一种具有多风格自适配的篆刻教学系统技术方案

本发明专利技术提供了应用于篆刻教学领域的一种具有多风格自适配的篆刻教学系统，该系统通过设置篆刻模块可进行自动冲击篆刻，节省人力，通过设置拍摄模块，可对篆刻程度进行实时监测和反馈，从而迅速了解篆刻效果，同时信息处理单元可对拍摄图像进行合成处理，从而了解篆刻效果是否符合预期效果，通过设置照射定位单元可对篆刻刀的落点提供视觉辅助进行定位，提升定位教学的便利性，同时通过信息处理单元对落地分析计算可提升篆刻的连续性和精准性，通过设置吹风单元可将篆刻面上的碎料进行迅速清理，保持篆刻面的整洁度方便进行观察，而且可通过控制风力将碎料吹落至回收盒中进行统一回收，避免污染环境。避免污染环境。避免污染环境。

【技术实现步骤摘要】
一种具有多风格自适配的篆刻教学系统


[0001]本专利技术涉及篆刻教学领域，尤其涉及一种具有多风格自适配的篆刻教学系统。

技术介绍

[0002]篆刻艺术是书法(主要是篆书)和镌刻(包括凿、铸)结合，来制作印章的艺术，是汉字特有的艺术形式，篆刻既是实用物，又是欣赏及收藏的艺术品。篆刻印章艺术从开始发展至今已2000多年，但主要都是作为姓名、标识印使用,同时由于篆刻原有的用途及可用的石材越来越少的缘故，导致篆刻作品一般面积较小，少有大型的作品展示，所以一直以来都是依附于书画上的附属艺术品，主要用于确认书画的作者，或者作为装饰书画的小件，而且由于篆刻艺术需要进行反复地练习才能逐渐把握篆刻程度，制作出成品，所以对于学习人员来说需要有专业的教师进行观看和培训篆刻手法，但随着激光印章的普及，手工篆刻这种传统手艺的传承程度下降，导致人们也难以找到适合的老师进行教导，所以进一步阻碍了篆刻艺术的传承与发展，所以如今需要结合先进技术将这个传统艺术进行融合和发展。
[0003]经过本团队的海量检索，了解到现有的篆刻应用和教学方式主要有如公开号为JP4228372B2、JP2007038457A和CN110176162B，其中以公开号为CN110176162B所公开的可穿戴系统及应用于可穿戴系统的教学方法，该系统的人工智能眼镜使用“云”的个性化定制服务的功能实现，为使用者通过“云”的书画家、篆刻家团队的教学指导，可解决印书、画、印学习、提升过程的复杂性，及现实个体教学示范者自身可能存在的相关知识、技能的某些局限性问题，这种采用云方式的教学方法虽然提供了教师指导的便利性，但不能在篆刻过程中持续发现问题对学习的提高也存在妨碍，而且现在的篆刻在篆刻面除石粉时，通常使用者会用吹气的方式处理，而这样的方式往往会影响篆刻者的呼吸环境。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于，针对现有的篆刻教学装置所存在的不足，提出了一种具有多风格自适配的篆刻教学系统。
[0005]为了克服现有技术的不足，本专利技术采用如下技术方案：
[0006]一种具有多风格自适配的篆刻教学系统，包括：机架；
[0007]固定模块，用于将印材进行夹持固定；
[0008]拍摄模块，用于拍摄印材的篆刻情况；
[0009]篆刻模块，用于在印材上进行篆刻；
[0010]教学模块，用于显示印材的篆刻情况，同时进行刀头落点指示；
[0011]所述固定模块包括固定架和夹持单元，所述夹持单元设置在所述固定架上，且被构造成将印材向夹持单元按压后夹持单元将印材进行夹持固定；
[0012]所述夹持单元包括安装座、压杆机构和夹爪机构，所述压杆机构包括压块、活动杆和连接块，所述安装座设置在机架上，所述活动杆滑动设置在安装座上，所述压块设置在活动杆的顶部，所述连接座设置在活动杆上，所述夹爪机构包括从动杆、第一连杆、第二连杆
和夹爪，所述从动杆的一端与所述连接座转动连接，另一端与所述第一连杆的中部转动连接，所述第一连杆的两端分别与固定架和夹爪转动连接，且被构造成压杆机构被下压时，通过从动杆带动第一连杆和第二连杆进行转动，从而带动夹爪向固定架中心靠近，所述夹爪机构设置有四组，且分别环绕设置在固定架和压杆机构的四周；
[0013]进一步的，所述篆刻模块包括刀架、刀具、动力单元、复位单元、操控单元，所述刀具滑动设置在刀架上，所述动力单元被构造成推动刀具进行向前撞击，所述复位单元被构造成使刀具恢复到初始状态，所述操控单元用于控制动力单元进行启动或停止。
[0014]进一步的，所述刀具依次包括受力端、延伸杆部和刀刃部。
[0015]进一步的，所述动力单元包括动力机构和传动机构，所述动力机构包括第一驱动电机、第一传动齿轮、第二传动齿轮，所述传动机构包括偏心轴、连杆、活塞、撞块，所述第一驱动电机固定设置在刀架上，所述第一传动齿轮与第一驱动电机传动连接，所述第二传动齿轮转动设置在刀架上且与第一转动啮合连接，所述偏心轴设置在第二传动齿轮上，所述连杆的一端与所述偏心轴转动连接，另一端与活塞转动连接，所述活塞和撞块均滑动设置在刀架的导槽内，所述刀具的受力端也滑动设置在所述导槽内，且撞块设置在活塞与刀具之间，且被构造成所述活塞运动撞击撞块时，撞块沿导槽滑动然后冲击刀具受力端。
