电源设备和利用电源设备的沉积方法技术

一种电源设备包括从外部电源提供要被提供给静电吸盘的电功率的电源机构。该电源机构包括：固定于支柱的末端部分上并能够与支柱一同旋转的第一导电环形构件；固定于壳体上并与第一导电环形构件形成表面接触的第二导电环形构件；以及通过第二导电环形构件和第一导电环形构件将所提供的第一电压提供给静电吸盘的电极的第一电源构件。

【技术实现步骤摘要】

在真空处理装置诸如将各种薄膜和类似物沉积在基片上 的沉积装置或对沉积在基片上的薄膜和类似物进行刻蚀的千法刻蚀 装置中，有必要旋转基片并改善温度控制，以将基片的温度控制在理 想的温度下，从而提高在基片表面上的处理的一致性。在许多情况下， 真空处理装置通常将用于基片温度控制的加热装置或冷却装置结合 到基片座中。为了提高基片温度控制的精确度，重要的是，提高可旋 转的基片座与安装在并固定于该基片座上的基片之间的粘附力，以及 通过在基片座和基片之间提供气体而将基片准确地设定在理想的温 度下。作为用于固定安装于基片座上的基片的装置，利用静电吸盘的 静电吸引是有效的。然而，将静电吸盘附着到旋转基片座的基片安装 表面上，要求电源机构能够稳定地供电(DC电压和除DC电压以外的 施加到基片上的偏压，以下称为DC电压和类似物)，以便操作静电吸 盘。在真空室11中，基片座17被安装在真空室11的底面lla 的上方。可旋转的支柱(以下称为旋转支柱)18与基片座17的底表 面相连。旋转支柱18通过真空密封机构19诸如磁流体密封被可旋转 地附着到形成于真空室11的底面lla中的孔。这在真空室11中保持 了密封。而且，固定于旋转支柱18的基片座17可以通过旋转机构(随 后将描述的旋转驱动机构20)使安装在基片座17上的基片21旋转。通过具有绝缘特性的固定构件14A，将靶材14固定在真 空室11的最上部(ceiling)。真空室11自身是由导电构件制成的， 并且通常被保持在地电势，如同它接地一样。旋转接头34包括(例如)固定于旋转支柱18的底表面18a并绕中心轴43同心地布置的三个导电环形构件44A、44B和44C， 以及(例如)固定于壳体41的基底41b并绕中心轴43同心地布置的 三个导电环形构件45A、 45B和45C。旋转侧上的三个导电环形构件 44A、 44B和44C与固定侧上的三个导电环形构件45A、 45B和45C 分别具有相同的直径，并在环形区域内以彼此表面相接触的方式布 置。当旋转支柱18旋转时，导电环形构件44A、 44B和44C和导电 环形构件45A、 45B和45C分别具有表面接触滑动关系。00441图2B是用于解释旋转侧上的导电环形构件44C与固定侧 上的导电环形构件45C之间的表面接触滑动关系的示例图。其剖面面 积小于导电环形构件44C和45C的剖面面积的突起45D形成于固定 侧上的导电环形构件45C之上，并且与旋转侧上的导电环形构件44C 接触。可以通过将突起45D和导电环形构件44C之间的接触表面浸 入作为制冷剂的纯水中，可以改善其间的润滑特性。制冷制供给机构33将制冷剂提供给用箭头46表示的基 底41b内的沟道47。所提供的制冷剂流入形成于旋转接头34内的沟 道147a内。然后，所提供的制冷剂沿圆周方向流入与沟道147a相连 通的沟道147b内。通过形成于基片座17和旋转支柱18，内部的电源棒27a, 将预定的笫一DC电压提供(施加)给电极26a(第一电极)。通过形成于 (例如)基片座17的轴和旋转支柱18，附近的电源棒27b，将预定的 第二 DC电压提供(施加)给电极26b(第二电极)。两个电源棒2<7a和27b 延伸到图3中所示的旋转支柱18，的下端，并分别被绝缘构件2Sa和 28b覆盖。[0060用于将两个不同的偏压施加到静电吸盘23，的两个电极 26a和26b的电源机构30，被安装在旋转支柱18，的下端部分内(图3)。 电源机构30，与两个DC电源31和32以及制冷剂供给机构33相连。 在电源机构30，内部，旋转接头34，形成于旋转支柱18，的底表面 的下方(图3)。旋转接头34，包括旋转接头34A和34B(图4)。而且， 滑动环(未显示)保持电源棒27b的最下端。[00611在本实施例中，旋转支柱18，包括旋转支柱18A和18B(图 4)。两个旋转支柱18A和18B被集成起来，并作为一个整体形成旋转支柱18，。两个旋转支柱18A和18B可以绕中心轴43旋转。上旋转 支柱18A是与电源棒27a对应的部分，并与电源棒27a电连接。下旋 转支柱18B是与电源棒27b对应的部分，并与电源棒27b电连接。在 本实施例中，电源棒27b被从中心轴43偏离。注意，除了电源棒27a 和27b外，用于将制冷剂提供给冷却机构25的沟道和用于使制冷剂 从冷却机构25流出的沟道形成于旋转支柱18，内部，与第一实施例一 样。[0062在第二实施例的配置中，电源机构30A与旋转支柱18A 对应，电源机构30B与下旋转支柱18B对应。这两个电源机构30A 和30B中的每一个与第一实施例中所解释的电源机构30等效，并且 实际上具有与电源机构30相同的结构。电源机构30A包括壳体41A、 旋转接头34A、具有密封特性和绝缘特性的轴承42A以及用于提供制 冷剂46的沟道47a。电源机构30B包括壳体41B、旋转接头34B、具 有密封特性和绝缘特性的轴承42B以及用于提供制冷剂46的沟道 47b。由制冷剂供给机构33提供给沟道47a和47b的制冷剂流入沟道 47c并被提供给冷却机构25。在冷却机构25内的制冷剂的循环与第 一实施例相同。从冷却才几构25流出的制冷剂通过流出沟道48a和48b 从沟道48c流出该i殳备。0063实际上，旋转接头34A和34B均具有与第一实施例中所 解释的旋转接头34相同的结构。[0064电源机构30A的壳体41A与DC电源31相连，并且电源 机构30B的壳体41B与DC电源32相连。而且，具有绝缘特性的环 形构件51被置于电源机构30A的壳体41A和电源机构30B的壳体41B 之间。[0065图4主要显示了在旋转接头34A的旋转侧上的导电环形 构件44A、 44B和44C(第一导电环形构件)的布置、在旋转接头34A 的固定侧上的导电环形构件45A、 45B和45C(第二导电环形构件)的 布置、在沟道47a和47c内的制冷剂的流动(箭头46)、在沟道48c和 48a内的制冷剂的流动(箭头49)以及旋转支柱18A的中心部分的剖面结构。旋转侧上的导电环形构件44A、 44B和44C与固定侧上的导电 环形构件45A、 45B和45C之间的表面接触滑动关系与参照图2B所 解释的布置的那些关系相同。[0066在旋转支柱18B的末端部分中，布置与导电环形构件 44A、 44B和44C同心的导电环形构件54A、 54B和54C(第三导电 环形构件)。导电环形构件54A、 54B和54C在旋转侧上起到导电环 形构件的作用。[0067此外，在壳体42B的基底中，布置与导电环形构件45A、 45B和45C同心的导电环形构件55A、 55B和55C(第四导电环形构 件)。导电环形构件55A、 55B和55C在固定侧上起到导电环形构件 的作用。[0068在第二实施例的结构中，电源设备30A通过用箭头52表 示的旋转接头34A将DC电压从DC电源31提供(施加)给电源棒27a。 而且，电源设备30B通过用箭头53表示旋转接头34B将DC电压从 DC电源32提供(施加)给电源棒27b。这使得能够通过壳体41A的基 底、固定侧上的导电环形构件55A、 5B和55C、旋转侧上的导电环形 构件54A、 54B本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电源设备，包括：具有静电吸盘的基片座，该静电吸盘产生用于保持基片的吸引力；支柱，其可旋转地支持所述基片座；旋转驱动机构，其通过所述支柱使所述基片座旋转；壳体，其支持所述支柱；以及电源机构，其从外部 电源提供要被提供给所述静电吸盘的电功率，其中，所述电源机构包括：固定于所述支柱末端部分上并适合与所述支柱一同旋转的第一导电环形构件；固定于所述壳体上并与所述第一导电环形构件形成表面接触的第二导电环形构件；以及 第一电源构件，其通过所述第二环形构件和所述第一环形构件，将所提供的第一电压提供给所述静电吸盘的电极。

