述进水管（6）另一端上设有电磁阀（16），若干出水头（15）分为两组，两组所述若干出水头（15）分别关于所述储水槽（5）中轴线对称分布，每个所述出水头（15）一端与所述储水槽（5）贯通连接。4.根据权利要求3所述的活性雾离子发生装置，其特征在于：所述基板（1）侧壁设有微型泵（17），所述微型泵（17）设有进水口以及出水口，所述微型泵（17）出水口与所述进水管（6）下端连接，所述微型泵（17）进水口连接有连接管（18），所述连接管（18）下端设有密封圈（19）以及螺纹管（20）。5.根据权利要求4所述的活性雾离子发生装置，其特征在于：所述装置本体还包括喷口组件，所述喷口组...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖志国，刘鹤宁，
申请(专利权)人：北京福乐云数据科技有限公司，
类型：发明
国别省市：