[0016]进一步的，所述复位单元设置为弹簧，所述弹簧套设在刀具上且被构造成当刀具向弹簧的一侧冲击后向刀具提供动力进行复位至初始位置。
[0017]进一步的，所述操控单元包括按压套和压力传感器，所述按压套套设在所述刀架外侧，所述压力传感器设置在刀架的外侧且设置在按压套的下方，所述按压套设置成弹性结构，且被构造成当将按压套进行按压时压力传感器识别到按压力。
[0018]进一步的，所述拍摄模块包括第一安装架、摄像器，所述第一安装架设置在机架上，所述摄像器设置在第一安装架上，且摄像器被构造成向篆刻模块进行拍摄。
[0019]进一步的，所述教学模块包括照射定位单元、显示单元和信息处理单元，所述照射定位单元被构造成对刀具的落点进行定位指示，所述显示单元用于展示拍摄模块收集到的图像信息，所述信息处理单元设置在显示单元内，且被构造成接收篆刻图样模版信息和对图像信息进行处理。
[0020]进一步的，所述照射定位单元包括第二安装架、移动机构和镭射灯，所述第二安装架设置在机架上，所述移动机构设置在第二安装架上，且所述移动机构用于带动镭射灯做水平平移移动，所述镭射灯固定设置在移动机构上，所述镭射灯被构造成朝印材的篆刻面进行定点照射。
[0021]所述显示单元包括第三安装架和显示屏，所述第三安装架设置在机架上，所述显示屏设置在第三安装架上。
[0022]本专利技术所取得的有益效果是：
[0023]通过设置篆刻模块可进行自动冲击篆刻，节省人力，通过设置拍摄模块，可对篆刻程度进行实时监测和反馈，从而迅速了解篆刻效果，同时信息处理单元可对拍摄图像进行合成处理，从而了解篆刻效果是否符合预期效果，通过设置照射定位单元可对篆刻刀的落点提供视觉辅助进行定位，提升定位教学的便利性，同时通过信息处理单元对落地分析计算可提升篆刻的连续性和精准性，通过设置吹风单元可将篆刻面上的碎料进行迅速清理，保持篆刻面的整洁度方便进行观察，而且可通过控制风力将碎料吹落至回收盒中进行统一
回收，避免污染环境。
附图说明
[0024]从以下结合附图的描述可以进一步理解本专利技术。图中的部件不一定按比例绘制，而是将重点放在示出实施例的原理上。在不同的视图中，相同的附图标记指定对应的部分。
[0025]图1为本专利技术的篆刻模块的结构示意图。
[0026]图2为本专利技术的篆刻模块的内部结构示意图。
[0027]图3为本专利技术的整体的结构示意图。
[0028]图4为本专利技术的固定模块的结构示意图。
[0029]图5为本专利技术的照射定位单元的结构示意图。
[0030]图6为显示单元显示的合成图样的效果图。。
[0031]图中：机架本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有多风格自适配的篆刻教学系统，其特征在于，包括：机架；固定模块，用于将印材进行夹持固定；拍摄模块，用于拍摄印材的篆刻情况；篆刻模块，用于在印材上进行篆刻；教学模块，用于显示印材的篆刻情况，同时进行刀头落点指示；所述固定模块包括固定架和夹持单元，所述夹持单元设置在所述固定架上，且被构造成将印材向夹持单元按压后夹持单元将印材进行夹持固定；所述夹持单元包括安装座、压杆机构和夹爪机构，所述压杆机构包括压块、活动杆和连接块，所述安装座设置在机架上，所述活动杆滑动设置在安装座上，所述压块设置在活动杆的顶部，所述连接块设置在活动杆上，所述夹爪机构包括从动杆、第一连杆、第二连杆和夹爪，所述从动杆的一端与所述连接座转动连接，另一端与所述第一连杆的中部转动连接，所述第一连杆的两端分别与固定架和夹爪转动连接，且被构造成压杆机构被下压时，通过从动杆带动第一连杆和第二连杆进行转动，从而带动夹爪向固定架中心靠近，所述夹爪机构设置有四组，且分别环绕设置在固定架和压杆机构的四周；所述篆刻模块包括刀架、刀具、动力单元、复位单元、操控单元，所述刀具滑动设置在刀架上，所述动力单元被构造成推动刀具进行向前撞击，所述复位单元被构造成使刀具恢复到初始状态，所述操控单元用于控制动力单元进行启动或停止。2.如权利要求1所述的一种具有多风格自适配的篆刻教学系统，其特征在于，所述刀具依次包括受力端、延伸杆部和刀刃部。3.如权利要求2所述的一种具有多风格自适配的篆刻教学系统，其特征在于，所述动力单元包括动力机构和传动机构，所述动力机构包括第一驱动电机、第一传动齿轮、第二传动齿轮，所述传动机构包括偏心轴、连杆、活塞、撞块，所述第一驱动电机固定设置在刀架上，所述第一传动齿轮与第一驱动电机传动连接，所述第二传动齿轮转动设置在刀架上且与第一转动啮合连接，所述偏心轴设置在第二传动齿轮上，所述连杆的一端与所述偏心轴转动连接，另一端与活塞转动连接，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺文彬，
申请(专利权)人：湖南人文科技学院，
类型：发明
国别省市：