【技术特征摘要】
JP 2006-11-30 2006-322747;JP 2007-10-23 2007-275631.一种电源设备，包括具有静电吸盘的基片座，该静电吸盘产生用于保持基片的吸引力；支柱，其可旋转地支持所述基片座；旋转驱动机构，其通过所述支柱使所述基片座旋转；壳体，其支持所述支柱；以及电源机构，其从外部电源提供要被提供给所述静电吸盘的电功率，其中，所述电源机构包括固定于所述支柱末端部分上并适合与所述支柱一同旋转的第一导电环形构件；固定于所述壳体上并与所述第一导电环形构件形成表面接触的第二导电环形构件；以及第一电源构件，其通过所述第二环形构件和所述第一环形构件，将所提供的第一电压提供给所述静电吸盘的电极。2. 根据权利要求1所述的设备，还包括 加热机构，其通过使加热构件加热，加热所述基片座； 冷却机构，其通过所提供的制冷剂的循环来冷却所述基片座； 第一沟道，其通过所述壳体、所述第二导电环形构件、所述第一导电环形构件以及所述支柱，将所述制冷剂提供给所述冷却机构；以 及第二沟道，其通过所述支柱、所述第一导电环形构件、所述第二 导电环形构件以及所述壳体，使所述制冷剂从所述冷却机构流出。3. 根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：三浦泰嗣，关谷一成，
申请(专利权)人：佳能安内华股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]